Ternary Ti-X-N coatings, where X = Al, Si, Cr, O, etc., have been widely used for machining tools and cutting tools such as inserts, end-mills, and etc. Ti-Al-N-O coatings were deposited onto silicon wafer and WC-Co substrates by a cathodic arc evaporation (CAE) technique at various negative substrate bias voltages. In this study, the influence of substrate bias voltages during deposition on the microstructure and mechanical properties of Ti-Al-N-O coatings were systematically investigated to optimize the CAE deposition condition. Based on results from various analyses, the Ti-Al-N-O coatings prepared at substrate bias voltage of -80 V in the process exhibited excellent mechanical properties with a higher compressive residual stress. The Ti-Al-N-O (-80 V) coating exhibited the highest hardness around 30 GPa and elastic modulus around 303 GPa. The improvement of mechanical properties with optimized bias voltage of -80 V can be explained with the diminution of macroparticles, film densification and residual stress induced by ion bombardment effect. However, the increasing bias voltage above -80 V caused reduction in film deposition rate in the Ti-Al-N-O coatings due to re-sputtering and ion bombardment phenomenon.
We report our development of the fabrication process of sub-micron scale $Al-AlO_x-Al$ tunnel junction by using electron-beam lithography and double-angle shadow evaporation technique. We used double-layer resist to construct a suspended bridge structure, and double-angle electron-beam evaporation to form a sub-micron scale overlapped junction. We adopted an e-beam insensitive resist as a bottom sacrificing layer. Tunnel barrier was formed by oxidation of the bottom aluminum layer between the bottom and top electrode deposition, which was done in a separate load-lock chamber. The junction resistance is designed and controlled to be 50 $\Omega$ to match the impedance of the transmission line. The junctions will be used in the broadband shot noise thermometry experiment, which will serve as a link between the electrical unit and the thermodynamic unit.
Cr-Al-N coatings were deposited onto WC-Co substrates using a cathodic arc evaporation (CAE) system. CAE technique is recognized to be a very useful process for hard coatings because it has many advantages such as high packing density and good adhesion to metallic substrates. In this study, the influence of deposition temperature as a key process parameter on film growth behavior and mechanical properties of Cr-Al-N coatings were systematically investigated and correlated with microstructural changes. From various analyses, the Cr-Al-N coatings prepared at deposition temperature of 450℃ in the CAE process showed excellent mechanical properties with higher deposition rate. The Cr-Al-N coatings with deposition temperature around 450℃ exhibited the highest hardness of about 35 GPa and elastic modulus of 442 GPa. The resistance to elastic strain to failure (H/E ratio) and the index of plastic deformation (H3/E2 ratio) were also good values of 0.079 and 0.221 GPa, respectively, at the deposition temperature of 450℃. Based on the XRD, SEM and TEM analyses, the Cr-Al-N coatings exhibited a dense columnar structure with f.c.c. (Cr,Al)N multi-oriented phases in which crystallites showed irregular shapes (50~100nm in size) with many edge dislocations and lattice mismatches.
Pulsed wire evaporation (PWE) method is known as the promising production-technique for nanopowders. In this study, we developed and modified the previous single wire explosion equipment to the simultaneous two-wire explosion one for the fabrication of alloy or mixture of nano metallic powder. First of all, both the theoretical and empirical background of pulsed wire explosion of single wire were summarized, and compared with our experimental results for Cu and Al single wlre explosion. After then, the simultaneous wire evaporation equipment was designed, constructed, and tested. The current and voltage behavior were well matched between the calculated ones from the circuit equations, and the experimental results from simultaneous explosion of Cu and Al wire.
TiB2-BN-AlN composite was fabricated with the addition of 0~12 wt% WC by HP-sintering. Their sinterability. microstructure mechanical and electrical properties were studied as a function of the WC content. The addition of WC up to 12 wt% increased the flexural strength and decreased electrical resistivity as compared with those of the TiB2-BN-AlN composites. The electrical resistivity of TiB2-BN-AlN composite with 4.3 wt% WC was 640$\mu$$\Omega$-cm. It was found that the TiB2-BN-AlN composites with WC addition more than 4wt% was suitable for the application to the Al evaporation boat.
CNT fiber has been in the spotlight as a conductor, but the conductivity of CNT fibers do not match that of CNT. This study reveals that the conductivity of CNT fiber can be improved by depositing Al/Cu through vacuum evaporation. Cu is commonly used for deposition on CNT fibers. But low bonding strength of the interface between CNT and Cu could be a disadvantage. To overcome this, Al was deposited on the CNT fiber for forming aluminum carbide islands to increase the interfacial bonding strength. The conductivity characteristics were improved as the deposition time increased. The resistance was measured as a function of temperature, demonstrating that the temperature coefficient of resistance (TCR) is improved to be 241 ppm/℃ in comparison with that of as-received CNT fibers at -1,251 ppm/℃, when the CNT fibers are deposited with Al and Cu, respectively, for 90s and for 540s.
퍼플골드는 78wt%Au-22wt%Al로 이루어진 합금으로 화학식은 $AuAl_2$로 표현된다. 최근 화이트골드, 핑크골드와 더불어 특유의 적자색 (보라색)이 나는 유색골드의 하나로 장신구나 의장용 소재로 활용되고 있다. 퍼플골드는 Au와 Al의 중간상으로 연성과 주조성이 나쁜 특성이 있어 단조와 주조작업을 통하여 원하는 형상의 퍼플골드를 얻기 힘든 단점이 있다. 따라서 절단과 연마공정만으로 최종제품을 제작하거나 박막으로 증착하여 의장용 소재로 활용하는 것이 가능하다. 본 연구는 순수한 Au와 Al을 소오스로 각각 200nm$SiO_2$/Si기판에 78:22의 무게비로 증착시킨 후 열처리를 시행한 경우와, $AuAl_2$를 용융을 통하여 벌크형으로 얻은 후 이를 소오스로 사용하여 유리기판에 기판온도를 상온으로 유지하면서 진공증착을 통하여 표면처리를 한 경우로 나누어 실험을 진행하였다. 완성된 시편은 육안검사, 미세구조분석, 면저항분석, 색차분석, XRD 분석을 통하여 증착된 퍼플골드의 색과 두께를 위주로 한 물성을 측정하였다. 12.5nmAu/40nmAl/200nm$SiO_2$/Si 구조로 제작하고 열처리 한 경우 과도한 표면응집현상이 일어나면서 퍼플골드가 형성되지 않았다. $AuAl_2$ 소오스로부터 직접 열증착한 경우는 벌크상태와 동일한 적자색을 보였으며 퍼플골드의 의장용으로서 심미적 기능이 가능한 것으로 판단되었다.
The fabrication of nanopore membrane by deposition of Al2O3 film using electron-beam evaporation, which is fast, cost-effective, and negligible dependency on substance material, is investigated for potential applications in water purification and sensors. The decreased nanopore diameter owing to increased wall thickness is observed when Al2O3 film is deposited on anodic aluminum oxide membrane at higher deposition rate, although the evaporation process is generally known to induce a directional film deposition leading to the negligible change of pore diameter and wall thickness. This behavior can be attributed to the collision of evaporated Al2O3 particles by the decreased mean free path at higher deposition rate condition, resulting in the accumulation of Al2O3 materials on both the surface and the edge of the wall. The reduction of nanopore diameter by Al2O3 film deposition can be applied to the nanopore membrane fabrication with sub-100 nm pore diameter.
ZnO micro/nanocrystals at large scale were synthesized through the thermal evaporation of Al-Zn mixtures under air atmosphere. The effect of synthetic temperature and time on the morphology of the micro/nanocrystals was examined. It was found that the temperature and time affected the morphology of the ZnO crystals. At temperatures below $900^{\circ}C$, no crystals were synthesized. At a temperature of $1000^{\circ}C$, ZnO crystals with a rod shape were synthesized. With an increase in temperature from $1000^{\circ}C$ to $1100^{\circ}C$, the morphology of the crystals changed from rod shape to wire and granular shapes. As the time increased from 2 h to 3 h at $1000^{\circ}C$, tetrapod-shaped ZnO crystals started to form. XRD patterns showed that the ZnO crystals had a hexagonal wurtzite structure. EDX analysis revealed that the ZnO crystals had high purity. It is believed that the ZnO nanowires were grown via a vapor-solid mechanism because no catalyst particles were observed at the tips of the micro/nanocrystals in the SEM images.
Al film(135.5 nm thick) with Pd film(39.6 nm thick) was made by thermal evaporation method. Electrical resistance change by hydrogen absorption and desorption was measured with four point measurement method. Even though Al film(135.5 nm thick) did not absorb any hydrogen at room temperature, Al/Pd film absorbed hydrogen at upto 640 torr pressure. Hydrogen absorption kinetics was monitored by measuring resistance change of the sample in the temperature range from $25^{\circ}C$ to $40^{\circ}C$. Absorption activation energy of Al/Pd film was about 10.7 and 17.7 kcal/mol H for 1st stage and last stage respectively at 1 torr hydrogen pressure. This activation values are bigger than that of Pd film, but are much less than that of Al film. This result indicates there is possibility that Al can be storage material for hydrogen by using Pd film evaporation on it.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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