• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2007.08a
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• pp.8-11
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• 2007

The new technologies in mobile display developed in SEC are briefly reviewed. For a differentiation, SEC's LTPS line is based on SLS (Sequential Lateral Solidification) technology. In this paper, the characteristics of SEC's SLS in recent and future mobile displays were discussed. The microstructure produced by SLS crystallization is dependent on SLS process conditions such as mask design, laser energy density, and pulse duration time. The microstructure and TFT (Thin Film Transistor) performance are closely related. For an optimization of TFT performance, SLS process condition should be adjusted. Other fabrication processes except crystallization such as blocking layer, gate insulator deposition and cleaning also affect TFT performance. Optimized process condition and tailoring mask design can make it possible to produce high quality AMOLED devices. The TFT non-uniformity caused by laser energy density fluctuation could be successfully diminished by mixing technology.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2007.08a
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• pp.87-90
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• 2007

VIATRON TECHNOLOGIES has developed an $\underline{A}$tmospheric $\underline{M}$etal $\underline{D}$oping (AMD) system which uniformly dopes metal species onto a substrate. The AMD system injects metal-organic vapor over substrate using an injection head with a scan motion. One of important application of this system is a metalinduced crystallization of amorphous Si for manufacturing AMOLED poly-Si panels. The AMD system with a use of Ni vapor source produces doping of trace amount of Ni onto amorphous Si, enabling uniform MIC crystallization. Also, the operation without vacuum condition offers advantages such as easy maintenance, low cost production, and large glass processes.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 2007.07a
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• pp.246-247
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• 2007

능동 구동형 유기 발광 소자 디스플레이용 수소화된 비정질 실리콘 박막 트랜지스터의 전류 안정성을 개선하기 위해, 음전압 인가방식을 채택한 새로운 화소 회로를 제안하였다. 제안한 회로는 5개의 트랜지스터를 사용하였고, 직전에 인가했던 $V_{GS}$에 따라 음의 전압을 인가하여 양의 전압에 의한 구동 박막 트랜지스터의 열화 현상을 줄여준다. 본회로는 SPICE 시뮬레이션을 통해 검증하였다.

• Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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• v.27 no.6
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• pp.32-38
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• 2010

Laser material processing technology is adopted in several industry as alternative process which could overcome weakness and problems of present adopted process, especially semiconductor and display industry. In semiconductor industry, laser photo lithography is doing at front-end level, and cutting, drilling, and marking technology for both wafer and EMC mold package is adopted. Laser cleaning and de-flashing are new rising technology. There are 3 kinds of main display industry which use laser technology - TFT LCD, AMOLED, Touch screen. Laser glass cutting, laser marking, laser direct patterning, laser annealing, laser repairing, laser frit sealing are major application in display industry.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2003.07a
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• pp.7-10
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• 2003

Samsung SDI has developed a full color 5.0" WVGA AMOLED display with top emission and a super fine pitch of 0.1365mm(l86ppi), the world's highest resolution OLED display ever reported to date. Scan driver circuits and demux circuit were integrated into the display panel, using low temperature poly-Si TFT CMOS technology, and data driver circuit were mounted using COG chips. Peak luminescence was greater than 300cd/ $m^2$ with power consumption of 500mW with 30% of the pixels on illuminated.

• The Journal of Korea Institute of Information, Electronics, and Communication Technology
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• v.15 no.3
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• pp.205-210
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• 2022

A novel OLED pixel circuit is proposed in this paper that uses only n-type thin-film transistors(TFTs) to improve the luminance non-uniformity of the AMOLED display caused by the threshold voltage variation of an OLED driving TFT. The proposed OLED pixel circuit is composed of 6 n-channel TFTs and 2 capacitors. The operation of the proposed OLED pixel circuit consists of the capacitor initializing period, threshold voltage sensing period of an OLED·driving TFT, image data voltage writing period, and OLED·emitting period. As a result of SmartSpice simulation, when the threshold voltage of·OLED·driving TFT varies from 1.2 V to 1.8 V, the proposed OLED pixel circuit has a maximum current error of 5.18 % at IOLED = 1 nA. And, when the OLED cathode voltage rises by 0.1 V, the proposed OLED pixel circuit has very little change in the OLED current compared to the conventional OLED pixel circuit. Therefore, the proposed pixel circuit exhibits superior compensation characteristics for the threshold voltage variation of an OLED driving TFT and the rise of the OLED cathode voltage compared to the conventional OLED pixel circuit.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2014.02a
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• pp.233-233
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• 2014

InGaZnO 박막트랜지스터(TFT)는 기존의 널리 사용되던 비정질 실리콘보다 높은 전하이동도와 Ion/off, 우수한 균일성과 신뢰성의 장점으로 최근 AMOLED양산에 적용되기 시작 하였다. 그러나 60인치 이상의 대면적 디스플레이와 초고해상도의 성능을 동시에 만족하기 위해 10 cm2/Vs정도의 전하이동도를 가지는 InGaZnO로는 한계가 있어 30 cm2/Vs 이상의 전하이동도를 가지는 물질의 연구가 필요하다. 연구에서는 높은 전하이동도를 만족하기 위해 InO2를, 우수한 신뢰성을 가지는 SnO2를 포함하는 InZnSnO로 실험을 진행하였다. 스퍼터링 시스템에서 ITO 타겟과 ZTO 타겟을 사용하여 동시증착법으로 채널을 증착하였고, 산소 분압 변화시에 IZTO TFT 소자 특성의 의존성을 평가하였다. Ar : O2=10 : 0 일 때와 Ar : O2=7 : 3 일 때의 이동도가 각각 12.6cm2/Vs, 19.7cm2/Vs로 산소 비율이 증가함에 따라 전하이동도가 증가하였다. 기존 IGZO 산화물 반도체에서는 산소 비율이 증가하면 산소공공(VO) 농도감소로 인해 전하이동도가 감소한다. 이는 전하농도가 증가하면 전하이동도가 증가하는 percolation 전도기구로 이해할 수 있다. 그러나 본 IZTO 물질에서는 산소비율 증가에 따라 오히려 전하이동도가 증가하였는데, 이는 IZTO 반도체에 함유된 Sn 이온의 가전자상태가 +2/+4가의 상대적 비율이 산소농도에 따라 의존하기 때문인 것으로 분석되었다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2012.02a
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• pp.375-375
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• 2012

최근 차세대 평판 디스플레이의 응용에 많은 주목을 받고 있는 AMOLED의 경우 전류구동 방식이기 때문에 a-Si TFT 보다는 LTPS-TFT가 요구되며, 대면적 기판에서의 결정립 크기의 균일도가 매우 중요한 인자이다. 비정질 실리콘 박막 상부 혹은 하부에 도전층을 개재하고, 상기도전층에 전계를 인가하여 그것의 주울 가열에 의해 발생한 고열에 의해 비정질 실리콘 박막을 급속 고온 고상 결정화하는 방법에 관한 기술인 JIC (Joule-heating Induced Crystallization) 결정화 공정은 기판 전체를 한번에 결정화 하는 방법이다. JIC 결정화 공정에 의하여 제조된 JIC poly-Si은 결정립 크기의 균일성이 우수하며 상온에서 수 micro-second내에 결정화를 수행하는 것이 가능하고 공정적인 측면에서도 별도의 열처리 Chamber가 필요하지 않는 장점을 가지고 있다. 그러나 고온 고속 열처리 방법인 JIC 결정화 공정을 수행 하면 Arc에 의하여 시편이 파괴되는 현상이 발견되었다. 본 연구에서는 Arc현상의 원인을 파악하기 위해 전압 인가 조건 및 시편 구조 조건을 변수로 결정화실험을 진행하였다. ARC가 발생하는 Si층과 Electrode 계면을 식각 분리하여 Electrode와 Si층 사이의 계면이 형성되지 않는 조건에서 전계를 인가하는 실험을 통하여 JIC 결정화 공정 중 고온에 도달하게 되면, a-Si층이 변형되어 형성된 poly-Si층이 전도성을 띄게 되고 인가된 전압이 도전층과 Poly-Si 사이에 위치한 $SiO_2$의 절연파괴(Dielectric breakdown)전압보다 높을 경우 전압 인가 방향에 수직으로 $SiO_2$가 절연 파괴되며 면저항 형태의 전도층의 단락이 진행되며 전도층이 완전히 단락되는 순간 Arc가 발생한다는 것을 관찰 할 수 있었다. 본 실험의 연구 결과를 바탕으로 Arc 발생을 방지하는 다양한 구조의 Equi-Potential 방법이 개발되었다.

• Journal of the Institute of Electronics and Information Engineers
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• v.53 no.5
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• pp.87-97
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• 2016

This work proposes a time-shared 10b DAC based on a two-step resistor string to minimize the effective area of a DAC channel for driving each AMOLED display column. The proposed DAC shows a lower effective DAC area per unit column driver and a faster conversion speed than the conventional DACs by employing a time-shared DEMUX and a ROM-based two-step decoder of 6b and 4b in the first and second resistor string. In the second-stage 4b floating resistor string, a simple current source rather than a unity-gain buffer decreases the loading effect and chip area of a DAC channel and eliminates offset mismatch between channels caused by buffer amplifiers. The proposed 1-to-24 DEMUX enables a single DAC channel to drive 24 columns sequentially with a single-phase clock and a 5b binary counter. A 0.9pF sampling capacitor and a small-sized source follower in the input stage of each column-driving buffer amplifier decrease the effect due to channel charge injection and improve the output settling accuracy of the buffer amplifier while using the top-plate sampling scheme in the proposed DAC. The proposed DAC in a $0.18{\mu}m$ CMOS shows a signal settling time of 62.5ns during code transitions from '$000_{16}$' to '$3FF_{16}$'. The prototype DAC occupies a unit channel area of $0.058mm^2$ and an effective unit channel area of $0.002mm^2$ while consuming 6.08mW with analog and digital power supplies of 3.3V and 1.8V, respectively.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2011.10a
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• pp.11.1-11.1
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• 2011

세계 최초의 전자종이가 등장한 때는 1975년 미국 제록스(Xerox)에서 개발된 '자이리콘(Gyricon)'이었으나, 2005년 상업성의 이유로 개발이 중단됐다. 2004년 소니(Sony)도 '리브리에(Librie)'라는 전자책 단말기를 출시했으나 콘텐츠 부족으로 판매가 워낙 부진해 시장에서 철수하였다. 그러나 2007년 인터넷 서점 아마존에서 베스트셀러를 포함한 8만 종 이상의 컨텐츠를 기반으로 전자책 '킨들(Kindle)'을 선보여 대 성공을 하였다. 2009년에만 540만대, 2010년에는 800만대 이상 팔리는 대히트를 기록한 것이다. 이러한 전자책의 성공의 이유는 다음과 같이 생각된다. 전자종이의 첫 번째 장점은 자체 발광을 하지 않는 '반사형'이기 때문에 눈에 피로감을 느끼진 않는다는 점이다. 컴퓨터 모니터, TV, 스마트폰 등은 LCD의 백라이트, AMOLED 등에서 직접 빛을 발산하기 때문에 피로감을 느낄 수밖에 없다. 두번째 장점은 유연하여 다양한 기판에 적용할 수 있다는 것이다. 기존의 디스플레이용 기판으로 유리(glass)를 사용하기 때문에 그 유연성에 있어 한계를 가지고 있지만, 금속 호일(Metal Foil)이나 플라스틱 기판으로 대체하려는 연구가 활발하게 진행되고 있으며 접는 것이 가능한 (Foldable) 전자종이도 출현할 전망이다. 세 번째 장점으로는 소비전력량이 적다는 것이다. 백라이트도 필요 없고, 자체적으로 빛을 낼 필요도 없고, 빛에너지를 외부에서 얻기 때문이다. 이러한 전자종이에 대한 최신 기술동향에 대하여 논하고자 한다.