A Comparative Study on Cu Drift Diffusion of Low-k Dielectrics and Thermal Oxide by use of BTS Technique (BTS 방법을 사용한 Low-K 유전체 물질들과 산화막의 Cu 드리프트 확산에 대한 비교 연구)
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- Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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- v.20 no.2
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- pp.106-112
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- 2007