• 제목/요약/키워드: 2 inch crystal

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LEC법 GaAs 단결정의 종단쌍정 발생 (Generation of Longitudinal Twin of GaAs Single Crystal by LEC Method)

  • 강진기;유학도;박종목
    • 한국결정학회지
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    • 제2권1호
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    • pp.1-11
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    • 1991
  • GaAs 단결정을 LEC법으로 성장시킬 때 종단쌍정이 자주 발생하여 문제가 된다. 종단쌍정이 발생 하면 (100) 방향의 성장축이 (221)로 바뀐다. 본 실 험에서는 (100) 방향의 성장축으로 직경 3 inch의 CaAs 단결정을 LEC법에 의해 성장시키고, SPW photo-etching법에 의해 GaAs 단결정성장에서 생성 된 striation과 edge facet를 관찰하여 상호관계를 연 구하였다. 이들의 불안정한 생성이 종단방정 발생의 원 인 이었다. Striation의 형태는 결정직경, 융액량등의 성장조건에 따라 변화하였다. 결정주변부에서는 미시적인 striation 형태의 변화가 있었는데, 이는 용액대류의 불안정에 기인한 것이었다. {lll} 면으로 구성된 edge facet은 결정주변부에서 striation의 형태가 볼록 해질 때 잘 생성되었다. 이것은 striation과 {lll} edgp facet이 이루는 각도가 작아지기 때문이었다. 종단방정은 결정축에 수직한 (110) 방향의 결정 표면에서 발생하였다. 이들은 불안정한 융액대류에 의해 생성되어 결정이 성장함에 따라 결정속으로 전파되었다. 종단방정은 {lll} edge facet의 재용융 후 재성장의 성장속도가 매우 빠를 때 발생하였다. 따라서 이러한 종단쌍정의 발생을 억제하기 위해서 는 고액계면에서의 급격한 융액대류의 변화가 생기 지 않도록 하여야 한다.

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Fabrication of Wafer-scale Polystyrene (2+1) Dimensional Photonic Crystal Multilayers Via the Layer-by-layer Scooping Transfer Technique

  • 도영락;오정록;이경남
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2011년도 춘계학술발표대회
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    • pp.11.1-11.1
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    • 2011
  • We have developed a simple synthetic method for fabricating a wafer-scale colloidal crystal film of 2D crystals in a 1D stack based on a combination of two simple processes : the self-assembly of polystyrene (PS) nanospheres at the water-air interface and the layer-by-layer (LbL) scooping transfer technique. The main advantage of this approach is that it allows excellent control of the thickness (at a layer level) of the crystals and the formation of a vertical crack-free layer over a wafer-scale (4 inch). We investigate the optical and morphological properties of the PhC multilayers fabricated using various mono-sized colloidal crystals (250, 300, 350, 420, 580, 720, and 850 nm), and mixed binary colloidal crystals (300/350 and 250/350 nm).

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극한 환경용 반도체 기술 동향 (Technical Trends of Semiconductors for Harsh Environments)

  • 장우진;문재경;이형석;임종원;백용순
    • 전자통신동향분석
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    • 제33권6호
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    • pp.12-23
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    • 2018
  • In this paper, we review the technical trends of diamond and gallium oxide ($Ga_2O_3$) semiconductor technologies among ultra-wide bandgap semiconductor technologies for harsh environments. Diamond exhibits some of the most extreme physical properties such as a wide bandgap, high breakdown field, high electron mobility, and high thermal conductivity, yet its practical use in harsh environments has been limited owing to its scarcity, expense, and small-sized substrate. In addition, the difficulty of n-type doping through ion implantation into diamond is an obstacle to the normally-off operation of transistors. $Ga_2O_3$ also has material properties such as a wide bandgap, high breakdown field, and high working temperature superior to that of silicon, gallium arsenide, gallium nitride, silicon carbide, and so on. In addition, $Ga_2O_3$ bulk crystal growth has developed dramatically. Although the bulk growth is still relatively immature, a 2-inch substrate can already be purchased, whereas 4- and 6-inch substrates are currently under development. Owing to the rapid development of $Ga_2O_3$ bulk and epitaxy growth, device results have quickly followed. We look briefly into diamond and $Ga_2O_3$ semiconductor devices and epitaxy results that can be applied to harsh environments.

종자정 부착 시 생성되는 마이크로 기공이 PVT법에 의하여 성장시킨 6H-SiC 결정질에 미치는 영향 (The Micro Bubble Effect in the Seed Adhesion on the Crystal Quality of 6H-SiC grown by a Physical Vapor Transport (PVT) Process)

  • 김정곤;김정규;손창현;최정우;황현희;이원재;김일수;신병철
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제21권3호
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    • pp.222-226
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    • 2008
  • With different seed adhesion methods, we obtained two different aspects with or without micro-bubble in the interface between a seed and a dense graphite seed holder. To improve the quality of SiC wafer, we introduced a sucrose caramelizing step at the seed adhesion using the sucrose, The n-type 2 inch single crystal exhibiting the polytype of 6H-SiC were successfully fabricated and carrier concentration levels of about $10^{16}/cm^3$ was determined from Hall measurements, As compared to the characteristics of SiC crystal grown with micro-bubble in the interface between the seed and the dense graphite seed holder, the SiC crystal grown without micro-bubble definitely exhibited lower resistivity, lower micropipe density and higher mobility relatively.

분자선 에피성장법으로 성장된 ZnSe/GaAs의 특성 (Property of molecular beam epitaxy-grown ZnSe/GaAs)

  • 김은도;손영호;조성진;황도원
    • 한국결정성장학회지
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    • 제17권2호
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    • pp.52-56
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    • 2007
  • 본 연구에서는 초고진공(UHV, ultra high vacuum) 분자선 에피성장(MBE, molecular beam epitaxy) 시스템을 제작하여, ZnSe/GaAs[001]을 증착하였고, 증착된 박막의 특성을 SEM(scanning electron microscopy), AFM(atomic force microscopy)으로 조사하여, 분자층 단위의 조밀하고 균일한 표면특성을 보이고 있음을 확인할 수 있었다 XRD(x-ray diffractometer)를 이용하여, GaAs[001]기판의 XRD peak 위치와 ZnSe 박막의 XRD peak 위치가 각자 일치함을 확인할 수 있었다. PL(photoluminescence)로는 대략 437nm에서 발광하는 것이 관측되었으며, 2인치 ZnSe 박막의 PL mapping을 측정하였다.

PVT 공법의 공정 변수가 고순도 반절연 SiC 단결정의 저항에 미치는 영향 (The effect of PVT process parameters on the resistance of HPSI-SiC crystal)

  • 나준혁;강민규;이기욱;최예진;박미선;정광희;이규도;김우연;이원재
    • 한국결정성장학회지
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    • 제34권2호
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    • pp.41-47
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    • 2024
  • 본 연구에서는 SiC(Silicon Carbide) 분말의 순도와 결정 성장 후 냉각 속도를 제어하여 PVT(Physical Vapor Transport) 방법으로 성장한 4인치 HPSI(High-Purity Semi-Insulating)-SiC 단결정의 저항 특성을 조사하였다. 순도가 다른 2개의 β-SiC 분말을 사용하였고, 성장 후 냉각 속도를 조절하여 다양한 저항값을 얻었다. 성장된 결정의 투과/흡수 스펙트럼 및 결정 품질은 각각 UV/VIs/NIR 분석과 XRD Rocking curve 분석을 이용하였으며, 비접촉 비저항 분석을 통해 전기적 특성을 조사하여 비저항 특성에 우세한 영향을 미치는 주요 요인을 확인하였다.

Influence of gas mixing ration on secondary electron emission coefficient of MgO single crystal with different orientations and MgO protective layer

  • 임재용
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 1999년도 제17회 학술발표회 논문개요집
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    • pp.234-234
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    • 1999
  • AC-PDP(Plasma Display Panel)에 사용하는 MgO 보호막의 이차전자 방출계수(${\gamma}$)는 AC-PDP의 방전특성을 결정짓는 중요한 요소이다. MgO 보호막의 이차전자 방출계수는 AC-PDP에 주입하는 기체의 종류에 영향을 받는다. 현재 AC-PDP에는 방전특성의 향상과 VUV 발생을 위하여 He, Ne, Ar, Xe 등의 비활성기체를 두가지 혹은 세가지로 혼합한 혼합기체가 사용되고 있다. 기체를 혼합할 경우 Penning 효과에 의해 더 좋은 방전특성을 얻을 수 있는 것으로 알려져 왔으며, 이때의 적절한 혼합비율을 찾는 것은 AC-PDP의 효율 개선에 매우 중요하다. 이번 실험에서는 (111), (100), (110) 각각의 방향으로 배향된 MgO Bulk Crystal과 MgO 보호막의 이차전자방출계수를 He+Ne+Xe 삼원기체를 사용하였다. MgO 보호막은 실제 21inch 규격의 Panel을 사용하였으며, 혼합기체의 혼합비율의 Ne:Xe을 99:1, 98:2, 96:4, 93:7과 He+Ne+Xe의 삼원기체로 다양하게 변화시켜 가며 실험하였다.

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두 개의 트랜지스터로 구동되는 In-Plane Switching (IPS) 액정 디스플레이 (In-Plane Switching Liquid Crystal Display using Two Transistors)

  • 정준호;박지웅;김민수;하경수;이승희
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2008년도 추계학술대회 논문집 Vol.21
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    • pp.308-309
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    • 2008
  • We have proposed a high performance liquid crystal display using two thin film transistors (TFTs) for the large size TFT-LCD desirably 42inch WXGA panel for TVs. The device generates stronger electric fields to reorient liquid crystals than that in the conventional IPS device because the voltages with opposite polarity with respect to the common electrode are applied to each finger-type electrode. As a result, the operation voltage of 2Tr-IPS mode can be decreased and the transmittance can be increased compared to conventional IPS device. Consequently, the 2Tr-IPS has all the advantages over conventional IPS from large size point of view.

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Manufacturing a Single Cell Gap Transflective Liquid Crystal Display by Using Ink Jet Printing Technology

  • Sha, Y.A.;Su, P.J.;Hsieh, C.H.;Chang, K.H.;Chen, C.H.;Hsiao, C.C.;Shiu, J.W.;Fuh, S.Y.;Cheng, W.Y.;Liao, Y.C.;Yang, J-C;Lo, K.L.;Lee, D.W.;Lee, K.C.;Chang, Y.P.
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
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    • pp.1533-1536
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    • 2006
  • A novel single cell gap transflective liquid crystal display was developed. By using the ink jet printing technology, we fabricated a transflective liquid crystal display with the hybrid alignment in the reflective region and the homogeneous alignment in the transmission region. Compared with the traditional technologies, our technology provided the advantages of easy process, high yield, fast throughput, and less material usage. We also applied this technology to the 2.4 inch prototype. This panel could be implemented in the handheld product applications.

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바나듐 담지된 그래핀 나노복합체를 첨가한 SCR 촉매의 제조 및 활성 평가 (De-NOX evaluation of SCR catalysts adding vanadium-graphene nanocomposite)

  • 정보라;이희수;김억수;김홍대
    • 한국결정성장학회지
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    • 제25권6호
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    • pp.252-256
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    • 2015
  • 질소산화물 ($NO_X$)은 고정원(화력발전소, 산업시설) 및 이동원(자동차, 선박) 등에서 배출되어지며, 발암물질 및 광화학 스모그의 주범으로 작용하고 있다. 선택적 촉매 환원법(SCR)은 $NO_X$를 제거하는 가장 효율적인 방법이며, 상업용으로 사용되어지는 $V_2O_5-WO_3/TiO_2$계 촉매에서 $V_2O_5$ 함량은 0.5~3 wt%, $WO_3$ 함량은 5~10 wt%이다. 촉매 성분 중 $V_2O_5$의 경우 $NO_X$ 환원 반응을 통해 촉매 작용을 촉진시키지만, 과량으로 첨가될 경우, $SO_2$에서 $SO_3$로의 산화 반응을 증가시킨다. 본 연구에서는 높은 탈질 효율을 유지시킴과 더불어, 바나듐의 함량을 줄이기 위하여, 그래핀을 바나듐 담지 matrix로 사용하여 나노복합체를 합성하였으며, 합성된 나노복합체를 첨가하여 Honeycomb형 1 inch SCR 촉매를 제조하였다. 제조된 SCR 촉매는 XRD(X-ray Diffraction), XRF(X-ray Fluorescence Spectrometer), BET(Brunauer, Emmett & Teller) 등의 분석을 통해 물성 평가를 진행하였으며, Micro Reactor(MR)를 이용하여 활성평가를 진행하였다. 그 결과, 촉매 상용 운전 온도인 $350^{\circ}C$에서 나노복합체가 첨가된 SCR 촉매의 탈질 효율은 77.1 %로 상용촉매의 탈질 효율인 77.8 %와 유사한 효율을 나타내는 것을 확인하였다.