The electrical characteristics of Polysilicon Source/Drain SOI MOSFETs with high-k gate dielectrics. (Elevated Polysilicon source/drain 구조와 고유전율 절연막을 적용한 초미세 SOI MOSFET의 제작 및 특성 연구)
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- Proceedings of the IEEK Conference
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- 2003.07b
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- pp.715-718
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- 2003