• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2001.05a
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• pp.85-85
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• 2001

• 한국전기화학회:학술대회논문집
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• 2002.04a
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• pp.48-48
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• 2002

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 1996.11a
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• pp.162-163
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• 1996

• 한국전기화학회:학술대회논문집
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• 2001.10a
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• pp.38-38
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• 2001

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2007.08a
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• pp.92-92
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• 2007

• Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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• v.13 no.1
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• pp.36-40
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• 2003

The diamond-like nanocomposite (DLN) thin films were deposited on Si substrates using $CH_4/(C_2H_5O)_4Si/H_2$/Ar gas mixtures as source gases by the plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). The chemical structure and microstructure of grown films were investigated and their tribological properties were evaluated by a ball-on-plate type tribometer. The deposited DLN films mainly consisted of diamond-like a-C:H and quartz-like a-Si:O networks. The DLN films had a good agreement with tribological coating applications due to their extremely low friction coefficients and low wear rates.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2003.11a
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• pp.73-73
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• 2003

최근 LCD(liquid crystal display)분야에서 고해상도와 빠른 응답속도를 가지는 다결정 실리콘 박막트랜지스터에 대한 연구를 하고 있다. 그러나, poly-Si은 poly-Sil-xGex에 비해 intrinsic carrier mobility가 낮고 고온의 결정화 공정을 필요로 한다. 따라서, Poly-Si을 대체할 재료로 poly-SiGe에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 본 연구에서는 전계에 의해 결정화가 가속되고 한쪽 방향으로 결정화를 제어하여 채널내 전자나 정공의 이동도를 향상시 킬 수 있는 새로운 결정화 방법인 전계 유도 방향성 결정화법을 이용하여 Ge 함량에 따른 a-Sil-xGex(0$\leq$x$\leq$0.5)의 결정화 특성을 연구하였다. 대기압 화학 기상 증착법으로 5000$\AA$의 산화막(SiO$_2$)이 증착된 유리 기판상에 플라즈마 화학 기상 증착법을 이용하여 800$\AA$의 비정질 실리콘을 증착한 후 RF magnetron sputtering법을 이용하여 Ge 함량에 따른 Sil-xGex 박막을 1000$\AA$ 증착하였다. Photolithograph방법을 이용하여 금속이 선택적으로 증착될 수 있는 특정 Pattern을 가진 mask를 형성한 후 금속을 DC magnetron sputtering법을 이용하여 상온에서 50$\AA$.을 증착하였다. 이후 시편에 전계를 인가하기 위해 시편의 양단에 전극을 형성한 후 DC Power Supply를 통해 전압을 제어하는 방식으로 전계를 인가하였다. 결정화 속도는 광학현미경을 이용하여 분석하였으며 결정화된 영역의 결정화 정도는 micro-Raman spectroscopy로 분석하였다.

• Korean Chemical Engineering Research
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• v.44 no.3
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• pp.300-306
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• 2006

Photocatalyst deposited beads were prepared by fluidized bed chemical vapor deposition (FB-CVD) under various operating conditions of substrates, bed temperature, pressure, and oxygen concentration. Photocatalytic degradation of acetaldehyde was carried out to determine the optimum operating condition of prepared photocatalysts. They were characterized by using FE-SEM, XRD, and XPS. From the FE-SEM photographs, it was found that the surfaces of titania-coated beads were covered with crystal form, particle form, and slick form of titania on alumina, silica-gel, and glass beads, respectively. From the result of photocatalytic degradation of acetaldehyde, it was found that prepared titania/ alumina beads at $600^{\circ}C$, 5 torr showed superior performance to others, and oxygen flow rate has no significant effect.

• Journal of the Korean Chemical Society
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• v.38 no.7
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• pp.473-479
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• 1994

Tungsten thin film was deposited on p-(100) silicon substrate by using the LPCVD(low pressure chemical vapor deposition) technique. $WF_6$ was used as a source gas for tungsten and $SiH_4$ was used as a reducing gas for $WF_6$. Tungsten thin film was deposited by either SiH4 or Si substrate reduction of $WF_6$ under cold-wall condition and it was deposited by $SiH_4$ reduction of $WF_6$ under hot-wall condition. The crystal structure of deposited thin film under both conditions were identified to be bcc (body centered cubic). The physical and electrical properties of deposited thin films were investigated. The deposited film under hot-wall condition changed to $WSi_2$ film by the annealing under $800^{\circ}C.$ From the experimental results and theoretical considerations, the change of the crystal structure of the thin film by annealing was discussed. $WSi_2$ thin film, which was known to have good compatibility with Si substrate, could be produced under hot-wall condition although the film properties were superior under cold-wall condition.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2010.02a
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• pp.71-71
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• 2010

최근 나노선의 우수한 전기적, 광학적 특성을 다양한 종류의 전자소자, 광소자, 그리고 센서에 응용하는 연구가 활발히 진행되고 있다. 그 중 $SnO_2$ 나노선은 n-type의 전기특성과 우수한 광 특성을 보이며, 전자소자, 광소자 뿐 아니라 다양한 종류의 가스 센서 제작에 널리 사용되고 있다. 본 연구에서는 화학기상증착법 (Chemical Vapor Deposition)으로 $SnO_2$ 나노선을 성장하여 전계방출효과 트랜지스터 (field effect transistor: FET)를 제작하여 전기적 특성을 측정하였다. 나노선의 성장 조건 (온도와 산소 유량) 에 따른 나노선의 구조, 화학조성, 전기적 특성을 체계적으로 조사하였다. 산소의 유량이 낮을 때는 온도에 따라 나노선의 크기와 전기 특성에 변화가 없었으나, 산소의 유량을 높이면 온도에 따라 나노선의 두께와 전기적 특성이 크게 변화하였다. 본 연구에서는 특히, FET 구조에서 on/off current ratio 가 $10^5$ 이상으로 매우 높은 나노선 제작이 가능하였다. 전기적 특성과 나노선의 결정구조, 화학적 조성을 함께 비교하여 성장 메커니즘을 이해하고자 한다.