• 제목/요약/키워드: 피코초레이저

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나노초 및 피코초 레이저를 이용한 FPCB의 절단특성 분석

  • 신동식;이제훈;손현기;백병만
    • 광학세계
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    • 통권120호
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    • pp.69-73
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    • 2009
  • 본 논문에서는 레이저 가공의 문제점인 FPCB에서의 낮은 생산성과 열영향을 보완하기 위한 실험내용을 다루고 있으며 극초단펄스 레이저와 나노초 UV레이저를 이용하여 FPCB의 기반재료인 FCCL(Flexible Copper Clad Laminate)를 절단하며 생산성 및 열영향을 비교하고 있다. 나노초 레이저는 피코초 레이저 경우에 비해 가공속도가 빨라 양산공정에 적합하며 피코초 레이저는 나노초 레이저에 비해 용융물이 적게 발생하여 다층/고집적화에 적합하나 출력이 낮은 단점이 있어 현단계에서의 양산가공으로의 적용이 어렵다는 결론이다. 그러나 여러 선도 업체에서 극초단 펄스레이저의 고출력화에 대한 시도가 이뤄지고 있으므로 생산성의 문제는 빠른 시일 내에 해결될 것으로 판단된다.

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피코초 분해능의 시간 상관 단광자 계수 장치 구성 및 동작 특성 (Construction and Performance Characterization of Time-correlated Single Photon Counting System having Picosecond Resolution)

  • 이민영;김동호
    • 한국광학회지
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    • 제5권1호
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    • pp.90-99
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    • 1994
  • 모드록킹된 피코초 레이저, 고속전자장치, 전자관형 광증배관 등을 사용하여, 피코초 분해능을 갖는 시간상관 단광자 계수 장치 및 시분해 스펙트럼 측정 장치를 제작하였다. 기기감음함수는 레이저의 펄스모양, 고속전자장치의 timing jitter 및 walk, 광증배관과 증폭기의 특성에 민감함을 보여주었다. 광학계의 분산등을 보정하여 25 ps의 반치폭을 갖는 기기감응함수를 얻었으며, 이와 같은 결과는 이 장치를 사용할 경우 deconvolution을 통하여 10 ps 이하의 분해능으로 피코초에서 마이크로초의 넓은 범위에 걸쳐서 여기상태 소멸시간의 측정이 가능함을 보여준다.

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펨토초 레이저를 이용한 극미세 가공에의 응용

  • 조성학
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2004년도 춘계학술대회 논문요약집
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    • pp.8-8
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    • 2004
  • 펨토기술은 펨토초영역에서 일어나는 물리화학적 현상을 이용하여 공학적으로 이용하는 학문이다. 펨토초(femtosecond)는 시간의 단위로서 1펨토초는 1000조분의 1초($10^{-15}$)에 해당된다. 일반적으로 사람의 머리카락 두께는 약 100fm 인데 100 펨토초라고 하더라도 빛이 머리카락 두께의 1/2도 진행하지 못하는 극도의 짧은 시간에 불과하다. 이러한 펨토기술은 극초단 레이저의 발달로 가능해졌다. 1960년대 초 레이저 펄스폭을 줄일 수 있는 기술이 개발돼 나노초 시대가 열린 이후 60년대 중반에 펄스폭을 더욱 줄일 수 있는 모든 잠금기술이 개발돼 피코초 시대가 도래했다.(중략)

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펌프-촉침 방법을 이용한 피코초 순간 흡광 속도분광기 제작

  • 장두전
    • 한국광학회지
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    • 제4권3호
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    • pp.347-353
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    • 1993
  • 펌프-촉침 방법을 이용한 피코초 순간 흡광 속도분광기를 제작하고 피코초 순간 흡광 분광을 측정하는 다른 방법들과 비교하였다. 제작된 피코초 순간 흡광 속도분광기는 모드 록킹된 cw 색소 레이저에서 발생된 펌프 펄스와 촉침 펄스 사이의 지연시간 변화에 따른 시료의 순간 투과도를 잡금 증폭기를 사용하여 측정하였다. 이 속도분광기를 사용하여 측정된 순간 흡광 및 바닥 상태의 표백 재생 속도 곡선들을 보여주었다. 단일 파장에서 발광 또는 비발광 계의 순간 흡광 혹은 바닥 상태의 표백 재생의 아주 좋은 속도 곡선을 얻을 수 있었다.

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피코초 펄스 레이저를 이용한 사파이어 웨이퍼 스크라이빙에 관한 연구 (A Study on Sapphire Wafer Scribing Using Picosecond Pulse laser)

  • 문재원;김도훈
    • 한국레이저가공학회지
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    • 제8권2호
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    • pp.7-12
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    • 2005
  • The material processing of UV nanosecond pulse laser cannot be avoided the material shape change and contamination caused by interaction of base material and laser beam. Nowadays, ultra short pulse laser shorter than nanosecond pulse duration is used to overcome this problem. The advantages of this laser are no heat transfer, no splashing material, no left material to the adjacent material. Because of these characteristics, it is so suitable for micro material processing. The processing of sapphire wafer was done by UV 355nm, green 532nm, IR 1064nm. X-Y motorized stage is installed to investigate the proper laser beam irradiation speed and cycles. Also, laser beam fluence and peak power are calculated.

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피코초 레이저 및 CDE를 이용한 TSV가공기술 (TSV Formation using Pico-second Laser and CDE)

  • 신동식;서정;조용권;이내응
    • 한국레이저가공학회지
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    • 제14권4호
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    • pp.14-20
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    • 2011
  • The advantage of using lasers for through silicon via (TSV) drilling is that they allow higher flexibility during manufacturing because vacuums, lithography, and masks are not required; furthermore, the lasers can be applied to metal and dielectric layers other than silicon. However, conventional nanosecond lasers have disadvantages including that they can cause heat affection around the target area. In contrast, the use of a picosecond laser enables the precise generation of TSVs with a smaller heat affected zone. In this study, a comparison of the thermal and crystallographic defect around laser-drilled holes when using a picosecond laser beam with varing a fluence and repetition rate was conducted. Notably, the higher fluence and repetition rate picosecond laser process increased the experimentally recast layer, surface debris, and dislocation around the hole better than the high fluence and repetition rate. These findings suggest that even the picosecond laser has a heat accumulation effect under high fluence and short pulse interval conditions. To eliminate these defects under the high speed process, the CDE (chemical downstream etching) process was employed and it can prove the possibility to applicate to the TSV industry.

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피코초 레이저를 이용한 니켈의 미세가공 특성 (Micro-machining of nickel by picosecond laser ablation)

  • 신동식;이제훈;서정;노지환;정용운;김재구
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2006년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.653-654
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    • 2006
  • In case of ultrashort laser ablation of metals, the transfer of energy from the electronic system causing strong absorption of laser light to the lattice needs relaxation times of the order of some picoseconds. Under the above theoretical background, nickel was ablated using femtosecond, picosecond and nanosecond laser. As a result, nickel ablation by picosecond laser and femtosecond laser, which are called ultrashort laser, has similar machinability because of relaxation time of metals, whereas nanosecond Nd:YAG laser has lower absorption, higher thermalization effect in comparison with ultrashort laser.

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