• Title/Summary/Keyword: 표면 패턴

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The luminance variation of inner-scatterer light guide panel by various surface-scatterer (다양한 표면산란체에 의한 내부산란체 도광판 휘도 성능 분석)

  • Choi, Young Hee;Shin, Youngjin;Choi, Eun Seo
    • Journal of Integrative Natural Science
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    • v.1 no.1
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    • pp.32-35
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    • 2008
  • We fabricated surface pattern on a light guide panel (LGP) using $CO_2$ laser to improve the luminescence performance of inner-scatterer LGP, which is made of PMMA sample with exploiting Q-switched $2^{nd}$ harmonic Nd:YAG laser engraving system, and the effect of surface pattern in the brightness distribution of LGP was analysed. To prove the feasibility of proposed method in the enhancement of LGP performance, we designed three different surface patterns on the inner-scatterer LGP. The experimental results has proved the potential in the application of surface pattern to increasing the brightness of inner-scatterer LGP.

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Effect of Space Charge on the PD Pattern or Dielectric barrier Discharge at AC Voltage (교류전압에서 PD 패턴(또는 유전체장벽 효과)에 미치는 공간전하의 영향)

  • 황보승;이동영
    • Proceedings of the Korean Institute of IIIuminating and Electrical Installation Engineers Conference
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    • 1998.11a
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    • pp.101-107
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    • 1998
  • 본 논문에서는 최근 국내·외적으로 활발하게 연구되고 있는 고분자 절연재료에 있어서 공간 전하가 전기적 특성에 미치는 영향에 대한 연구로서, 기존에는 보고되지 않았던 새로운 측정시스템과 분석 방법을 제시하였다. 그리고, 이러한 측정시스템을 이용하여 교류전압 하에서 PD 발생시에 절연체 표면에 축적되는 공간전하의 직접적인 관측을 통하여 공간전하와 PD와의 연관성에 대한 규명을 실시하였다. 실험결과로부터 PD 패턴은 방전에 의해 절연체 내부보다는 표면에 축적되는 동적 공간전하와 매우 밀접한 관계를 가지고 있는 것을 알 수 있었으며, 또한 PD 발생시 공기층 전압은 이러한 동적 공간전하에 의해 지배됨을 확인할 수 있었다. 그리고, 일정전계 이상에서는 공간전하의 축적에 의한 영향으로 PD 크기와 공기층 전압은 더 이상 증가하지 않았다는 것을 확인할 수 있었다. 이러한 실험결과는 유전체장벽방전을 이용한 NOx, SOx 등의 공해물질의 분해에 있어서, 현재까지는 분해시스템에 전달되는 전력은 인가전압의 주파수와 크기에 비례하는 것으로 생각해 왔으나, 본 실험결과를 통하여 일정전계 이상에서는 전압상승에 의한 분해 효율의 향상을 기대하기 힘들다는 것을 나타낸다.

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질화물 계 발광다이오드의 광추출 향상을 위한 투명전극 패터닝 공정

  • Byeon, Gyeong-Jae;Hong, Eun-Ju;Hwang, Jae-Yeon;Lee, Heon
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2008.11a
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    • pp.79-80
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    • 2008
  • 최근 질화물 계 발광다이오드의 광추출효율을 향상시키기 위하여 발광다이오드의 발광면을 texturing하는 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는 직접 패터닝 방식인 나노 임프린팅 공정을 이용하여 blue 발광다이오드의 indium tin oxide (ITO) 투명전극 층에 sub-micron 크기의 hole이 주기적으로 정렬된 구조의 폴리머 패턴을 형성하였으며 임프린팅 공정 후 건식 식각 공정을 통해서 ITO 층을 식각하였다. 그 결과 ITO 투명전극 층에 발광다이오드의 광추출효율을 향상시키기 위한 sub-micron 급의 주기적인 hole 패턴이 형성되었다.

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산화아연 투명전극의 패터닝 및 나노막대 구조를 이용한 질화갈륨계 LED의 광추출효율 향상에 대한 연구

  • Park, Ji-Yeon;Son, Hyo-Su;Choe, Nak-Jeong;Lee, Jae-Hwan;Han, Sang-Hyeon;Lee, Seong-Nam
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.313-313
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    • 2014
  • GaN계 물질 기반의 광 반도체는 조명 및 디스플레이 관련 차세대 광원으로 많은 관심을 받고 있고, 효율 증대를 위한 에피, 소자 구조 및 패키지 등의 많은 연구가 진행되고 있다. 특히, 투명 전극을 이용한 광 추출 효율의 증가에 대한 연구는 전체 외부양자효율을 증가시키는 중요한 기술로 각광을 받고 있다. 이러한 투명전극은 가시광 영역의 빛을 투과하면서도 전기 전도성을 갖는 기능성 박막 전극으로 산화인듐주석이 널리 사용되고 있으나 인듐 가격의 상승과 산화인듐주석 전극 자체의 크랙 특성으로 인하여 많은 문제점이 지적되고 있다. 이러한 문제를 극복하기 위하여 GaN계 발광 다이오드에 있어서 산화인듐주석 투명 전극의 대체 물질들에 대한 많은 연구들이 활발하게 이루어 지고 있다. 특히, 투명전극 층으로 사용되는 산화인듐주석 대체 박막으로 산화아연에 대한 연구가 각광을 받고 있는 실정이다. 또한, 발광 다이오드의 효율 증가를 위해 발광소자에 표면 요철 구조 형성과 나노구조체 형성 등 박막 표면의 구조 변화를 통한 광추출효율 향상에 대한 많은 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는 산화아연 박막을 투명전극으로 사용하였으며 광추출효율 향상을 위해 산화아연 투명전극에 패터닝을 형성하고, 그 위에 산화아연 나노막대를 형성하여 기존에 사용하던 산화아연 투명전극보다 우수한 추출효율 및 전류 퍼짐 향상 구조를 제안하고 이에 따른 LED 소자의 광추출효율 향상을 연구하였다. 금속유기화학증착법을 이용하여 c-면 사파이어 기판에 n-GaN, 5주기의 InGaN/GaN 다중양자우물 구조 및 p-GaN의 간단한 LED구조를 성장한 후, p-GaN층 상부에 원자층 증착법을 이용하여 투명전극인 산화아연 박막을 60 nm 두께로 증착하였다. 산화아연 투명전극만 증착한 LED-A와 이후 0.1% HCl을 이용한 습식식각을 통하여 산화아연 투명전극에 육각형 모양의 패턴을 형성한 LED-B, 그리고 LED-B위에 전기화학증착법을 이용하여 $1.0{\mu}m$의 산화아연 나노 막대를 증착한 LED-C를 제작하였다. LED-A, -B 및 -C에 대한 표면 구조는 SEM이미지를 통하여 확인한 바 산화아연의 육각 패턴과 그 상부에 산화아연의 나노막대가 잘 형성된 것을 확인하였다. I-L 분석으로부터 패턴이 형성되지 않은 산화아연 투명전극으로만 구성된 LED-A에 비하여 산화아연 투명 전극에 육각 패턴을 형성한 LED-B의 전계 발광 세기가 더욱 큰 것을 확인하였다. 또한, 육각 패턴에 산화아연 나노막대를 성장시켜 융합구조를 형성한 LED-C에서는 LED-B와 -A보다 더 큰 전계 발광세기를 확인할 수 있었다. 특히, 인가 전류가 고전류로 갈수록 LED-C의 발광세기가 더욱 강해지는 것으로 효율저하현상 또한 나노융합구조의 LED-C에서 확인할 수 있었다. 이는 기존 산화아연 투명전극에 육각형의 패턴 및 나노막대융합구조를 형성할 경우 전류퍼짐현상을 극대화 할 뿐 아니라, 추가적인 광추출효율 향상 효과에 의해 질화갈륨 기반LED 소자의 광효율이 증가된 것으로 판단된다.

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Effects of Static Contact Angle and Roughness on Rolling Resistance of Droplet (액적의 구름저항에 대한 정접촉각 및 거칠기의 영향)

  • Cho, Won Kyoung;Cho, Sang Uk;Kim, Doo-In;Kim, Dae-Up;Jeong, Myung Yung
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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    • v.23 no.1
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    • pp.23-28
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    • 2016
  • In this study, the effects of the contact angle (CA) and contact angle hyteresis (CAH) of planar and nano-patterned surfaces on rolling resistance of water droplet were studied. Based on the investigation on the CAH of water droplet on surfaces with various static wettability, it was found that the rolling resistance coefficient of water droplet is highly influenced by the surface pattern as well as CAH. The observed results suggest that the optimal surface patterns should be designed in order to minimize the rolling resistance of water droplet for the practical applications where superhydrophocitiy is required.

산화아연 나노막대/PDMS 제작기술과 광학적 특성 연구

  • Go, Yeong-Hwan;Lee, Su-Hyeon;Yu, Jae-Su
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.02a
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    • pp.474-474
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    • 2013
  • PDMS는 미세패턴을 위해 소프트 리소그래피 널리 활용되어질 뿐만 아니라, 재질이 투명하고 탄성과 강한 내구성을 갖고 있어 유연한 광학 및 전자소자에 이용될 수 있다. 최근에는, 이러한 PDMS를 서브파장구조(subwavelength grating structure)를 형성하거나 텍스쳐(texture)표면구조를 이용한 효과적인 반사방지막(antireflection coating)기판을 제작하여 태양전지 및 디스플레이 소자의 성능을 발전시키는 연구가 활발히 진행되고 있다. 한편, 수열합성법(hydrothermal method)이나 전기화학증착법(electrodeposition method)으로 비교적 간단한 공정을 통해서 다양한 기판위에 산화아연(ZnO) 나노막대(nanorod)를 수직정렬로 성장시킬 수 있는데, 이러한 구조는 반사방지특성의 유효 굴절률 분포(effective refractive index profile)를 갖고 있기 때문에 LED나 태양전지에 성능을 개선할 수 있다. 이에 본 연구에서는 수열합성법을 통해 성장된 수직 정렬된 산화아연 나노막대를 이용한 PDMS 표면의 미세패턴 형성하여 광학적 특성을 분석하였다. 실험을 위해, 스퍼터링을 통해서 산화아연 시드층을 형성한 후, 질산아연헥사수화물과 헥사메틸렌테트라민을 수용액에 담가두어 산화아연 나노막대를 성장시켰으며, PDMS의 베이스와 경화제의 질량비를 10:1으로 용액을 준비하여 수직 정렬된 산화아연 나노막대 표면을 casting method으로 코팅하여 열경화 처리하였다. 제작된 샘플의 형태, 구조 광특성을 관찰하기 위해서 전계방출형전자현미경, X선 회절 분석기, 분광 광도계를 이용하였다.

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Long-Period Fiber Gratings Based on Periodically Surface-Etched Structure Imprinted by Using a Photoresist Polymer (폴리머 장주기 패턴을 이용한 표면 식각된 격자 구조 기반의 장주기 광섬유 격자)

  • Park, Sang-Oh;Kwon, Oh-Jang;Han, Young-Geun
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.22 no.1
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    • pp.1-4
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    • 2011
  • A new fabrication technique of long-period fiber gratings with periodically surface-etched structures is proposed. Transmission characteristics of the periodically surface-etched long-period fiber gratings are improved by changing strain because of variation of coupling strength between the core and the cladding modes. The sensitivities of the periodically surface-etched long-period fiber gratings to strain, torsion, and ambient refractive index were measured. The strain and the torsion sensitivities were measured to be $-0.033\;dB/\mu\varepsilon$ and -1.30 nm m/rad, respectively. The ambient index sensitivity was measured to be -31.33 nm/RIU from a range from 1.33 to 1.42.

A Systematic Approach for Selective Epitaxial Growth of Silicon using Transport Phenomena, Thermodynamics, and Microscopic Simulation (이동현상, 열역학, 미시적 이론 연구릉 통한 선택적 단결정 실리콘 성장공정의 전산모사)

  • 윤종호;박상규
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.3 no.4
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    • pp.466-481
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    • 1994
  • 차세대 집적회로 제조공정에 있어 핵심기술인 선택적 단결정 실리콘 성장공정에 대한 이동현상, 열역학, 미시적 전산모사를 수행하여 다각적인 분석과 이해를 시도하였다. 첫째, 실리콘 단결정 성장 공 정에 가장 많이 사용되는 배럴 반응기를 대상으로 유한 요소법을 이용하여 이동현상적 이론연구를 수행 하였다. 반응기내의 기체속도 분포, SiH2Cl2 농도분포를 각각 구하였으며 압력, 기판온도, 총유량 HCl 유 량변화 등의주요공정변수가 증착율과 균일도 지수에 미치는 영햐을 고찰하였다. 이러한 연구를 통하여 저온, 저압, 총유량이 많고 첨가되는 HCl 유량이 작은 경우가 균일도 확보를 위하여 적합한 조업조건임 을 알수 있었다. 둘째 Si-H-Cl 계에 대한 열역학적 기체의 Cl/H비가 낮은 경우가 선택적 실리콘 증착 에 적합함을 알수 있었다. 셋째, Monte Carlo법을 이용한 선택적 실리콘 미세박막 성장패턴에 관한 이 론 연구를 수행하여 종횡비, 재방출, 표면확산에 따른 박막증착 패턴의 변화를 고찰하였으며 표면확산이 선택도 상실 현상의 중요한 원인이 될 수 있음을 발견하였다. 또한 최상의 선택도 확보를위해서는 낮은 부착계수와 낮은 표면확산계수를 유지해야 됨을 알수 있었다.

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Surface Modification for Improving Adhesion between Etching Resist and Copper Substrate (Etching resist와 Copper substrate 간의 Adhesion 향상을 위한 표면개질)

  • Park, Sung-Jun;Seo, Shang-Hoon;Kim, Yong-Sik;Kim, Tae-Gu;Lee, Sang-Gyun;Joung, Jae-Woo
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2006.06a
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    • pp.129-129
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    • 2006
  • 인쇄회로를 제작하기 위하여 기판상에 에칭 레지스트, 도금막, 절연재료, 솔더 마스크 등을 패터닝 하게 되는데, 일반적으로 이러한 유기체 막들은 대부분 액상이나 고형의 필름 형태로 패턴을 형성하게 된다. 형성된 패턴과 동박과의 접착력 향상이 가장 주요한 문제점 중의 하나이다. 상대적으로 편평한 동박면과 유기체 막과의 접착력을 향상시키기 위해 일반적으로 접촉 면적을 증가시키기 위한 표면개질을 하게 된다. 기계적 브러싱이나 스크러빙에 의해서도 기판상의 동박의 surface topography 를 개선하기 위한 노력이 시도 되고 있지만, 본 연구에서는 microetching 방법에 의해서 화학적으로 동박 표면상에 최대한 요철을 많이 형성하여 에칭 레지스트와 동박 간의 접착력을 증대시키기 위한 연구를 수행하였다.

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Sliding Friction Properties of Laser Surface Dimple Patterned on PMMA under Saline Lubricated (레이저 표면 딤플 패턴된 PMMA 소재 표면의 식염수 윤활 하에서의 미끄럼 마찰특성)

  • Dongho Hyun;Younghun Chae;Da-I Jung
    • Tribology and Lubricants
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    • v.39 no.4
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    • pp.148-153
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    • 2023
  • Laser surface dimple patterning is a method of laser surface texturing to reduce lubrication sliding friction. The dimple pattern improves friction properties by reserving lubricant and trapping worn particles. This surface texturing technology can reduce coefficients of friction and extend the service life by applying a uniform load to the surface of the material. This study investigates the friction properties using PMMA, a highly compatible polymer material, as a specimen. We observe the friction properties of untextured specimens by processing specimens with dimple pattern densities of 5 and 10 on the surface area using laser. Dimple pattern density affects the coefficient of friction. We present the following friction property results using a pin-on-disc sliding friction test under saline lubrication. The coefficients of friction for the dimple patterned specimens are lower than those for the untextured specimens. As the normal load and sliding speed increase, the coefficients of friction of the dimple pattern specimens decrease differently from those of the untextured specimens. The specimen with a dimple pattern density of 5 at a normal load of 24.5 N and a sliding speed of 0.22 m/s has the best friction properties. Notably, different friction properties are exhibited depending on the dimple pattern densities.