유전자 재조합 기술을 통하여 유용한 유전자를 세포내로 이전시키거나 세포 수준에서 육종선발을 하기 위한 기술로서 원형질체를 나출, 배양하고 재분화시키는 과정과 세포주를 확보하기 위하여 실험한 결과를 요약하면 다음과 같다. 1. 원형질체 나출을 위한 잎의 표면 소독은 sodium hypochloride 2 %에서 3분간 침지하는 것이 소독율이 높았다. 2. 원형질체 나출 최적 효소농도는 cellulase 2 %와 macerozyme 0.5 %의 혼용이다. 3. 원형질체의 배양밀도는 1.4 - 2.0 $\times$$10^4$/$m\ell$에서 치상효율이 높았다. 4. 배양배지는 배지 1에서 제일 양호하였다. 5. 배양 2 일 후에는 세포격이 완전히 재생되고 배양 4 일 후에는 세포분열이 시작되었다. 배양 2주 후에는 세포 덩어리를 형성하고 3주 후에는 육안으로 볼 수 있는 colony를 형성하였다. 6. Shoot 분화 배지에 치상한 calli는 치상후 25 일에 bud가 나타나기 시작하였다. Shoot분화에는 BA 1 -2 mg/$\ell$로 첨가한 경우 shoot분화율이 높았다. 7. 발근은 홀몬이 첨가되지 않은 MS 배지에서 양호하였고 현재 100여 개의 세포주에서 종자를 수확하였으며 차후 세포주의 특성과 변이성등을 조사할 계획이다.
The purpose of the study was to determine whether Sodium hypochlorite and Glutaraldehyde would be effective for the surface disinfection of contaminated radiographic film pockets with saliva The following results were as obtained 1. Proper times for surface disinfection of 2.0% Glutaraldehyde and 3.5% Sodium hypochlorite were 60 seconds. 2. When films were immerged in 2% Glutaraldehyde solution for 1 minute, baterial colonies were present in 24 cases(80%). 3. When films were immerged in 3.5% Sodium hypochlorite solution for 1 minute, bacterial colony was absent in 25 cases(83.3%). 4. Differences of effectiveness on surface disinfection between 2% Glutaraldehyde and 3.5% Sodium hypochlorite were statistically significant.
We propose a task and motion planning algorithm for clearing obstacles and wiping surfaces, which is essential for surface disinfection during the pathogen disinfection process. The proposed task and motion planning algorithm determines task parameters such as grasping pose and placement location during the planning process without using pre-specified or discretized values. Furthermore, to quickly inspect many unit motions, we propose a motion feasibility prediction algorithm consisting of collision checking and an SVM model for inverse mechanics and self-collision prediction. Planning time analysis shows that the feasibility prediction algorithm can significantly increase the planning speed and success rates in situations with multiple obstacles. Finally, we implemented a hierarchical control scheme to enable wiping motion while following a planner-generated joint trajectory. We verified our planning and control framework by conducted an obstacle-clearing and surface wiping experiment in a simulated disinfection environment.
본 연구의 목적은 재생된 니켈-티타늄 호전의 인장물성, 표면거칠기와 마찰력의 변화를 조사하여, 임상적으로 니켈티타늄 호선을 재생하여 사용하는 것이 타당한지를 알아보는 것이다. 수종의 니켈-티타늄 호선과 스테인레스 스틸호선을 처리전(T0: 대조군)과 인공타액에 4주간 처리한 군(T1), 그리고 인공타액 처리후 가압증기 멸균소독한 군(T2)으로 구분하여 인장실험과 주사전자현미경, 3D profilogram을 통한 표면거칠기의 변화와 마찰계수의 변화를 관찰하여 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. 인장실험을 하여 최대인장강도, 연신율, 탄성계수를 관찰한 결과 모든 니켈-티타늄 호선에서 재생과정 후에 대조군과 유의한 차이를 보이지 않았다(p<0.05). 단 스테인레스 스틸 호선은 재생과정 후에 최대인장강도, 연신율, 탄성계수에서 통계적으로 유의한 변화를 보였다(p<0.05). 2. 주사전자현미경을 통한 관찰에서 재생후에 Sentalloy를 제외한 호선에서 표면의 점부식(pitting)과 압흔(indentation)이 증가하였다. 3. 3D profilogram을 사용하여 관찰한 표면거칠기(Ra와 Rq)의 변화를 살펴보면, 재생과정 후에 Sentalloy를 제외한 NiTi, Optimalloy, 스테인레스 스틸 호선에서 통계적으로 유의하게 표면거칠기가 증가하였다(p<0.05). 4. 재생과정 후에 시행한 마찰력 실험에서는 최대운동마찰계수가 Sentalloy를 제외한 NiTi, Optimalloy, 스테인레스 스틸호선에서 통계적으로 유의하게 증가하였다(p<0.05). NiTi, Optimalloy의 표면거칠기와 마찰계수의 변화는 임상적으로 영향을 미칠 정도는 아니며, 결과적으로 니켈-티타늄 호선을 재생하면, 인장실험시의 물성과 표면거칠기, 마찰계수의 변화가 임상적으로 문제가 없을 것으로 생각된다.
본 연구의 목적은 수종의 nickel titanium 호선을 열멸균 처리 하였을 때 나타나는 물리적성질과 표면상태의 변화를 정량적으로 평가하고자 하는 것이다. 연구에 사용된 재료는 국산제품을 포함한 4종의 .$016\times.22$ 각형 nickel-titanium호선이며, 이들을 건열소독($180^{\circ}C$, 60분)군과 가압증기멸균($121^{\circ}C$, 15-20 psi, 30분)군, 그리고 아무런 처리를 하지 않은 대조군으로 구분하였다. 인정특성은 Inston (Model 4466, load cell capacity:1000kg)을 이용하여 표점거리 40mm, cross head는 분당 5mm의 속도, 실온의 조건에서 평가하였으며 쳐대인장강도와 연신율, 그리고 탄성률을 측정 및 계산하였다. 표면상태는 주사전자현미경과 profilometer로써 평가하였고, 1-test를 이용하여 통계적 분석을 하였다. 결과는 다음과 같다. 1. 실험에 사용된 nickel-titanium호선들은 모두 두가지 열멸균 처리에 의해 인장특성에 있어서 유의할 만한 변화를 보이지 않았다/ 2. 대조군에서 NiTi가 가장 높은 펴ㅛ면거칠기를 보였고, Align과 Sentalloy는 동일한 정도의 값을, Optimalloy는 가장 낮은 값을 지니고 있었다. 3. Align과 Optimalloy는 두가지 열멸균처리 후에 모두 유의할 만한 표면상태의 변화를 보이지 않았다. 그러나 NiTi는 건열소독후에 표면거칠기의 증가를 보였으며 Sentalloy는 두가지 열멸균후에 표면상태의 변화와 표면거칠기의 유위한 증가를 보였다.
영상의학과의 일반방사선 촬영실의 2차 원내감염(교차감염)의 방지를 위해 방사선사, 환자와 직접적인 밀접접촉부분의 미생물을 측정하였다. 방사선사 측은 방사선 발생장치의 엑스선튜브 손잡이, 환자측은 턱받침대, 가슴닿는 곳, 손잡이를 중심으로 미생물을 측정하여 배양하였다. 에니오설프로 소독한 후 멸균배지를 이용해 수합하고 동정하여 미생물을 확인하였다. 동정결과 방사선사 측은 Proteus mirabilis, Staphylococc us epidermidis, Bacillus spp., Candida spp., 103CFU, 환자측은 Proteus mirabilis, Enterococcu faecium, Pseudom onas aeruginosa, NTM, Candida spp. 가 103~5 CFU 검출 되었으며 환자측에서 수합된 미생물의 종류와 수가 더 많이 관찰되었다. 다행히 해당되는 미생물은 대부분 피부표면에 있는 것들로 관찰되었으며 원내감염관리 규칙에 의거하여 소독한다면 대부분 사멸하는 것으로 알려져 있지만 면역력이 떨어진 환자의 경우 소량의 노출로도 치명적일 수 있으므로 주의해야 한다. 특히, 환자와 접촉한 부분의 미생물이 높게 측정된 것을 보아 방사선사 및 수시출입자 등은 환자와 접촉이 잦은 기구 및 손잡이 등의 부분에 대해 소독을 철저히 해야 할 것으로 사료된다. 기존 에니오설프 연구를 기반으로 현재연구를 확대하여 원내 방사선 검사실의 미생물 안전관리의 중요성을 알리는 목적으로 조사하였고 병원 2차 및 N차 감염병 예방을 위한 기본적인 자료가 될 수 있을 것이다.
본 연구에서는 치과 의료기관에서의 감염관리 실태와 치과위생사의 감염관리 실천도를 조사하여 효율적인 감염관리 실천 및 방안을 마련하고자 조사하였다. 경기, 인천지역의 치과병원19곳과 치과의원 28곳의 치과위생사 193명을 조사한 결과, 기공물 소독관리는 인상체와 교합체를 병원급에서만 52.6%, 치과 보철물을 소독하는 경우에는 의원급에서만 46.4%가 소독하는 것으로 나타났다. 수관에서 환자 진료 후나 아침에 진료를 시작하기 전에 병원급 26.3%, 의원급 25%가 물을 빼지 않는 것으로 나타났다. 각 병원과 의원의 유니트 체어의 어깨 등받이의 경우 병원급은 $5.02^*10\^3CFU/mL$, 의원급은 $1^*10\^4CFU/mL$의 세균이 검출 되었다. 라이트 손잡이는 병원급은 $8.32^*10\^3CFU/mL$, 의원급은 $4.26^*10\^4CFU/mL$의 세균이 검출되었다. 다양한 박테리아와 바이러스에 노출되기 쉬운 치과 의료기관에서 스스로를 감염원으로부터 지킬 수 있는 방법은 개인방호용품의 올바른 선택과 사용, 무엇보다도 정기적이고 적극적인 교육이 필요하며 통일된 감염방지실천이 필요하다.
본 연구는 축산물가공공장에서의 살균소독 방법제의 효능을 평가하기 위해 주요 육가공기계 표면인 stainless steel 표면 test와 실제 축산물가공공장 적용 시험을 실시하였다 네 가지 식품위해 세균을 대상으로 simulation한 결과, E. coli, S. aureus, S. Typhimurium에 대하여는 hydrogen peroxide(1,100ppm), iodophor(25ppm) 사용 시 각각 3.5, 3.4, 3.0 log 정도의 균 감소를 보여 살균효과가 가장 컸으며, L. monocytogenes에 대해서는 quaternary ammonium compounds(200 ppm), hydrogen peroxide(1,100 ppm), iodophor(25 ppm)가 가장 좋은 약 2.8 log의 균 감소효과를 나타냈다. 대체적으로 alcohol(70%)의 효과가 가장 낮았고, hydrogen peroxide(1,100 ppm), iodophor(25 ppm)가 비슷한 수준으로 살균효과가 가장 높은 것으로 나타났다. 공장에서는 peroxy compounds와 quaternary ammonium compounds를 적용한 결과, 총균수와 대장균군수 모두 물세척에 비해 큰 균 감소효과를 볼 수 있었다.
본 연구는 polyvinyl chlroride (PVC)와 stainless steel 표면에서 B. cereus의 온 습도에 따른 생존율을 조사하고, B. cereus이 오염된 작업대 표면에서 상추로의 교차오염도 조사를 통하여 B. cereus에 오염된 작업대가 상추의 미생물학적 안전성에 미치는 영향을 평가하고자 수행하였다. 작업대 재질별 B. cereus의 생존은 온도 $20^{\circ}C$, $30^{\circ}C$, 습도 43%, 69%, 100%에서 각각 노출 시켰을 때, 습도 43%, 69% 조건에서 24시간 이내에 전체 세포수는 약 3.53~4.00 log CFU/coupon이 감소한데 반해 포자수는 약 3.00 log CFU/coupon 수준을 일정하게 유지하였다. 한편 온도 $30^{\circ}C$, 상대습도 100%에서는 노출 12시간 후에 포자수가 2.29~2.59 log CFU/coupon정도 증가하였다. 유기물이 작업대 표면에 존재 시, B. cereus의 감소 속도가 느렸다. B. cereus에 오염된 작업대에 상추를 접촉시키고 상추의 오염도를 조사한 결과, 상추 표면에 수분이 존재할 때 B. cereus오염된 작업대 표면에서 B. cereus의 이동수준이 상추에 수분이 없을 때 보다 10배 이상 증가하는 것으로 나타났다. 따라서 B. cereus에 오염된 작업대는 상추의 안전성에 직접적인 영향을 미칠 수 있어 작업 후에 세척, 소독을 통하여 작업대를 위생적으로 관리하는 것이 필요하다.
최근 플라즈마 의학이 발달하면서 제트, 펜, 니들, 토치 등의 다양한 형태의 플라즈마 발생기가 개발되었으며 내부의 가스라인으로 가스의 종류, 유속, 조성 등을 조절하여 생물학적 효과를 극대화 할 수 있고 안정적으로 플라즈마 방전상태를 유지할 수 있으나 처리 면적이 좁아 실제 생물학적 시스템 (세포, 조직, 그리고 박테리아) 적용에 있어 한계점이 존재한다. 이러한 한계점을 극복하기 위해서 유전체격벽방전 (Dielectric barrier discharge, DBD) 방식을 이용한 플렉서블 활성종 발생기를 제작하고 생물학적 시스템에 적용하기 위한 방전 특성 평가를 진행하였으며, 간단한 in vitro 모델인 한천 젤을 이용하여 플라즈마 처리에 따른 전달물질의 침투거리를 확인하였다. 플라즈마 방전 시 생성되는 수산화기 [OH], 과산화수소 [$H_2O_2$], 초산소음이온 [$O_2{^-}$], 오존 [$O_3$], 그리고 산화질소 [$NO_x$]와 같은 산소 및 질소 활성종 (Reactive oxygen and nitrogen species, RONS)은 세포벽 또는 세포막의 주요 구성성분인 다당류와 인지질의 과산화 반응을 통해 구조를 변화시키고 생물학적 시스템의 표면의 pH를 낮춘다. 이러한 RONS의 작용은 살균, 소독 뿐만 아니라 약물의 침투를 돕는다. 일반적으로 한천 겔은 농도에 따라 생체 내 뇌 조직과 물리적 특성이 유사하고, 미생물학 기질, 방사선학 연구를 위한 조직모델로 사용되기 때문에 본 연구에서는 3%와 5% 농도의 한천 젤을 사용하여 침투거리를 확인하였다. 한천 젤은 $2.5{\times}2.5{\times}2.5cm^3$의 크기로 준비되었고 대조군으로 염료가 포함된 에멀젼을 0.01 g 도포하고, 실온에서 30분간 보존 후 단면을 잘라 현미경으로 침투거리를 확인하였으며, 실험군으로 플라즈마 전처리 후 에멀젼을 도포한 시표와 에멀젼 도포 후 플라즈마 처리한 시료에 대해 에멀젼 침투거리의 변화를 확인하였다. 본 연구의 플렉서블 활성종 발생기는 인체에 부착하여 사용되기 때문에 화상, 홍반을 유발을 방지하기위해 $40^{\circ}C$의 온도에서 실험을 진행하였고 이때에 플라즈마 방전조건은 $0.065W/cm^2$ 수준의 전력을 소모하는 1.7 kV의 전압, 16 kHz의 주파수로 10분간 처리하였다. 그 결과 3%의 한천 젤의 경우 침투거리 0.779 mm에서 0.826 mm, 0.942 mm까지 침투거리가 증가하였고 5%의 한천 젤의 경우 0.859 mm, 0.949 mm로 증가하였다. 이러한 침투거리 증가는 젤 표면의 다당류를 구성하고 있는 단량체가 플라즈마 처리시 화확적 구조가 끊어져 결론적으로 약물 침투가 증가된 것으로 판단된다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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