• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 1996.11a
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• pp.342-345
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• 1996

This paper presents the basic characteristics of thin-film strain gauges using Cr thin-films, in which the Cr thin-films were deposited by DC magnetron sputtering. The optimized deposition conditions as a strain gauge were the input DC power was 7 W/$\textrm{cm}^2$ and the Ar vacuuming pressure was 9 mTorr. The characteristics of fabricated Cr thin-film strain gauge were the gauge factor(GF) was 5.86 in longitudinal strain and -2.04 in transverse one, the TCR was under 400 ppm/$^{\circ}C$ and the TCS was around 0 ppm/$^{\circ}C$.

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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• 2004.06a
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• pp.84-85
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• 2004

• Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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• 2005.05a
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• pp.84-88
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• 2005

본 연구에서는 백색광원용 조명램프에 필요한 고밀도로 집적된 LED 어레이를 제작하기 위하여 반도체제조 공정에 필요한 포토마스크를 AutoCAD 상에서 설계하였으며 레이저 리소그래피 장비를 이용하여 포토마스크를 제작하였다. 웨이퍼상에 LED칩을 개별적으로 제작한 후 이들을 직렬 및 병렬로 금속배선하여 연결하였다. 특히 AutoCAD로 각 공정의 포토마스크 패턴을 설계 작업한 후 DWG 파일을 DXF 파일로 변환하여 레이저빔으로 스캔닝하였다. 이를 소다라임 유리판 위에 크롬을 증착한 후 각 패턴에 맞추어 식각 함으로써 포토마스크를 제작하였다. 또한 2인치 InGaN/GaN 다중 양자우물구조의 광소자용 에피박막이 증착된 사파이어 웨이퍼에 포토마스크를 활용하여 반도체 제조공정을 수행하였으며, 금속배선된 백색LED램프를 제작하였다.

• Journal of Surface Science and Engineering
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• v.37 no.3
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• pp.175-178
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• 2004

The size and number of nano-size defects of thin trivalent chrome layers were determined by small angle neutron scattering (SANS) without breaking the thin chrome layers. Most of defect size of the trivalent chromium prepared in this test conditions is in the range of about 40nm. The number of nano-size defects less than about 40nm of the trivalent chromium layer increases with plating voltage at constant current density From this study, SANS is proved as one of useful techniques to evaluate nano-size defects of thin film layer.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 1999.05a
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• pp.692-695
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• 1999

This paper presents annealing characteristics of CrN thin-film strain gauges, which were deposited on glass by DC reactive magnetron sputtering in an argon-nitrogen atmosphere)Ar-(5-~25%)$N_2$. The physical and electrical characteristics of these films investigated with the thickness range 3500$\AA$ of CrN thin films, annealing temperature (100~30$0^{\circ}C$) and annealing time (24-72hr) . The optimized condition of CrN thin-film strain gauges were thickness range of 3500$\AA$ and annealing condition(30$0^{\circ}C$ , 48hr) in Ar-10%$N_2$ deposition atmosphere. Under optimum conditions, the CrN thin-films for strain gauge is obtained a high resistivity, $\rho$=1147.65$\Omega$cm a low temperature coefficient of 11.17. And change in resistance after annealing for the CrN thin film were quitely linear and stable.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2000.02a
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• pp.53-53
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• 2000

반도체 산업에서 유기물질의 응용에 많은 관심을 나타내고있으며, 그 응용의 예로는 발광 다이오드(light emitting diode)와 박막트랜지스터(thinfilm transistor)가 주를 이루고 있다. 이러한 유기 물질을 이용하면 소자의 제작 공정의 단순화와 제작 가격을 낮출 수 있는 이점을 기대할 수 있다. 본 연구에서는 유리 기판 위에 pentcence 다이오드를 제작하였다. 유리 기판 위에 silicon dioxide를 PECVD으로 성막하였다. 전극으로는 Ohmic contact를 이루기 위해 금(Au)을 사용하였으며 schottky contact을 이루기 위해서 알루미늄(Al), 인듐(In), 크롬(Cr), 은(Ag), 금(Au)을 각각 사용하였다. 소자의 활성 층으로는 pentcene을 가장 단순한 열 증착법으로 성막하였고, 진공도는 10-8Torr를 유지하였으며 성막 속도는 0.3 $\AA$/sec로 성막하였다. 제작된 소자들은 $\alpha$-step, I-V, C-V, AFM, IR등을 이용하여 측정, 분석하였다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2016.02a
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• pp.213-213
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• 2016

현재 반도체 산업에서는 디바이스의 고 집적화, 고 수율을 목적으로 패턴의 미세화 및 웨이퍼의 대면적화와 같은 이슈가 크게 부각되고 있다. 다중 패터닝(multiple patterning) 기술을 통하여 고 집적 패턴을 구현이 가능해졌으며, 이와 같은 상황에서 각 패턴의 임계치수(critical dimension) 변화는 패턴의 위치 및 품질에 큰 영향을 끼치기 때문에 포토마스크의 임계치수 균일도(critical dimension uniformity, CDU)가 제작 공정에서 주요 파라미터로 인식되고 있다. 반도체 광 리소그래피 공정에서 크롬(Cr) 박막은 사용되는 포토 마스크의 재료로 널리 사용되고 있으며, 이러한 포토마스크는 fused silica, chrome, PR의 박막 층으로 이루어져 있다. 포토마스크의 패턴은 플라즈마 식각 장비를 이용하여 형성하게 되므로, 식각 공정의 플라즈마 균일도를 계측하고 관리 하는 것은 공정 결과물 관리에 필수적이며 전체 반도체 공정 수율에도 큰 영향을 미친다. 흔히, 포토마스크 임계치수는 플라즈마 공정에서의 라디칼 농도 및 식각 선택비에 의해 크게 영향을 받는 것으로 알려져 왔다. 본 연구에서는 Cr 포토마스크 에칭 공정에서의 Cl2/O2 공정 플라즈마에 대해 O2 가스 주입량에 따른 식각 선택비(etch selectivity) 변화를 계측하여 선택비 제어를 통한 Cr 포토마스크 임계치수 균일도 향상을 실험적으로 입증하였다. 연구에서 사용한 플라즈마 계측 방법인 발광분광법(OES)과 optical actinometry의 적합성을 확인하기 위해서 Cl2 가스 주입량에 따른 actinometer 기체(Ar)에 대한 atomic Cl 농도비를 계측하였고, actinometry 이론에 근거하여 linear regression error 1.9%을 보였다. 다음으로, O2 가스 주입비에 따른 Cr 및 PR의 식각률(etch rate)을 계측함으로써 식각 선택비(etch selectivity)의 변화율이 적은 O2 가스 농도 범위(8-14%)를 확인하였고, 이 구간에서 임계치수 균일도가 가장 좋을 것으로 예상할 수 있었다. (그림 1) 또한, spatially resolvable optical emission spectrometer(SROES)를 사용하여 플라즈마 챔버 내부의 O atom 및 Cl radical의 공간 농도 분포를 확인하였다. 포토마스크의 임계치수 균일도(CDU)는 챔버 내부의 식각 선택비의 변화율에 강하게 영향을 받을 것으로 예상하였고, 이를 입증하기 위해 각각 다른 O2 농도 환경에서 포토마스크 임계치수 값을 확인하였다. (표1) O2 11%에서 측정된 임계치수 균일도는 1.3nm, 그 외의 O2 가스 주입량에 대해서는 임계치수 균일도 ~1.7nm의 범위를 보이며, 이는 25% 임계치수 균일도 향상을 의미함을 보인다.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 1999.07d
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• pp.1989-1991
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• 1999

This paper presents characteristics of CrN thin-film strain gauges, which were deposited on glass by DC reactive magnetron sputtering in an argon-nitrogen atmosphere(Ar-$(5{\sim}25%)N_2$). The physical and electrical characteristics of these films investigated with the thickness range $3500{\AA}$ of CrN thin films, annealing temperature $(100{\sim}300^{\circ}C)$ and annealing $(24{\sim}72hr)$. The optimized condition of CrN thin-film strain gauges were thickness range of $3500{\AA}$ and annealing condition($300^{\circ}C$, 48 hr) in Ar-10 %$N_2$ deposition atmosphere. Under optimum conditions, the CrN thin-films for strain gauge is obtained a high resistivity, ${\rho}=1147.65{\mu}{\Omega}cm$, a low temperature coefficient of resistance, TCR=$-186ppm/^{\circ}C$ and a high temporal stability with a good longitudinal, 11.17. And change in resistance after annealing for the CrN thin-films were quitely linear and stable.

• Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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• v.40 no.2
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• pp.81-86
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• 2003

To measure the pressure using semiconductor type pressure sensor in water or chemical solution, the sensor must be protected from the solution using proper packaging materials. stainless steel isolated type pressure sensor packaged with SUS316 can be widely used to measure the pressure in water or chemical due to its high corrosion-resistance and good performance in tensility and welding. Even if the surface of SUS316 has a plenty of nickel and chromium, the SUS316 is highly corrosive in acidic or alkaline solution. We coated parylene and adhesion promoting copper layer are 5${\mu}{\textrm}{m}$ and 200nm, respectively. The parylene coated stainless steel pressure sensor showed good anti-corosive characteristics in various strong acids. The accuracy of pressure sensor wasn't varied after parylene coating with 0.5%FSO.

• Journal of Sensor Science and Technology
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• v.14 no.1
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• pp.56-61
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• 2005

This paper present characteristics of chromium oxide thin-film as piezoresistive sensors, which were deposited on Si substrates by DC reactive magnetron sputtering in an argon-Oxide atmosphere for high temperature applications. The chemical composition, physical and electrical properties and thermal stability ranges of the $CrO_{x}$ sensing elements have studied. $CrO_{x}$ thin films with a linear gauge factor(GF${\fallingdotseq}$15), high electrical resistivity (${\rho}$ = $340{\mu}{\Omega}cm$) and TCR<-55 ppm/$^{\circ}C$ have been obtained. These $CrO_{x}$ thin films may allow high temperature pressure sensor miniaturization to be achieved.