• 한국표면공학회:학술대회논문집
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• 한국표면공학회 2011년도 춘계학술대회 및 Fine pattern PCB 표면 처리 기술 워크샵
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• pp.55-55
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• 2011

자동차 후드, 라디에이터그릴(R/Grill), 범퍼, 아웃도어핸들 등 도장 도금 부품소재의 치핑시험법을 재정립 하였다. 시간에 따른 열화(100~1500hr)에 따라 도막 경도, 탄성율, Tg, 층간 부착성 등 물리적 특성 관찰하였고 제논시험기를 이용하여 재현시험을 행하였다. 국내에서 유일한 싱글/멀티 치핑기에 의한 치핑인자(속도, 비석, 각도 등) 분석 및 실제 주행차량의 분석을 통한 치핑의 주요원인을 밝혀냈다. 외산과 국산을 비교하여 속도별 치핑현상을 파악하였고, 마모 마찰열의 상승을 최소화와 원마도(R)의 최적조건을 찾아내었다.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 2006년도 제37회 하계학술대회 논문집 C
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• pp.1659-1660
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• 2006

After end of the 20th environmental problem was became issue. So about mercury free lighting sources are being studied very much. In this paper, a mercury and electrode free bulb was designed. in this bulb was injected mixed of Xe, Ne and Kr Gases. and then the bulb was discharged by 13.56MHz RF Power after spectrum, color coordinates and brightness were measured by spectrum meter CS-1000. Measured results were compared and analyzed, also analysis was able to do a characteristic of a gas defensive fight in proportion to a mixing ratio. Therefore the most of high brightness which was 4500cd/m2 was gained in 1:1 ratio of Xe:Ne at 60W input power.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 2005년도 제36회 하계학술대회 논문집 C
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• pp.2418-2420
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• 2005

In this paper, parameters of electron temperature and density for the mercury-free lighting-source were measured to diagnosis and analyze in Xe based inductively coupled plasma(ICP). In results at several dependences of $20{\sim}100mTorr$ Xenon pressure, $50{\sim}200W$ RF power and horizontal distribution were especially mentioned. When Xe pressure was 20mTorr and RF power was 200W, the electron temperature and density were respectively 3.58eV and $3.56{\times}10^{12}cm^{-3}$. The key parameters of Xe based ICP depended on Xe pressure more than RF power that could be verified. A high electron temperature and low electron density with a suitable Xe pressure are indispensible parameters for Xe based ICP lighting-source.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2006년도 추계학술대회 논문집 광주전남지부
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• pp.71-74
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• 2006

Discharge of the flat lamp lighting source research arc requested very much. For improving brightness, life time, efficiency of flat lamp, plasma diagnosis of the flat lamp lighting source to understand property of lighting source is very important. distance of discharge electrode is 5.5mm and width is 16.5mm, we measured electron temperature and electron density measured with single langmuir probe in flat lamp. we tested the discharge from 100 Torr to 300 Torr pressure. the Pulse is rectangular pulse with frequency 20kHz and Duty ratio 20%. Resultly, electron temperature decreases and electron density increase as increase the gas pressure and electron temperature decreases and electron density increase as increase the voltage.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2006년도 추계학술대회 논문집 광주전남지부
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• pp.43-47
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• 2006

In this paper, parameters of electron temperature and density for the mercury-free lighting-source were measured to diagnosis and analyze in Xe based inductively coupled plasma (ICP). As results at several dependences of 20~100mTorr Xenon pressure, the brightness of discharge tube was higher (4,900 $cd/m^2$) than other conditions when Xe pressure was 20mTorr and RF power was 200W. In that case, the electron temperature and density were 3.58eV and $3.56{\times}10^{12}cm^2$, respectively. The key parameters of Xe based ICP depended on Xe pressure more than RF power that could be verified. A high electron temperature and low electron density with a suitable Xe pressure are indispensible parameters for Xe based ICP lighting-source.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 2005년도 제36회 하계학술대회 논문집 C
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• pp.2190-2192
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• 2005

Discharge of the flat lamp lighting source research are requested very much. For improving brightness, life time, efficiency of flat lamp, plasma diagnosis of the flat lamp lighting source to understand property of lighting source is very important. distance of discharge electrode is 5.5mm and width is 16.5mm, we measured electron temperature and electron density measured with single langmuir probe in flat lamp. we tested the discharge from 100 Torr to 300 Torr pressure. the Pulse is rectangular pulse with frequency 20kHz and Duty ratio 20%. Resultly, electron temperature decreases and electron density increase as increase the gas pressure and electron temperature decreases and electron density increase as increase the voltage.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2005년도 하계학술대회 논문집 Vol.6
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• pp.572-573
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• 2005

Discharge of the flat lamp lighting source research are requested very much. For improving brightness. life time. efficiency of flat lamp and plasma diagnosis of the flat lamp lighting source to understand property of lighting source is very important. When a distance of discharge electrode is 5.5mm and width is 16.5mm. we measured electron temperature and electron density measured with single Langmuir probe in flat lamp. We tested the discharge from 100 Torr to 300 Torr pressure. The pulse type was rectangular with frequency 20kHz and duty ratio was 20%. In result. electron temperature decreases and electron density increased as increase the gas pressure and electron temperature decreases and electron density increase as increase the voltage.

• 대한치과교정학회지
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• 제36권3호
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• pp.198-206
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• 2006

제논 플라즈마 아크 광중합기나 LED 광중합기가 치과영역에 소개된 이후로 기존의 텅스텐 할로겐 광중합기를 사용할 때에 비해 교정장치의 부착시간이 현저하게 줄어들 수 있게 되었다. 제논 플라즈마 아크 광중합기에 대한 중합시간과 전단강도에 대해서는 여러 연구가 있어왔던 반면, LED 광중합기를 이용하여 교정용장치의 부착을 위한 중합시간에 대한 연구는 미진하다. 본 연구의 목적은 LED 광중합기의 중합시간에 따른 결합강도를 플라즈마 아크 광중합기와 비교하여 적절한 브라켓의 부착강도를 얻기 위해 요구되는 중합시간을 알아보는데 있다. 120개의 발치된 사람의 소구치에 컴포짓 레진으로 브라켓을 부착시킨 후 4초, 6초, 8초 동안 플라즈마 아크 광원과 LED 광원으로 각각 중합시켰다. 그 후 결합강도를 만능시험기(Universal Testing Machine)로 계측한 결과, 플라즈마 아크 광중합기에서는 4초 이상에서, LED 광중합기에서는 8초 이상의 중합시간에서 기존의 할로겐 광원을 40초간 노출시켰을 때와 비슷한 전단결합강도를 나타내었다. 플라즈마 아크 광중합기와 LED 광중합기의 중합시간이 접착제 잔류지수 (adhesive remnant index) 수치에 대해 영향을 미치지 않았다.

• 공업화학
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• 제21권4호
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• pp.401-404
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• 2010

GDC (Gadolinium doped ceria) 펠렛에 120 keV 및 5 MeV 에너지의 양성자 또는 제논 이온을 주입하였으며, 그 영향을 UV-vis 분광계, SEM 및 XRD를 이용하여 측정하였다. GDC 펠렛은 cubic fluorite 구조를 갖는 조밀한 소결체였으며, 갈색이었던 펠렛이 이온빔을 조사한 후 옅은 검은색을 띠기 시작하였으며, fluence가 증가함에 따라 색도 짙어졌다. XRD 패턴은 이온의 에너지 및 X선의 투과 깊이와 밀접한 관계가 있었으며, 120 keV의 양성자 빔을 조사한 표면 바로 아래층은 이온의 주입으로 결정 구조는 유지한 채 격자 상수가 증가하였다는 것을 관찰하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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• pp.202-202
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• 2016

홀 플라즈마 엔진은 인공위성의 궤도유지 및 자세제어 등의 임무수행이나 우주선의 심우주 활용에 있어 필수적인 핵심 우주 부품이다. 홀추력기 연구개발의 최근 큰 관심사는 추력기의 장시간 운전성 확보 및 방전효율 향상이다. 최근 고리형 홀추력기에서 방전 영역 내 플라즈마와 유전체 벽 간의 충돌을 줄임으로써 전극 손상 및 전자온도 손실을 감소시키기 위한 연구가 활발히 진행되고 있다. 특히 전자석 코일을 활용해 방전 채널 벽면과 평행한 방향의 자기장을 형성하여 플라즈마와 유전체 벽 간의 상호작용을 감소시키는 연구들이 소개되고 있으며, 이러한 방법을 자기차폐(magnetic shielding)라 한다. 본 연구에서는 자기차폐 개념이 적용된 방전 소모전력 500 W급 고리형 홀추력기의 방전 및 추력 발생 특성을 연구하였다. 자기장구조 제어를 통해 유전체 벽과 플라즈마 간 상호작용을 감소시킨 결과, 500 V 수준의 방전 전압에서도 유전체 벽에서의 이차전자 발생에 의한 방전전류의 급격한 증가없이 안정적인 방전이 가능하였으며, 이러한 방전 형태는 기존의 자기차폐 개념이 적용되지 않은 일반 고리형 홀 추력기에서 구현하기 어려운 방전 상태이다. 추력기의 자기장 구조 최적화 조건에서 제논 가스 방전을 통해 얻은 최대 추력은 $22{\pm}1mN$, 비추력 $2200{\pm}70s$, 양극효율 $51{\pm}2%$로 매우 우수한 성능을 보여 주었다