• Title/Summary/Keyword: 정밀 저항

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A Development of Hand Held Type Surface Resistance Meter (휴대용 표면저항 측정기 개발)

  • Kang, Jeon-Hong;Yu, Kwang-Min;Kim, Han-Jun;Han, Sang-Ok
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2008.07a
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    • pp.2050-2051
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    • 2008
  • 디스플레이 산업이 급속도로 발전함에 따라 touch screen 및 panel에 사용되고 있는 ITO(Indium Tin Oxide)박막의 표면저항에 대한 정밀 측정이 요구되고 있으며, 표면저항 측정은 주로 FPP(Four-Point Probe) 원리를 이용한 측정기를 사용하고 있다. 대부분의 면저항 측정기는 single 방식을 적용하고 있으나 이 방식은 가장자리 효과가 크며, 시료의 크기 및 두께와 핀 간격에 대한 보정계수를 적용하여야 하는 단점이 있다. 본 연구는 가장자리 효과가 거의 없고, 보정계수를 적용할 필요가 없는 dual 방식을 적용한 표면저항 측정기를 개발하였다. 개발된 표면저항 측정기는 휴대용으로 누구나 쉽고 정확하게 사용할 수 있으며, 측정 정확도는 지시값의 1.0 % 이하이고, 측정범위는 $4m{\Omega}/sq{\sim}20k{\Omega}/sq$ 이다.

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Principle Measurement for Sheet Resistance of Large Size Conductive Thin Films (대면적 전도성 박막의 면저항 정밀측정)

  • Kang, Jeon Hong;Yu, Kwang Min;Lee, Sang Hwa
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2015.07a
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    • pp.1515-1516
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    • 2015
  • Touch panel 및 Touch screen 등의 투명전극으로 많이 사용되고 있는 ITO(Indium Tin Oxide)나 CNT(Carbon Nano Tube) 등 전도성 박막의 면저항을 쉽고 빠르게 측정하기 위하여 van der Pauw method를 이용한 면저항 측정기를 개발하였다. 이 면저항 측정기는 대면적 시료의 면저항을 측정 할 수 있어 매우 편리하다. 면저항 측정은 주로 Four Point Probe method로 측정하는 것이 일반적이나 본 연구에서는 van der Pauw method를 이용한 측정값과 Four Point Probe method로 측정한 결과를 비교한 결과 1 % 이내에서 일치하였다. 개발된 측정기의 측정 정확도는 지시값의 1.0 % 이하이고, 측정범위는 $2{\Omega}/{\square}{\sim} 5k{\Omega}/{\square}$이다.

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A study on the manufacturing of super precision multilayer cermet thin film resistor (초정밀 다층 Cermet 박막저항체 제조에 관한 연구)

  • 허명수;최승우;천희곤;권식철;이건환;조동율
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.6 no.1
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    • pp.77-84
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    • 1997
  • Super precision resistor was manufactured by controlling properly the thickness of $TaN_{0.1}$ (negative TCR) and Cr(positive TCR) deposited on cylindrical alumina substrate (diameter: 4 mm, length: 11 mm). Multilayer thin film resistor of $Ta_2O_5/TaN_{0.1}$/Cr/Alumina (substrate) was manufactured by depositing of $Ta_2N_5$ film on $TaN_{0.1}$ film to increase Rs to the level of 1;k{\Omega}/{\box}$ and to passivate the film. Super precision resistor with TCR of $20\pm5 ppm/^{\circ}C$ and Rs of $1\;k{\Omega}/{\box}$ was manufactured by depositing thin layers of about 10 nm $Ta_2O_5$, 100 nm $TaN_{0.1}$ and 50 nm Cr film under the properly controlled sputtering condition.

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