• 한국전자파학회지:전자파기술
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• 제2권2호
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• pp.61-68
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• 1991

장해전자파의 스펙트럼은 일반적으로 넓은 주파수범위에 분포하며, 파형도 불규칙하게 변한다. 보통 잡음의 측정은 규정된 통과대역폭을 갖는 수신기에 의해 수신, 증폭하여, 그 출력을 전압계에 지시시 키는 방법에 의하는데, 수신기의 선택도 특성이나 전압계에 사용하는 검파기의 방식이 다르면 동일한 잡음 이라도 그 측정결과는 일반적으로 같은 값으로는 되지 않는다. 따라서 측정에 있어서는 잡음의 어떠한 성 질을 측정대상으로 하는가에 따라 측정기의 방식을 선택하는 것이 필요하다. 장해전자파의 성질을 나타내 는 물리량으로서는 실효값, 첨두값, 평균값 등이 있으며, 또한 장해전자파의 물리적성질을 구하는 것이 아 니고, 통신이나 방송의 수신에 대한 장해의 정도를 구하기 위한 측정에서는 장해에 대한 수신자의 주관적 인 평가를 측정의 척도로 하는 것이 바람직하다.

• 한국전자파학회논문지
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• 제10권4호
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• pp.520-529
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• 1999

인체보호를 위한 노출기준은 생물학적 영향을 근거로 유도전류밀도, 비흡수율 또는 전력밀도에 대한 기본 한계치를 결정한 다음 이를 전자계와 인체와의 결합 메카니즘을 고려하여 측정 가능한 전계와 자계강도로 변 환함으로써 결정된다. 본 연구에서는 국내 노출기준 설정을 위한 연구의 일환으로 전자계의 인체 결합 메카 니즘에 대한 지금까지의 연구결과를 토대로 대표적인 5개 기준의 기본 한계치로부터 도출된 전자계 노출기준 치에 대한 타당성을 검토하고 각 기준의 문제점을 비교, 분석하였다.

• 한국정보과학회 언어공학연구회:학술대회논문집(한글 및 한국어 정보처리)
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• 한국정보과학회언어공학연구회 2001년도 제13회 한글 및 한국어 정보처리 학술대회
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• pp.326-333
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• 2001

조사어미사전은 한국어 연구 및 교육, 정보처리 분야에 두루 이용될 수 있는 범용적 전자사전을 지향하는 세종전자사전의 한 위성사전으로서, 한국어 조사와 어미에 대한 각종 언어 정보를 체계적이고 일관된 형식으로 표상하는 것을 목적으로 하고 있다. 그러한 목적을 달성하기 위해 본 연구 작업에서는 조사와 어미의 형태적 변이 양상과 조건을 상세히 밝히는 한편, 의미 통사적 특성과 제약에 관한 다양한 정보들을 가능한 한 풍부하게 제시하고 있다. 조사와 어미에 대하여 사전에 풍부하고 다양한 언어 정보를 표상하는 작업은 기존의 한국어 인쇄사전은 물론 전자사전에서도 본격적으로 시도되지 않았던 것으로, 본 사전에서 현재까지 기술하고 있는 다양한 정보들은 앞으로 한국어에 대한 순수 언어학적 연구만이 아니라 한국어 정보 처리 분야의 발전에 있어서도 기여하는 바가 적지 않을 것으로 기대한다.

• 한국농업기계학회:학술대회논문집
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• 한국농업기계학회 2002년도 하계 학술대회 논문집
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• pp.424-431
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• 2002

마이크로파 주파수는 일반적으로 1㎓-30㎓ 정도로서 주파수가 매우 높기 때문에 도체뿐만 아니라 절연체와 공기 중에서도 전류가 흐르는 성질을 갖는다. 자유공간에서의 마이크로파를 전자파라고도 하며 그 속도는 빛의 속도와 동일하며 자유공간에서 1cm-30cm 파장 범위를 가지므로 센티파라고도 한다. 전자방사(electromagnetic radiation)은 공간을 통하여 시간에 따라 변하는 전자계(electric and magnetic field)에 의한 에너지의 전파(propagation)이며 파동이론과 (wave theory)와 미립자이론(corpuscular theory)에 의해 해석될 수 있다. 전자파 이론(electromagnetic wave theory)의 기초는 1864년 Maxwell이 전자기 현상에 관하여 지배방정식을 수립함으로써 정립되었으며 1888년 Hertz에 의해 마이크로파의 존재가 실험적으로 증명되었다. 이후 마이크로파 기술은 2 차 세계대전을 거치면서 크게 발전하였으며 초기의 레이더 및 통신 등과 같은 군용 기술에서 마이크로파 건조 및 센싱과 같은 산업응용 기술로 발전하게 되었다. 특히 마이크로파 센서기술 및 가열기술은 농업 및 식품분야에 응용되어 마이크로파 응용제품을 선보이게 되었다. (중략)

• 한국정보과학회:학술대회논문집
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• 한국정보과학회 2001년도 봄 학술발표논문집 Vol.28 No.1 (A)
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• pp.640-642
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• 2001

전자상거래(Electronic Commerce)에 대한 정부와 기관의 관심이 집중되고 있는 상황에서 일반기업들의 전자상거래에 관한 각종 솔루션 및 신기술 개발이 활발히 이루어지고 있다. 상품에 관한 다양한 정보의 제공과 지불 결제 시스템에 대한 신뢰성 증진과 효율성 개선 등 하루가 다르게 변해가는 기술의 전개 속에서 전자상거래는 다양성과 신속성 등 속성을 포함하여 발전하고 있다. 고객을 중심으로 한 마케팅 기법중 하나인 고객관계관리(Customer Relationship Management)는 인터넷의 적용과 더불어 다양하게 발전하고 있는 분야 중 최근 가장 큰 이슈가 되고 있다. 본 논문에서는 기존 CRM솔루션의 도입에서 오는 몇몇 단점을 극복하고 CRM의 도입을 통한 효과를 최대한 보장하기 위한 방법으로서 효율적인 CRM 도입방안에 관하여 논하고자 한다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2000년도 제18회 학술발표회 논문개요집
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• pp.172-172
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• 2000

진공상태에서 diamond stylus로 MgO 표면을 마모시킬 때 발생되는 photon, electron과 마찰력을 시간의 함수로 동시에 측정하였다. 전자 방출(EE)은 Channeltron electron multiplier로 , 광자 에너지는 Photomultiplier tube를 사용하여 측정하였는데 180~600nm 영역의 photon을 검출하였다. 광자 방출(PhE,) 실험은 공기중에서도 할 수 있으나 전자방출은 1$\times$10-4pa 이하의 진공에서 실험하여 얻었다. 본 실험을 통하여 결정과 diamond stylus 사이에서 일어나는 마모 현상은 millisecond로 관찰하여 표면 변화에 대한 상관관계를 조사하였다. 열처리 한것과 열처리 하지 않은 시료를 비교한 결과 3개의 signal(마찰력, PhE, EE)을 시간에 따라 분석하면 stick-slip-like 현상을 볼 수 있었다. 이것으로 보아 stick은 변형에 의해 생기고 ms 후에 벽개 현상이 발생됨을 볼 수 있다. 방출과 마찰력은 표면조건, load, stylus velocity에 따라 변하였다. luminescence는 주로 변형에 의해 생겼으며, 전자 방출은 벽개(fracture)에 의해 발생됨을 알 수 있었다. 시료의 처리과정과 load 속도에 따른 Photon, electron의 방출은 시료의 표면 상태에 따라 좌우되었다. 마찰력, PhE, EE의 시간에 따른 분석에서 PhE는 변형 과정에 민감하며, EE는 stylus velocity에 의존하였다. 이러한 방출 현상은 세라믹의 급격한 벽개 과정을 이해하는데 많은 도움을 주었다.

• 한국정보처리학회:학술대회논문집
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• 한국정보처리학회 2004년도 춘계학술발표대회
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• pp.1629-1632
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• 2004

입체는 특수 장비에 의해 디지털 데이터화 되어 3차원 물체의 표면을 메쉬나 다각형 등으로 표현하며 입체의 세부구조인 다각형은 면적, 각 정점의 토폴로지, 변의 길이, 내각과 같은 고유 기하정보 요소를 가진다. 본 연구에서는 3차원 입체를 특징짓는 다각형의 기하학적 정보를 이용하여 3차원 모델을 2차원 평면으로 전개하는 방법을 제안한다. 이와 같은 기술은 옷이나 신발과 같은 2차원 형태의 부품을 결합하여 입체형태의 제품을 만들어 내는 분야에 매우 유용하게 쓰이며 나아가 3차원 모델에 최소의 왜곡을 가지는 텍스쳐를 적용시켜 3차원 모델의 사실성을 높이는데 기여할 수 있다.

• 한국정보처리학회:학술대회논문집
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• 한국정보처리학회 2021년도 추계학술발표대회
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• pp.1020-1023
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• 2021

본 논문에서는 기존의 책상에서 발생하는 문제점을 개선하고 효율적인 공부를 할 수 있도록 도와주는 "학습 능률을 높이는 스마트 책상" 시스템을 제안한다. 제안하는 시스템의 주요 기능은 다음과 같다. 첫째, 아두이노와 Linear actuator를 사용하여 책상의 높낮이와 책받침의 각도를 조절한다. 둘째, 심박 센서를 통해 사용자의 집중도를 확인하고 이와 연동된 어플리케이션으로 각종 센서와 모듈을 제어하여 최적의 공부환경을 조성한다. 셋째, 책상 위 모든 동작이 어플리케이션을 통해 자동으로 수행되어 Human task를 감소시킨다. IoT 기술과 집중력 관리 알고리즘을 활용한 제안 시스템을 통해 학습자의 책상 앞 올바른 자세 교정과 학습 시 높은 집중력을 유지시키는데 도움을 줄 수 있을 것으로 기대된다.

• 한국정보처리학회:학술대회논문집
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• 한국정보처리학회 2011년도 춘계학술발표대회
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• pp.1082-1085
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• 2011

기존에 잠수부가 사용하던 질소가스가 인체에 치명적인 공기 색전증을 유발하게 되면서 헬륨 산소혼합가스는 이를 극복하기 위한 대체 호흡용 가스로 사용되고 있다. 특히, 헬륨가스는 명료도가 낮은 squeaky voice를 유발하기 때문에 잠수부들의 비정상적인 음성에 대한 해석에 어려움이 많다. 또한, 헬륨가스는 일상생활에서 자주 접하는 것이며 다양한 TV프로에서도 헬륨가스를 마신 후 변하는 목소리를 통해 웃음을 전달하고 있다. 따라서 본 논문에서는 헬륨가스가 조음기관에 미치는 영향을 음성분석학적 요소의 적용을 통해 측정하는 연구를 수행하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2012년도 제43회 하계 정기 학술대회 초록집
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• pp.276-277
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• 2012

플라즈마 아킹은 PECVD, 플라즈마 식각 그리고 토카막과 같은 플라즈마를 이용하는 여러 공정과 연구 분야에서 문제가 되어왔다. 하지만, 문제의 중요성과 다르게 아킹에 대한 본질적인 연구는 아직 미비한 상태이다. 플라즈마 아킹은 집단전자방출(collective electron emission)에 의한 스파크 방전(spark discharge) 현상이다. 집단전자방출은 전계방출(field emission)이나 플라즈마와 쉬스를 두고 인접한 표면위에서의 유전분극(dielec emission)에 의해 발생한다. 우리는 CCP 플라즈마를 이용해 micro-arcing(MA)을 일으키고 랑뮈르 프로브를 이용해 MA 동안의 플로팅 포텐셜의 변화를 측정한다. MA시 PM-tube를 이용해 광량의 변화를 측정하고 플로팅 포텐셜을 fast-imaging과 동기화 시켜 MA 발생 메커니즘을 유추한다. 우리는 $30{\times}20$ cm 크기의 사각 전극을 위 아래로 가진 챔버에서 Ar 가스를 RF (13.56 MHz) 파워를 이용해 방전시켰다. 방전 전압과 전류는 파워 전극 앞단에서 High voltage probe (Tektronix P6015A)와 Current probe (TCPA300 + TCP312)를 이용해 측정했다. 플라즈마 아킹시 변하는 플라즈마 플로팅 포텐셜은 챔버 중앙에 위치한 랑뮈프 프로브에 의해 측정되고 챔버 옆의 뷰포트 앞에 위치한 PM-tube를 이용해 아킹시 변하는 광량을 측정하고 Intensified CCD를 이용해 fast-imaging을 한다. 또한 CCD 앞에 band pass filter를 부착하여 MA의 발생 메커니즘을 유추한다. RF 방전에서의 플라즈마 아킹은 아킹시 플로팅 포텐셜의 변화에 의해 크게 세부분으로 나눌 수 있다. 아킹 발생과 동시에 급격히 감소하는 감소부분(약 2 us) 그리고 감소한 포텐셜이 유지되는 유지부분(약 0~10 ms) 그리고 감소했던 포텐셜이 서서히 원래 상태로 회복되는 회복부분(약 100 us)이다. 아킹 초기시 방출된 집단 전자들은 쉬스를 단락시키게 되고 이로 인해 플로팅 포텐셜은 급격히 감소하게 된다. 이렇게 감소한 플로팅 포텐셜은 아킹 스트리머가 유지되는 한 계속 감소한 상태를 유지하게 된다. 그리고 플라즈마를 섭동했던 집단전자방출이 중단되면 플라즈마는 섭동전의 원래 상태로 회복된다. 플라즈마 아킹 발생시 생성되는 순간적으로 많은 전자들을 국소적으로 생성하게 되고 이 전자들에 의해 광량이 순간적으로 증가하게 된다. PM-tube (750.4 nm)에 의해 측정된 아킹시 광량은 정상방전 상태의 두배 가량이 된다. 그리고 이 순간적으로 증가된 광량은 시간이 지남에 따라 감소하게 되고 정상방전 일때의 광량이 된다. 광량이 증가한 후 정상방전상태의 광량에 이르는 부분은 플로팅 포텐셜이 감소한 상태에서 유지되는 부분과 일치하고 이는 플로팅 포텐셜의 유지부분동안 집단전자방출이 있다는 간접적인 증거가 된다. 그리고 정상 방전 상태 일때의 광량이 되면 집단전자방출이 중단되었다는 것이므로 그 시점부터 플로팅 포텐셜은 정산 방전상태 일때의 포텐셜로 복구되기 시작한다. 이처럼 PM-tube를 이용한 아킹 광량 측정은 아킹 스트리머를 간접적으로 측정하게 하고 집단전자방출을 이용해 아킹 시의 플로팅 포텐셜의 변화를 설명하게 해 준다.