The surface properties such as energy gap, exciton, shallow trap level, deep trap level, type inversion with annealing and metastable state of $EL_2$ level of SI GaAs wafers and the conductivity distribution of 2 inch Cr doped GaAs wafer were investigated using nondestructive TAV(transverse acoustoelectric voltage) technique. The TAV is generated when SAW and semiconductor interact. We also have tried newly SAW oscillator technique to investigate the surface properties of semiconductor wafers and we have shown the validity of this technique.
The electro-optic Q-switching device for medical high power laser depends on the relation between the population inversion and the Q-switching time. The polarization changes in applied voltage must be experimented to use each $LiNbO_3$ crystal for Q-switching in high power laser.
Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.6
no.8
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pp.1276-1282
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2002
In this paper, a high speed charging algorithm that charges Ni-Cd secondary pack battery within 40 minutes is implementation. Proposed algorithm is that suppling 4 stage pulse instead of constant voltage or current. That makes charge time short, temperature low, and extends battery life. Experimental results show that secondary pack battery is charged within 40 minutes and achieved life time about 2000 cycle.
Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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2002.05a
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pp.293-297
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2002
본 연구는 파장 분할 다중화(WDM: Wavelength Division Multiplexing) 방식 전송 시스템 (Transmission System)에 사용되는 어븀 첨가 광섬유 증폭기(EDFA: Erbium-Doped Fiber Amplifier)의 이득 제어(Cain Control) 방법에 관한 것으로 어븀 첨가 광섬유에서 상호 이득 포화 (Cross Cain Saturation) 현상, 이득 비동질(Cain In-homogeneity) 특성, 그리고 어븀 이온의 밀도. 반전(Population Inversion)의 변화에 의해 출력되는 다 파장 광 신호들의 광세기가 각기 다르게 출력되는 현상을 고출력을 내도록 구성된 어븀 첨가 광섬유 증폭기와 고속 제어기를 구성하여 위 현상들을 억제하며 이득을 제어하기 위한 레이저 다이오드(Laser Diode : LD)의 제어전압 조사하고, 얻어 진 결과들을 토대로 이득 제어에 적합한 방법을 제시하고 제어기를 설계한다.
In this paper, a method of extending 1 bit by adding an external device to a parallel interface type Digital-to-Analog conversion(D/A C) circuit is presented. To do this, the principle of the D/A C circuit was examined, and the problems that occur when extending one bit by adding individual devices were analyzed, and a bit extension method of the D/A devices using an OP-Amp. circuit was presented. As the proposed method uses the high-precision characteristics of the OP-Amp., even if an error occurs in the device, only the overall size of the output waveform is affected, and the voltage reversal phenomenon that occurs between each bit does not occur. In order to confirm the effect of the proposed method, an experimental circuit was constructed and the absolute voltage of the output and the relative error were measured. As a result, a voltage error of 0.0756% appeared, confirming that the 0.195% requirement for one bit expansion by adding individual devices was sufficiently satisfied.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.306.2-306.2
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2014
전자기기의 휴대성과 이동성이 강조되고 있는 현대사회에서 비휘발성 메모리는 메모리 산업에 있어 매우 매력적인 동시에 커다란 잠재성을 지닌다. 이미 공정의 한계에 부딪힌 Flash 메모리를 대신하여 10nm 이하의 공정이 가능한 상변화 메모리(Phase-Change Memory, PRAM), 스핀 주입 자화 반전 메모리(Spin Transfer Torque-Magnetic RAM, STT-MRAM), 저항 변화 메모리(Resistive Random Access Memory, ReRAM)가 차세대 비휘발성 메모리 후보로서 거론되고 있으며, 그 중에서도 ReRAM은 빠른 속도와 낮은 소비 전력, CMOS 공정 호환성, 그리고 비교적 단순한 3차원 적층 구조의 특성으로 인해 활발히 연구되고 있다. 특히 최근에는 질화물 또는 질소를 도핑한 산화물을 저항변화 물질로 사용하는 ReRAM이 보고되고 있는데, 이들은 동작전압이 낮을 뿐만 아니라 저항 변화(Resistive Switching, RS) 과정에서 일어나는 계면 산화를 방지할 수 있으므로 ReRAM의 저항 변화 재료로서 각광받고 있다. 그러나 Cell 단위의 ReRAM 소자를 Crossbar Array 구조에 적용시켰을 때 주변 Cell과의 저항 상태 차이로 인해 전류가 낮은 저항 상태(LRS)의 Cell로 흘러 의도치 않은 동작을 야기한다. 이와 같이 누설 전류(Leakage Current)로 인한 상호간의 간섭이 일어나는 Cross-talk 현상이 존재하며, 공정의 간소화와 집적도를 유지하면서 이 문제를 해결하는 것은 실용화하기에 앞서 매우 중요한 문제이다. 따라서, 본 논문에서는 Read 동작 시 발생하는 Cell과 Cell 사이의 Cross-talk 문제를 해결하기 위해 자가 정류 특성(Self-Rectifying)을 가지는 실리콘 질화물/알루미늄 질화물 이중층(Si3N4/AlN Bi-layer)으로 구성된 ReRAM 소자 구조를 제안하였으며, Sputtering 방법을 이용하여 제안된 소자를 제작하였다. 전압-전류 특성 실험결과, 제안된 구조에 대한 에너지 밴드 다이어그램 시뮬레이션 결과와 동일하게 Positive Bias 영역에서 자가 정류 특성을 획득하였고, 결과적으로 Read 동작 시 발생하는 Cross-talk 현상을 차단할 수 있는 결과를 확보하였다.
In this paper, a method of constructing an inverter circuit that can generate negative voltage required to operate an IT device in a stable using an inexpensive buck device is presented. To do this, the problem of constructing the inverter circuit using the existing buck device was examined, the principle that could prevent this problem was analyzed, and a circuit that could solve this problem was presented. In order to prove the effectiveness of the proposed method, the experimental circuit was constructed and the experiment was conducted. Compared to the operation of the inverter circuit by the existing overcurrent prevention circuit, it was confirmed that the stable operation was performed without an overcurrent phenomenon. Accordingly, it is expected that the performance of the circuit can be greatly improved while a number of peripheral devices for configuring the devices for processing various analog signals used in IT devices as a single power supply can be omitted.
The optical power drift due to temperature variation of a laser diode driven by constant voltage is different from one driven by constant current. When a laser diode is driven by constant current, the optical output decreases as the temperature increases because the population inversion decreases. However, When it is driven by constant voltage, injection current increases with temperature rise, which in turn increases the optical power. As the result, the optical power variation reduces. Experimental results show that when these two components are almost equal and cancel each other, the optical power variation coefficient is very small and the optical output is stable.
This paper describes a TTL-to-CMOS input buffer of an SRAM which dissipates a small operating power dissipation. The input buffer utilizes a transistor structure with latch circuit controlled by a internal activation clock pulse. During the low state of that pulse, input buffer is disabled to eliminate dc current. Otherwise, the input buffer operates normally. Simulation results showed that the power-delay product of the purposed input buffer is reduced by 33.7% per one input.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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1999.07a
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pp.84-84
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1999
최근 큰 잔류분극을 가진 강유전체 Pb(Zr, Ti)O3 박막을 이용한 비휘발성 기억소자의 연구가 활발히 진행되고 있다. 그러나 Pb(Zr, Ti)O3 박막을 비휘발성 기억소자로 응용하는 경우 분극피로(polarization fatigue), imprint, 누설전류 등의 문제점이 나타나는 것으로 알려져 있다. 특히 분극반전 횟수가 증가할수록 잔류분극이 감소하는 분극피로 현상은 비휘발성 기억소자의 응용에 있어서 치명적인 장애가 되므로 기억소자의 실용화를 위해서는 분극피로 현상의 개선이 무엇보다 중요하다. 본 연구에서는 Pb(Zr, Ti)O3 강유전체 박막의 분극피로 현상을 규명하고 개선하기 위해서 다음과 같은 세가 실험적 방법으로 접근하였다. 먼저 Pt와 금속산화물인 LaNiO3을 이용하여 상·하부 전극을 달리하여 제조한 축전기에 대해서 분극피로 특성을 관찰하고 이로부터 분극피로 현상에 대한 전극의 효과를 조사하였다. 여기서 금속산화물인 LaNiO3 박막과 Pt 박막은 r.f. 스퍼트 법으로 증가하였으며 Pb(Zr, Ti)O3 박막은 LaNiO3/Si(100)/와 Pt/Ti/SiO2/i(100) 기판위에 졸겔법으로 제조하였다. 다음으로 분극피로된 박막의 상부전극에 극성이 다른 직류전압을 인가해주었을 때 나타나는 분극회복 현상을 광범위하게 관찰하였으며, 특히 직류전압의 극성에 따라 비대칭적인 분극회복 특성을 보였다. 마지막으로 이와 같은 직류전압에 대한 비대칭적인 분극회복현상에 착안하여 양과 음의 방향으로 바이어스된 스윗칭 펄스를 인가하여 분극피로 특성을 조사한 결과 비대칭적인 분극피로 현상을 관찰할 수 있었다. 이와 같은 Pv(Zr, Ti)O3 박막의 분극피로와 회복의 비대칭적인 현상은 분극피로 현상의 기구를 밝히는 중요한 근거가 되었으며, 본 연구에서는 하부 계면에서의 산소빈자리의 역할로 분극피로 현상을 모형화하였다.식각하기 시작하였으며, 19.5J/cm2에서 유리기판의 rudraus(격벽 두께 130$\mu\textrm{m}$)까지 식각하였다. 대한 정보(RDF)는 명확하게 얻을 수 있었다.nospec과 SEM으로 관찰하였다. 또한 Ge 함량 변화에 따른 morphology 관찰과 변화 관찰을 위하여 AFM, SEM, XRD를 이용하였으며, 이온주입후 열처리 온도에 따른 활성화 정도의 관찰을 위하여 4-point probe와 Hall measurement를 이용하였다. 증착된 다결정 SiGe의 두게를 nanospec과 SEM으로 분석한 결과 Gem이 함량이 적을 때는 높은 온도에서의 증착이 더 빠른 증착속도를 나타내었지만, Ge의 함량이 30% 되었을 때는 온도에 관계없이 일정한 것으로 나타났다. XRD 분석을 한 결과 Peak의 위치가 순수한 Si과 순수한 Ge 사이에 존재하는 것으로 나타났으며, ge 함량이 많아짐에 따라 순수한 Ge쪽으로 옮겨가는 경향을 보였다. SEM, ASFM으로 증착한 다결정 SiGe의 morphology 관찰결과 Ge 함량이 높은 박막의 입계가 다결정 Si의 입계에 비해 훨씬 큰 것으로 나타났으며 근 값도 증가하는 것으로 나타났다. 포유동물 세포에 유전자 발현벡터로써 사용할 수 있음으로 post-genomics시대에 다양한 종류의 단백질 기능연구에 맡은 도움이 되리라 기대한다.다양한 기능을 가진 신소재 제조에 있다. 또한 경제적인 측면에서도 고부가 가치의 제품 개발에 따른 새로운 수요 창출과 수익률 향상, 기존의 기능성 안료를 나노(nano)화하여 나노 입자를 제조, 기존의 기능성 안료에 대한 비용 절감 효과등을 유도 할 수 있다. 역시 기술적인 측면에서도 특수소재 개발에 있어 최적의 나노 입자 제어기술 개발 및 나노입자를 기능성 소재로 사용하여 새로운 제품의 제조와 고압 기상 분사기술의 최적화에
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[게시일 2004년 10월 1일]
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