Fabrication of Stress-balanced $Si_{3}N_{4}/SiO_{2}/Si_{3}N_{4}$ Dielectric Membrane
(스트레스균형이 이루어진 $Si_{3}N_{4}/SiO_{2}/Si_{3}N_{4}$ 유전체 멤브레인의 제작)
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- Journal of Sensor Science and Technology
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- 제4권3호
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- pp.51-59
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- 1995