• Title/Summary/Keyword: 저온산화반응

Search Result 175, Processing Time 0.032 seconds

Influences of fuel additives on the low temperature reaction of DME HCCI engine (DME 예혼합압축착화 기관의 저온산화반응에 미치는 첨가연료의 영향)

  • Jung, Suk Ho;Ishida, Masahiro
    • Journal of Power System Engineering
    • /
    • v.16 no.6
    • /
    • pp.19-23
    • /
    • 2012
  • DME HCCI기관의 단점은 디젤 엔진에 비해 기관부하 영역이 굉장히 좁다는 것이고 이는 저온산화반응이 너무 빨리 일어나서 노크를 발생시키기 때문이다. 저온산화반응을 억제하기 위해서 DME 연소에 미치는 천연가스의 영향을 실험한 결과, 천연가스가 DME의 저온산화반응을 억제시키기 때문에 기관부하영역이 확대된다는 것을 알았다. 본 연구에서는 서로 다른 세탄가를 가진 첨가연료가 DME 저온산화반응에 미치는 영향을 실험적으로 조사하였다. 그 결과 저온산화반응의 최고 열발생율은 세탄가에 의존하지 않지만 착화온도는 세탄가에 의존한다는 사실을 밝혔다.

Characterization of Oxidized Porous Silicon Film by Complex Process Using RTO (RTO 공정을 이용한 다공질 실리콘막의 저온 산화 및 특성분석)

  • 박정용;이종현
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
    • /
    • v.40 no.8
    • /
    • pp.560-564
    • /
    • 2003
  • Thick oxide layer was fabricated by anodic reaction and complex oxidation performed by combining low temperature thermal oxidation (50$0^{\circ}C$, 1 hr at $H_2O$/O$_2$) and a RTO (rapid thermal oxidation) process (105$0^{\circ}C$, 1 min). Electrical characteristics of OPSL (oxidized porous silicon layer) were almost the same as those of thermal silicon dioxide prepared at high temperature. The leakage current through the OPSL of 20${\mu}{\textrm}{m}$ thickness was about 100 - 500 ㎀ in the range 0 V to 50 V. The average value of breakdown field was about 3.9 MV/cm. From the XPS analysis, surface and internal oxide films of OPSL prepared by complex process were confirmed completely oxidized and also the role of RTO process was important for the densification of PSL (porous silicon layer) oxidized at low temperature.

The Emission of NO2 and NH3 in Selective Catalytic Reduction over Manganese Oxide with NH3 at Low Temperature (망간계 금속산화물을 이용한 저온 선택적 촉매 환원 반응에서 NO2와 NH3 배출)

  • Kim, Sung Su;Hong, Sung Chang
    • Applied Chemistry for Engineering
    • /
    • v.18 no.3
    • /
    • pp.255-261
    • /
    • 2007
  • The catalytic behavior of the manganese oxides was studied for the selective catalytic reduction with ammonia at a low temperature condition under $200^{\circ}C$. Outlet unreacted ammonia increases with decreasing temperature and increasing $NH_3/NOx$ mole ratio, however $NO_2$ shows an opposite result. $NO_2$ is generated by the adsorption of NO on the catalyst and the following oxidization to nitrates. Unreacted NH3 slip is not observed even at the $NH_3/NOx$ feed ratio above 1.0 due to the reaction between formed nitrates on the catalyst and adsorbed ammonia. The addition of Zr increases $NO_2$ generation, whereas the addition of CeO2 on the catalyst decreases $NO_2$ generation. Furthermore, the additon of the metal oxide induce DeNOx efficiency to reduce.

A Study on The Reaction Characteristics of Desulfurization and Denitrification in Non-Thermal Plasma Conditions (저온 플라즈마 조건에서 탈황.탈질 반응 특성 연구)

  • 신대현;우제경;김상국;백현창;박영성;조정국
    • Journal of Energy Engineering
    • /
    • v.8 no.1
    • /
    • pp.150-158
    • /
    • 1999
  • 본 연구는 저온플라즈마를 이용하여 배기가스중의 SOx와 NOx를 동시에 처리하는 공정을 개발하는 것으로서, 최적의 반응제 선정과 효율적인 공정의 구성을 위해 SOx, NOx와 반응제와 반응기구를 밝히고자 하였다. 실험은 1.0 N㎥/h의 모사가스를 이용한 기초실험과 20 N㎥/h의 실제 연소가스를 이용한 실험으로 진행되었으며, 반응제로는 NH3와 파리핀계 및 올레핀계 탄화수소를 사용하였다. NH3를 반응제로 한 SO2 제거반응은 비플라즈마 조건에서는 NH4HSO3, 플라즈마 조건에서는 (NH4)2SO4의 생성반응이었고, 두 조건 모두 높은 제거율을 나타냈다. 반응제를 사용하지 않은 플라즈마 조건에서 SO2는 환원반응이 일어나고 O2 농도의 증가는 역반응을 증가시키는 화학평형에 의해 SO2의 제거율이 감소되었다. 플라즈마 조건에서 NO는 O2농도가 낮은 경우는 NO의 환원반응이 주로 일어나고, O2 농도가 높을 경우는 산화반응이 지배적이었다. 올레핀계 탄화수소는 플라즈마 조건에서 NO 산화 반응에 탁월한 효과를 보였을 뿐만 아니라 SO2 제거에도 효과를 보여 최대 40%의 제거율을 나타냈으며, NH3의 사용을 줄일 수 있음을 확인하였다.

  • PDF

Low Temperature CO Oxidation over Cu-Mn Mixed Oxides (Cu-Mn 혼합산화물 상에서 일산화탄소의 저온산화반응)

  • Cho, Kyong-Ho;Park, Jung-Hyun;Shin, Chae-Ho
    • Clean Technology
    • /
    • v.16 no.2
    • /
    • pp.132-139
    • /
    • 2010
  • The Cu-Mn mixed oxide catalysts with different molar ratios of Cu/(Cu+Mn) prepared by co-precipitation method have been investigated in CO oxidation at $30^{\circ}C$. The catalysts used in this study were characterized by X-ray Diffraction (XRD), $N_2$ sorption, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), and $H_2$-temperature programmed reduction $(H_2-TPR)$ to correlate with catalytic activities in CO oxidation. The $N_2$ adsorption-desorption isotherms of Cu-Mn mixed oxide catalysts showed a type 4 having pore range of 7-20 nm and BET surface area was increased from 17 to $205\;m^2{\cdot}g^{-1}$ with increasing of Mn content. The XPS analysis showed the surface oxidation state of Cu and Mn represented $Cu^{2+}$and the mixture of $Mn^{3+}$ and $Mn^{4+}$, respectively. Among the catalysts studied here, Cu/(Cu+Mn) = 0.5 catalyst showed the highest activity at $30^{\circ}C$ in CO oxidation and the catalytic activity showed a typical volcano-shape curve with respect to Cu/(Cu+Mn) molar ratios. The water vapor showed a prohibiting effect on the efficiency of the catalyst which is due to the competitive adsorption of carbon monoxide on the active sites of catalyst surface and finally the formation of hydroxyl group with active metals.

Effects of Phosphorus Doping Concentration on the Oxidation Kinetics of Tungsten Polycide I (텅스텐 폴리사이드의 산화반응속도에 미치는 인 도핑 농도의 영향 I)

  • 이종무;윤국한;임호빈;이종길
    • Electrical & Electronic Materials
    • /
    • v.4 no.1
    • /
    • pp.19-30
    • /
    • 1991
  • W/Si의 조성비가 2.6인 CVD텅스텐 실리사이드를 어닐링처리후 dry 또는 wet oxidation하여 폴리사이드 구조에서 다결정 Si내의 농도가 실리사이드의 산화반응속도에 미치는 영향을 조사하였다. 인의 농도에 관계없이 항상 실리사이드의 산화속도가 (100)Si의 그것보다 더 높았다. 저온에서 dry oxidation한 경우 인의 농도가 증가함에 따라 산화속도는 감소하였으나 고온에서 dry oxidation한 경우에는 P농도와 산화속도간에 상관관계가 별로 없었다. 한편, wet oxidation의 경우에는 모든 산화온도에서 인의 농도가 높을수록 실리사인의 산화속도가 더 낮은 것으로 나타났다.

  • PDF

CO oxidation Reaction over copper metal oxide catalysts (구리복합산화물 촉매상에서 일산화탄소의 산화반응)

  • Lee, Hak Beum;Koh, Hyoung Lim
    • Journal of the Korean Applied Science and Technology
    • /
    • v.33 no.1
    • /
    • pp.129-135
    • /
    • 2016
  • CO oxidation was performed with Cu-Mn and Cu-Zn co-precipitated catalysts as differential precipitant, metal ratio and calcination temperature. The effects of differential metal mole ratio and calcination temperature in mixed metal oxide catalyst were investigated with CO oxidation reaction. Physiochemical properties were studied by XRD, $N_2$ sorption and SEM. 2Cu-1Mn with $Na_2CO_3$ catalyst calcined at $270^{\circ}C$ has a large surface area $43m^2/g$ and the best activity for CO oxidation. $Cu_{0.5}Mn_{2.5}O_4$ in XRD peak shows the lower activity than others. The catalytic activity over the catalyst calcined $270^{\circ}C$ displayed the highest conversion, and it was better activity comparing with Pt catalysts CO conversion.

Oxidation behavior of (Mo1-xWx)Si2 high-temperature heating elements (초고온용 발열체 (Mo1-xWx)Si2의 산화거동에 대한 연구)

  • Lee, Sung-Chul;Myung, Jae-ha;Kim, Yong-Nam;Jeon, Minseok;Lee, Dong-won;Oh, Jong-Min;Kim, Bae-Yeon
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
    • /
    • v.30 no.5
    • /
    • pp.200-207
    • /
    • 2020
  • MoSi2, (Mo1/2W1/2)Si2, and WSi2 powders were synthesized by self-propagating high-temperature synthesis (SHS) method. The synthesized powders were heat-treated at 500, 1,000, 1,200, 1,300, 1,400, 1,500 and 1,600℃ in ambient atmosphere. Oxidation of Mo-W silicide powder was found at low temperature of 500℃. XRD structure analysis and DTA/TG data showed that MoO3 was formed with 500℃ heat treatment for 1 hour, and that it was α-cristobalite phase that was formed with 1200℃ heat treatment, not α-quartz phase which is commonly found and stable at room temperature. Existence of W accelerated decomposition at both low and high temperature. Fully sintered MoSi2 and (Mo1/2W1/2)Si2 specimen did not show decomposition or weight loss by oxidation, with 1 hour heat treatment at either low or high temperature. Notably, it was difficult to sinter WSi2 because of oxidation reaction at low temperature.

Low-temperature growth of epi-Ge thin films by Reactive thermal CVD (반응성열CVD를 이용한 고효율 박막태양전지용 게르마늄박막의 저온에피성장)

  • Lim, Cheolhyun;Song, Sungheon;Lee, Sukho;Hanna, Junichi
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
    • /
    • 2010.06a
    • /
    • pp.102.1-102.1
    • /
    • 2010
  • 고효율 멀티정션박막태양전지의 바텀셀 적용을 목적으로, 반응성CVD(Reactive thermal CVD)기술을 이용, $Si_2H_6+GeF_4$를 원료가스로, 이들이 가진 산화환원반응을 이용하여 400도 이하의 저온에서 Ge 및 Si 기판에 Ge을 에피성장 시켰다. Ge 기판위의 호모에피막의 경우, $2.5{\AA}/sec$의 성장속도와 99%의 Ge조성을 보였고, RHEED 및 HR-XRD를 통한 결정성 평가 결과, 고품질의 Ge 에피막의 성장이 확인되었다. 동일한 성장조건을 Si기판에 헤테로에피성장 시켰을 경우, 4% 격자불일치에 의해 막품질이 저하되는 것을 확인하였다. 이를 개선하기 위하여 저온에서 제작한 버퍼층에 대한 논의를 하고자 한다.

  • PDF

The Properties and Low temperature Preparation of The Backlayer of Co-Cr thin layer by Ferrite Plating Method (페라이트 플레이팅법에 의한 CO-Cr박막 하지층의 저온제작과 그 특성)

  • Kim, M.H.;Kim, T.Y.;Son, I.H.;Park, C.O.;Kim, J.H.;Kim, K.H.
    • Proceedings of the KIEE Conference
    • /
    • 1997.11a
    • /
    • pp.294-295
    • /
    • 1997
  • CO-Cr 수직자기기록 매체의 우수한 하지층을 개발하기 위하여, 스피넬 결점막$(Fe,M)_3O_4$ (M=Ni,Zn)이 스핀스프레이 페라이트 플레이팅 방법으로 유리 기판 위에 제작되었다. 반응액과 산화액은 기판이 회전하는 반응용기로 분사되었다. 반응은 기판의 회전소독, 반응온도, 반응액과 산화액의 유속 그리고 반응액과 산화액의 농도에 의해 영향받았다. 반응액과 산화액의 유속은 60(ml/min)으로 하고, 반응온도는 90[$^{\circ}C$] 그리고 기판의 회전속도는 150[rpm]의 조건하에서, 페라이트 플레이팅 반응에 미치는 반응액과 산화액 농도의 영향이 화학적 조성, 결정학적 및 자기적 특성의 관점에서 연구되었다. $Ni_{0.34}Zn_{0.66}Fe_2O_4$의 조성에서, 우리는 가장 안정한 결정학적 및 자기적 특성을 얻었다.

  • PDF