Next future, The bio technology will be a rapidly developing. This paper is the scattering beam measurement of the red blood cell (RBC) and the fabrication of the micro cell biochip using the bio micro electro mechanical system (Bio-MEMS) process technology. The Major process method of Bio-MEMS technology was used the buffered oxide etchant (BOE), electro chemical discharge (ECD) and ultraviolet sensitive adhesives (UVSA). All experiments were the 10 times according to the process conditions. The experiment and research are required the ultraviolet expose, the micro fluid current, the cell control and the measurement of the output voltage Vpp (peak to peak) waveform by scattering angles. The transmitting and receiving of the laser beam was used the single mode optical fiber. The principles of the optical properties are as follows. The red blood cells were injected into the micro channel. The single mode optical fiber was inserting in the guide channel. The He-Ne laser beam was focusing in the single mode optical fiber. The transmission He-Ne laser beam is irradiating to the red blood cells. The manufactured guide channel consists of the four inputs and the four outputs. The red blood cell was allowed with the cylinder pump. The output voltage Vpp waveform of the scattering beam was measured with a photo detector. The receiving angle of the output optical fiber is $0^{\circ}$, $5^{\circ}$, $10^{\circ}$, $15^{\circ}$. The magnitude of the output voltage Vpp waveform was measured in the decrease according to increase of the reception angles. The difference of the output voltage Vpp waveform is due differences of the light transmittance of the red blood cells.
Both ultraviolet (UV) and ultrasound (US) systems are used in degrading of organic contaminants and they can thus be applicable simultaneously as an UV/US hybrid system in attempts further to increase the degradation efficiency. The pseudo-first order degradation rate constants with the UV, US and UV/US hybrid irradiation were 2.60, 10.34, and $14.81{\times}10^{-3}min^{-1}$, respectively. It was observed that the synergistic effect of UV/US hybrid system for degrading the bis (2-ethylhexyl) phthalate (DEHP). The highest rate of DEHP degradation was found during UV/US hybrid irradiation and the synergistic effect factor (SEF) was calculated to be 1.15 based on the pseudo-first order degradation rate constants. Results indicate that synergistic effect of UV/US hybrid system is closely correlated to the enhancement of sonochemical reactivity with the UV-US interaction of increasing the formation rate of OHby providing additional $H_2O_2$ production through the pyrolysis of water molecules during UV/US hybrid irradiation.
The objective of this study was to determine the extent to which acetaldehyde (AA) and formaldehyde (FA) migrated from polyethylene terephthalate (PET) bottles into mineral water during storage at 25 and 35$^{\circ}C$ for 240 days. Generally, AA and FA were observed to migrate more at 35$^{\circ}C$ than at 25$^{\circ}C$. The amount of FA in the samples irradiated under UV lamps was higher than in those stored in the dark over the storage period and vice versa for AA. Using a triangular test, the sensory panels distinguished a difference between one sample and the other two mineral water samples that had been exposed to UV lamps after 60 days of storage at 35$^{\circ}C$ (p<0.05). At this time, FA and AA concentrations were measured at 267.4 and 515.3 g/L, respectively. After 120 days, an independent mineral water sample from the other two samples in all treatments could be distinguished by the panel members at a significance level of p<0.001.
Ultra violet (UV) curable pressure sensitive adhesives (PSA) were prepared by controlling both the structure of acryl copolymer and the functionality and content of multi-functional monomers. Acryl copolymer worked as the base polymer for giving the tackiness. Multi-functional monomers were used to vary the crosslinked structure and the degree of crosslink. Acryl copolymer showed the reduced peel strength after UV curing by decreasing the content of 2-ethylhexyl acrylate in the monomer composition. Both the peel strength of PSA and the content of residue found on silicon wafer decreased after UV curing by increasing the functionality of multi-functional monomers. UV curable PSA containing 20 phr six-functional monomer showed the higher peel strength before UV curing and the lower peel strength and the least residue on silicon wafer after UV curing.
Lee, Kyung Hyuk;Kim, Dong Gyu;Kwon, Boung Su;Jung, Kwan Sue
Journal of Korean Society of Environmental Engineers
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v.38
no.7
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pp.364-370
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2016
In this paper, the technique that determines efficient process combinations for the ultrapure water production was studied. The ultrapure water is one of the industrial water used in industrial activity and required in the advanced technology integrated industry. It is produced by combined process including filtration, ion exchange processes, the reverse osmosis (RO) process, degassing (DG) process and UV-oxidation (UVox) process. An ultrapure water production process consists of 15-20 different water treatment unit process. In this study, a pilot plant was built and operated to research the design parameters for the individual process. Through the pilot plant operation, 19 effective combinations were optimized among various processes. And then, 11 of them satisfied the final quality of the ultrapure water. The stability and economic feasibility were evaluated about the final 11 process combinations.
Proceedings of the Korean Institute of Industrial Safety Conference
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2003.10a
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pp.136-141
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2003
정전기의 제전은 각종의 생산공정에서 필요하다. 예를 들면 정전기 방전으로 인한 재해방지, 생산효율의 향상, 정전기 방전에 민감한 전자소자의 보호를 위하여 사용되고 있다. 도전성의 물체는 간단히 접지에 의해 대전방지가 가능하지만, 제전은 특히, 절연물의 대전방지에 효과적이므로 이를 위하여 제전기가 이용되고 있다. 전하발생의 수단(이온원)으로서 자외선, 연X선, 코로나 방전 제전기가 이용되고 있으며, 최근에는 글로우 방전을 이용한 제전기가 개발되었다.(중략)
미국, 일본, 독일을 중심으로 초대형 천체망원경, 고해상도 인공위성 카메라, 차세대 반도체 산업용 진공자외선 및 엑스선 노광기, 비구면 및 자유곡선 가공기와 측정기, 나노기술을 이용한 초소형 광학소자, 반도체 및 디스플레이 공정용 레이저 가공기술 등 첨단 산업용 원천 및 요소기술 개발에 집중하고 있다. 중국은 최근에 자국시장이 대폭 확대됨에 단순가공 수준이었던 광기술을 전략적으로 발전시키고 있으며, 자국시장을 기반으로 중급 광학소자 및 광학계 시장에서 고속성장이 기대된다.
Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers
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v.21
no.3
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pp.473-478
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2012
In this paper, the air bubble formation mechanism in the rectangular and triangular line-and-space pattern during dispensing UV Nanoimprint Lithography (UV-NIL) at an atmospheric condition is studied. To investigate the air bubble formation, an analytic model based on geometric approach and a numerical model based on CFD(computational fluid dynamics) were used in the analysis. It was found in the numerical analysis that every time the flow front passed through a corner of the pattern, it proceeded with a newly formed shape, occurring due to interface reconfiguration, since the flow fronts were formed such that they minimized the surface energy. Moreover, the conditions for the air bubble formation were investigated by applying the analytic analysis based on geometric approach and the numerical analysis. Good overall agreement was found between the analytic and numerical analysis.
Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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2004.05a
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pp.126-126
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2004
1996년 Chou 등이 개발한 가열방식의 나노임프린트 리소그래피(nanoimprint lithography, NIL)은 선폭 100nm 이하의 나노구조물을 경제적으로 제작할 수 있는 대표적인 나노패턴닝(nano-patterning) 공정으로 많은 기대가 모아지고 있으나, 열변형에 의해 다층정렬이 어렵다는 점과, 점도가 큰 레지스트(resist)를 임프린트하기 위해서는 고압(∼30 bar)이 필요하다 점 등의 문제점이 있다. 이를 해결할 수 있는 방법으로 UV 나노임프린트 리소그래피(ultraviolet nanoimprint lithography, UV-NIL)를 들 수 있다.(중략)
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[게시일 2004년 10월 1일]
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