• 식품과학과 산업
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• 제40권1호
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• pp.27-35
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• 2007

측정불확도란 시험결과에 대하여 측정량을 합리적으로 추정한 값들의 분산 특성을 나타내는 파라미터(parameter)로써 ILAC(국제시험소인정협력체) 등의 국제기구와의 측정결과에 대한상호인정 및 신뢰성 확보에 필수적인 요소이다. 국제표준(ISO/IEC 17025)에 맞는 시험분석 결과의 도출을 위해서는 먼저 소급성을 유지하고 그에 따른 불확도를 산출하여야 한다. 소급성은 실험의 모든 과정에 불확도를 가지고 끊기지 않는 비교연결을 통한 국제(국가)표준과 연관시키는 시스템으로, sampling에서 측정결과의 도출까지 소급성을 유지하는 것만이 측정결과의 신뢰성(정확 및 정밀)을 유지하는 최상의 시스템이다. Guide to the Expression of Uncertainty in Measurements(GUM)에 의한 불확도 계산 절차는 측정량(measurand)의 함수 표현, 입력량의 표준불확도(standard uncertainty)의 계산(표준편차, 평균의 표준편차), 합성표준불확도(combined uncertainty)의 계산, 확장불확도(expanded uncertainty)의 계산을 통한 통계적 추정을 하는 것이다. 오렌지 쥬스 중 카드뮴을 분석함에 있어서, 실험실에 대해서는 국제표준화(ISO17025) 시스템을 도입하고 분석시약 및 기기에 대하여 소급성을 유지하여, 분석결과의 신뢰성을 확보하기 위한 측정불확도를 산출하였다.

• 한국방사성폐기물학회:학술대회논문집
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• 한국방사성폐기물학회 2009년도 학술논문요약집
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• pp.391-392
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• 2009

• 한국화재소방학회지
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• 제3권2호
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• pp.43-47
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• 2007

• 센서학회지
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• 제4권1호
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• pp.43-50
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• 1995

고온에서 교정용 표준기로 사용되는 S형 열전대를 사용하여, 국내의 9개 고온분야 교정검사기관의 고온측정 능력을 순회교정을 통하여 평가하여 고온의 소급성 오차를 측정하였다. 참여기관 중 3개교정검사기관만이 열전대의 교정불확도인 ${\pm}0.5^{\circ}C$이내에서 한국표준과학연구원의 측정값과 일치하였으며, 나머지 6개 기관의 측정값은 규정된 불확도를 벗어났다. 각 측정값의 차이는 온도가 높아질수록 증가하여 비교측정점 중 가장 높은 온도인 금점에서 가장 큰 차이가 $2^{\circ}C$로 교정 불확도를 크게 벗어났다. 이 연구에서 측정된 국내 고온분야 교정검사기관의 소급성 오차는 $2.0^{\circ}C$ 이내였다.

• 한국측량학회지
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• 제22권4호
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• pp.367-374
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• 2004

대형 구조물의 측량에 널리 사용되는EDM(Electro-optical distance meter,광파 거리 측정기)의 측정값이 신뢰성을 가지기 위해서는 반드시 EDM의 교정이 필요하다. 본 연구에서는 EDM의 교정을 위한 소급체계를 확립하였는데, 이는EDM이 미터 정의로 부터의 소급성을 가지게 하는 것을 의미한다. 미터 정의에 따라 길이 표준기로 사용되는 요오드 안정화 헬륨­네온 레이저로 레이저 간섭계를 교정하고, 이 레이저 간섭계로 기준 EDM을 교정한 후, 기준 EDM과 기선장에 의해 교정 대상 EDM이 교정됨으로써 미터 정의로의 소급성을 유지한다. 레이저 간섭계를 이용한 EDM의 배율과 길이 측정값에 대한 교정 불확도는 각각 6$\times$$10^{-6}$과 0.2 mm이다. 기선장을 이용한 교정법과 EDM의 변조 주파수를 교정하는 교정법을 병행하여 그 결과를 비교하였다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2005년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.645-648
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• 2005

Microscopy has enabled the development of many advanced technologies, and higher level microscopic techniques are required according to the increase of research in nano-technology and bio-technology fields. Therefore, in many applications, we need to measure the dimension of micro-scale parts accurately, not just to observe their shapes. To establish the meter-traceability in microscopy, gratings have been widely used as a magnification standard. KRISS provides the certification service of magnification standards using an optical diffractometer and a metrological AFM (MAFM). They are based on different measurement principles, and so can give complementary information for each other. In this paper, we describe the configuration of each system and measurement procedures to certificate grating pitch values of magnification standards. Several measurement results are presented, and the discussion about them are also given. Using the optical diffractometer, we can calibrate a grating specimen with uncertainty of less than 50 pm. The MAFM can measure a grating specimen of down to 100 nm pitch value, and the calibrated values usually have uncertainty less than 500 pm.

• 한국정밀공학회지
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• 제17권6호
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• pp.40-45
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• 2000

교정은 모든 측정분야에서 어렵고 까다로운 주제인데, 특히 정전센서, 레이저간섭계, AFM, STM 등을 포함하는 나노메트롤로지(nanometrology : 나노측정) 분야에서는 그러하다. 나노측정에서는 전체 측정범위가 센서들의 한계분해능 값과 비슷한데, 이러한 측정에서 높은 소급성을 유지하기는 매우 어렵기 때문이다.(중략)

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 2003년도 하계학술대회 논문집 C
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• pp.1779-1781
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• 2003

For reliability of high voltage test results in test laboratory, traceability of measuring systems is to be needed. In this paper, it deals with traceability and uncertainty of AC voltage measuring system which is tested by comparison with reference divider.

• 한국광학회지
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• 제15권4호
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• pp.321-324
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• 2004

광통신 출력 측정용 광검출기의 비선형성 특성을 측정하기 위하여 광합산 방법을 이용한 비선형성 측정 장치를 구성하였다. KRISS 출력 소급성을 갖는 고출력용 광검출기와 저출력용 광검출기의 비선형성을 측정하였는데, 50 ㏈의 작동영역에서 각 검출기의 비선형성은 0.01% 및 0.02% 이내로 측정되었다. 이 광검출기들은 선형성이 우수하므로 광섬유 광특성 측정 분야에서 KRISS 표준기로 사용되고 있다.

• 한국정밀공학회지
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• 제24권9호
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• pp.68-75
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• 2007

The pitch and orthogonality of two-dimensional (2D) gratings have been measured by using a metrological atomic force microscope (MAFM) and measurement uncertainty has been analyzed. Gratings are typical standard artifacts for the calibration of precision microscopes. Since the magnification and orthogonality in two perpendicular axes of microscopes can be calibrated simultaneously using 2D gratings, it is important to certify the pitch and orthogonality of 2D gratings accurately for nano-metrology using precision microscopes. In the measurement of 2D gratings, the MAFM can be used effectively for its nanometric resolution and uncertainty, but a new measurement scheme was required to overcome some limitations of current MAFM such as nonnegligible thermal drift and slow scan speed. Two kinds of 2D gratings, each with the nominal pitch of 300 nm and 1000 nm, were measured using line scans for the pitch measurement of each direction. The expanded uncertainties (k = 2) of measured pitch values were less than 0.2 nm and 0.4 nm for each specimen, and those of measured orthogonality were less than 0.09 degree and 0.05 degree respectively. The experimental results measured using the MAFM and optical diffractometer were coincident with each other within the expanded uncertainty of the MAFM. As a future work, we also proposed another scheme for the measurements of 2D gratings to increase the accuracy of calculated peak positions.