• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2004년도 춘계학술대회 논문요약집
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• pp.177-177
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• 2004

최근 높은 복잡한 형상의 고정밀도와 고성능을 갖는 제품들을 생산할 수 있게 하기 위하여 고속 가공기의 공구 셋팅 모니터링 시스템의 사용은 고속 가공기를 이용하여 생산하는 여러 제품 공정에 절대적으로 요구되고 있다. 가공물의 형상이 고정밀화 되어가고 있으며 이들의 가공 정밀도와 생산성을 향상시키고 공구들의 파손을 방지하고 공구의 셋팅 시간을 단축하는 것이 매우 중요하다.(중략)

• 프린팅코리아
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• 제10권9호
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• pp.68-69
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• 2011

현재 어느 회사든 제품 생산에 들어가는 원재료비 및 공정 기본 탄가는 거의 변함이 없다. 이런 무한 경쟁 시장에서 살아남기 위한 최선의 방법은 좀 더 빠르고 정확한 셋팅을 통해 완벽한 제품의 생산성을 향상시키는 것과 남과 차별화된 제품을 생산하는 것이다. 이런 고민을 해결하고자 썬엔지니어링(주)(대표이사 곽인효)은 멀티형 컴퓨터 접착기(트윈 휘더 부착)를 개발하고 8월 8일부터 9일까지 이틀간 썬엔지니어링 부천공장에서 신제품 시연회를 가졌다.

• 한국정보전자통신기술학회논문지
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• 제14권4호
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• pp.323-327
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• 2021

본 논문은 OLED에 사용되는 SUS MASK를 자동액관리 시스템을 사용하여 제작 하였다. SUS MASK의 홀 직경은 0.4 mm으로 설정하여 실험 하였다. 첨가제 F300이 홀 직경이 0.4 mm에 근접하고 오차범위는 평균 0.08로 측정되어 우수함을 알 수 있었다. 그리고 산화환원전위(ORP) 변화에 따른 CuCl2와 FeCl3의 무게 감소량을 측정결과, FeCl3이 ORP 변화에 상대적으로 민감도가 높은 것으로 나타났다. SUS Mask를 연속적으로 에칭하면서 ORP(610 mV)와 비중(1.463)이 자동으로 조절되는지를 실험를 하였다. 실험결과로서는 셋팅 값이 크게 변화되지 않아 자동액관리 시스템이 잘 조절이 잘 되는 것으로 나타났다. 그리고 홀 직경을 0.4 mm로 목표치로 설정한 후 실험 한 결과는 0.36부터 0.44까지 측정되었다. 따라서 SUS MASK 제조공정에서 에칭가공공정은 제작된 자동액관리 시스템을 적용시키면 보다 안정성 높은 정밀도로 향상 시킬 수 있을 것으로 기대된다.

• 한국정보통신학회:학술대회논문집
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• 한국정보통신학회 2022년도 춘계학술대회
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• pp.27-30
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• 2022

기존의 공정방식에 비해 효율성이나 환경적 면에서 많은 장점을 가진 플라즈마 공정은 반도체 제작에서 널리 사용되고 있다. Plasma Sheath란 플라즈마 bulk와 그 것을 둘러싸고 있는 챔버 벽면과 전극 사이에서 관찰되는 어두운 영역으로 양이온과 전자의 이동속도 차이로 인해 발생한다. Plasma Sheath Monitoring Sensor (PSMS)는 플라즈마와 전극 사이의 전압(Voltage) 차이와 전극에 걸리는 RF power 등을 실시간으로 측정하는 센서로서 플라즈마 챔버 내에서 플라즈마의 상태와 매우 상관도가 높을 것으로 기대된다. 본 연구에서는 PSMS 데이터를 활용하여 플라즈마 챔버 내의 질소이온의 상태를 예측하는 모형을 딥러닝 기계학습 기법을 이용하여 구축하였다. 연구에 사용된 데이터는 파워와 압력을 달리 셋팅한 실험에서 측정된 PSMS 데이터를 학습데이터로 활용하고 플라즈마 bulk와 Si substrate에서 측정된 질소 이온의 비율, 플럭스, 밀도를 레이블로 활용하였다. 본 연구의 결과는 향후 플라즈마 공정의 최적화 및 실시간 정밀제어를 위한 인공지능 기술의 기초가 될 것으로 기대된다.

• 한국의류학회지
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• 제30권2호
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• pp.275-285
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• 2006

The purpose of this study was to examine the change of dyeing ability by K/S values, when dyed in different twisting processes and by one bath system and two bath system, to find possible ways of minimizing the color difference between cotton and polyester in composite yarn. The two types of composite yarn, which had one setting process(CP1) and two setting processes(CP2) were dyed with reactive/disperse dyes in both one bath dyeing system and two bath system. The dyeing ability according to the two different twisting processes was measured, and the values of the CP1 were higher compare to the values of CP2 in both one and two bath dyeing systems. This is because CP1 applied only one setting could shrink dyeing process at 130$^{circ}C$. This shrinkage increased the number of twists in the unit length and increased the yarn density, and this is the reason that the K/S values were measured higher than those of CP2. In wet shrinkage test, in opposition to CP2 only had 0.76$\%$ of the shrinkage rate, CP1 had 3.00$\%$ of the shrinkage rate. Also, the dyeing ability according to the two different dyeing methods was measured, and the values of CP1 and CP2 were both higher when dyed in two bath system. On the other hand, the color differences between cotton and polyester in composite yarns, were smaller for CP2 than that for CP1 and were also smaller in two bath dyeing system than in one bath dyeing system. Therefore, the ways of minimizing color difference between cotton and polyester in composite yarn are to apply enough setting in order to minimize shrinkage in dyeing process and to choose two bath dyeing system.

• 전기전자학회논문지
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• 제26권3호
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• pp.422-429
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• 2022

조도센서 칩은 아날로그 회로의 트리밍이나 디지털 레지스터의 초기 값을 셋팅하기 위해 소용량의 eFuse(electrical Fuse) OTP(One-Time Programmable) 메모리 IP(Intellectual Property)를 필요로 한다. 본 논문에서는 1.8V LV(Low-Voltage) 로직 소자를 사용하지 않고 3.3V MV(Medium Voltage) 소자만 사용하여 128비트 eFuse OTP IP를 설계하였다. 3.3V 단일 MOS 소자로 설계한 eFuse OTP IP는 1.8V LV 소자의 gate oxide 마스크, NMOS와 PMOS의 LDD implant 마스크에 해당되는 총 3개의 마스크에 해당되는 공정비용을 줄일 수 있다. 그리고 1.8V voltage regulator 회로가 필요하지 않으므로 조도센서 칩 사이즈를 줄일 수 있다. 또한 조도센서 칩의 패키지 핀 수를 줄이기 위해 프로그램 전압인 VPGM 전압을 웨이퍼 테스트 동안 VPGM 패드를 통해 인가하고 패키징 이후는 PMOS 파워 스위칭 회로를 통해 VDD 전압을 인가하므로 패키지 핀 수를 줄일 수 있다.