2010년 10월 28일 근일점을 통과한 103P/Hartley 2 혜성의 분광학적 특징을 연구하고자 11월 6일과 11일 양일간 보현산 천문대의 고분산 에셀 분광기 BOES(R~30,000)로 관측을 하였다. 우리는 Hartley 2 혜성의 고분산 분광자료를 Hwang et al.(2009)의 Machholz(C/2004Q2)혜성 가시광 영역($4800{\sim}8100{\AA}$) 고분산 분광 자료와 비교 분석하였고 그 결과 C2, CN, NH2,H2O+의 방출선 뿐만 아니라 다수의 미확인 분광선을 발견하였다. 또한 발견된 미확인 분광선을 설명하기 위하여 향상된 NH2방출선과 OH 방출선 등의 후보 물질을 이용하여 미확인선의 원인 물질을 제시하고자 한다. 이 발표에서는 지금까지의 분석 결과를 소개한다.
본 논문에서는 딥러닝을 기반으로 문서영상에서 표 안의 셀 경계선을 히트맵 회귀(heatmap regression)로 추정함으로써 표의 구조를 인식하는 방법을 제안한다. 표는 기본적으로 행과 열로 이루어져 있기 때문에, 제안하는 방법에서는 먼저 1 차원 벡터 형태로 세로/가로 방향의 행/열 경계선 위치를 찾고, 이에 병합된 셀을 처리하기 위해 경계선이 그어져야 할 위치를 2 차원으로 추정한 결과를 적용하여 온전한 표의 경계선을 구한다. 이러한 구조를 통해 제안하는 방법은 표의 행과 열에 대한 정보를 효과적으로 이용함과 동시에, 복잡한 후처리 없이 병합된 셀을 처리할 수 있는 이점을 보인다. 실험은 1 차원의 행/열 경계선 위치를 반영하는 두 가지 방식에 대해 PubTabNet[11]에 대해 진행하여 결과를 보였다.
본 논문에서는 결함 기저면 구조(DGS) 인버터를 이용하여 평행 결합 선로 대역 통과 필터를 설계하는 새로운 방법을 제안하였다. 이 방법은 전송선 인버터 구조의 필터 설계 시 높은 임피던스로 발생하는 선로 폭 제한 문제를 쉽게 해결할 수 있다. 제안한 방법과 기존 방법에 근거하여 13.3 %의 대역폭율을 갖는 대역 통과 필터가 설계 및 제작되었다. 두 필터의 측정 곁과는 비교적 잘 일치한다. 반면에 기존 필터에 비해 제안 필터 길이는 약 15 mm 축소되었고, 인버터 선로 폭은 2배 이상 확장되었다.
Journal of the Korean Association of Oral and Maxillofacial Surgeons
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제26권3호
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pp.284-292
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2000
내인성 산화질소는 산화질소 합성효소에 의하여 합성되며 여러 분비선에서 다양한 기능을 하리라 추측되고 있다. 구강주위 외분비선은 형태적으로 유사하나 분비물의 성분과 분비량은 서로 달라 이들 조직에서 산화질소 동위효소의 분포와 기능을 추론함은 흥미 있는 일이다. 또한 구강주위 외분비선과 분비선의 지배신경의 산화질소동위효소의 분포에 관한 보고는 희박하다. 본 연구는 흰쥐구강 주위 외분비조직, 즉 3대 타액선, 혀의 소타액선, 누선 그리고 구강점막의 피지선과 지배신경 및 신경절에서 eNOS와 nNOS의 분포를 면역조직화학 방법에 의하여 관찰하여 다음의 결과를 얻었다. nNOS는 악하선신경절, 대타액선의 분비도관 주위의 신경절후신경섬유, 혀의 소타액선 주위의 신경절후섬유, 누선에서 강한 양성반응을 보였다. nNOS는 대타액선과 근상피세포에서 중등도의 양성반응을 보였고 이중 이하선에서 반응이 가장 약하였으며, 피지선의 분비관에서 약한 반응을 보였다. 그러나 상교감신경절과 삼차신경절, 소타액선의 분비관 및 대,소 타액선의 선포에서는 반응이 매우 미약하거나 관찰되지 않았다. eNOS는 혈관의 내피세포와 대타액선의 분비관, 누선의 분비관 및 선포에서 강한 양성 반응을 보였고, 근상피세포에서 중등도의 반응을, 피지선에서 약한 반응을 보였다. 모든 신경절과 신경섬유에서 eNOS의 반응은 음성이었고 타액선의 일부 선포에서는 미약한 면역반응을 보였다. 이상의 결과 eNOS에 의해 합성된 NO는 악안면영역의 외분비선에서 혈류량의 조절과 분비도관의 기능 조절에 관여하고, nNOS에 의한 NO는 외분비선의 자율신경계에서 신경전달물질로의 기능과 분비도관에서의 분비기능 조절에 관여함을 시사하였다.
궐련벌레(Lasioderma serricorne F)가 제품담배내 오염되었을때의 방제방법으로 감마선 이용법을 선전 방제효과를 조사하였다. Gelatin capsules에 공시충을 넣은 다음 감마선을 조사해 본 결과 0.8kGy이상의 선량에서 난태는 모두 살충되었고 용태나 성충때 및 유충태는 0~30%가 살충되었다. 몇가지 제품담배값내에 공시충을 함유한 gelatin capsules이 삽입된 궐련을 넣은후 감마선 조사시의 궐련벌레 충태별 방제효과도 동일한 결과를 얻었다. 감마선의 영향을 받은 궐련벌레의 성충 및 유충태를 인공먹이로 사육해 본 결과 차세대 개체군 증식이 확인되지 않았다. 감마선에 노출된 궐련벌레의 각 충태는 선량이 높아질수록 생존기간이 짧아졌으며 4령 유충이 처리 공시충중 가장 오래 생존하였다. 감마선에 노출된 제품담배의 고유향기나 맛은 선량 증가에도 영향을 받지 않았다. 감마선이 처리된 제품담배의 포갑지나 궐련지 및 은박지 등은 고유의 색도 또한 변화하지 않았다.
디자인의 기본 요소인 선을 활용하여 금속조형물을 시각적으로 완성하기 위해 시작된 본 연구는 선의 다양한 특징과 개념을 살펴보고 선행된 연구 중에서, 선을 중심으로 진행된 작품연구들을 통해 선의 조형적 아름다움을 알아보았다. 그 결과 선의 조형적 해석은 크게 선의 굵기와 선의 장단에 의한 의도적 표현으로 진행됨을 알 수 있었다. 선행 연구들을 바탕으로 연구자는 기존의 선의 조형적 표현에서 벗어나 시각적으로 자유로우면서도 미적 아름다움을 함께 느낄 수 있는 금속조형물을 얻기 위해 적동판과 인청동선 용접을 활용하여 선의 변형과 반복으로 하나의 패턴을 완성하고 이를 통해 작품으로 연계하였다. 그 결과 선의 면적인 표현은 물론 전체적 형태의 입체감과 속도감, 통일감을 함께 느낄 수 있었다. 앞으로도 선의 조형적 해석은 더 많이 연구되어야 할 것이며, 더 나아가 선의 표현을 통한 감성적, 내재적 아름다움에 대한 다양한 연구가 계속 되어야 할 것이다.
가공 송전선로의 경과지는 대부분 낮은 산악지로서 때때로 국지적인 기상현상에 노출되어 있다. 이러한 현상으로 매년 11월부터 익년3월 사이에 국지성 톨풍에 의한 갤로핑(Galloping)현상이 발생한다. 이 현상이 우리 전력소의 154kV 금포T/L(금오 S/S-포천S/S)에서 발생하였다. 갤로핑 현상은 바람으로 인하여 전력선이 횡진과 출렁임이 발생하는 것을 말하며, 전력선이 심한 진동을 일으켜 전력선 상간 또는 전력선과 가공지선간의 혼촉으로 고장전류가 생기고, 고장전류에 의한 보호계전기 동작으로 선로가 Trip되며, 이로 인하여 전력공급이 중단된다. 또한 전력선의 기계적인 진동에 의하여 전력선의 단선으로 영구고장을 일으킬 수 있다. 본 논문에서는 경기북부지역의 산악지에 설치된 154kV 송전선로에서 산비탈면을 타고 오르는 상승 바람에 의한 갤로핑 사례를 국내 최초로 현장에서 촬영한 동영상 자료를 토대로 소개하고, 갤로핑 발생시 송전선로에 미친 영향 등 검토 결과를 알아본다. 그리고 전력선 상호간 혼촉이 발생한 지점의 아크 흔적을 설명하고, 갤로핑으로 인한 상간 혼촉방지를 목적으로 개발된 폴리머 상간 스페이서의 시공사례를 소개하며, 현재까지 상간 스페이서(interphase spacer)가 설치된 송전선로의 점검 결과를 소개하고자 한다.
본 논문에서는 스케일링-불변 윤곽선 이미지 매칭의 시각화 도구를 제안한다. 윤곽선 이미지를 시계열로 나타낼 경우, 시계열 매칭 기술을 활용하여 대용량 윤곽선 이미지 매칭을 보다 빠르게 수행할 수 있다. 이러한 윤곽선 이미지 매칭에서, 스케일링 불변의 지원은 스케일된 유사 이미지를 검색하기 위한 중요한 요소이다. 본 논문에서는 스케일링-불변 윤곽선 이미지 매칭 시스템을 클라이언트-서버 모델을 기반으로 구현한다. 먼저, 클라이언트는 질의 이미지를 시계열로 변환하고, 스케일링 팩터 구간 및 허용치와 함께 서버에 전달하고, 매칭 결과로 반환된 이미지를 차트 형태로 시각화한다. 다음으로 서버는 다차원 인덱스를 활용하여 대용량 윤곽선 시계열 데이터에 대한 빠른 시계열 매칭을 수행한다. 구현 결과, 제안하는 윤곽선 이미지 매칭 시각화 도구는 질의 이미지와 스케일링-불변 결과 이미지를 세 가지의 차트를 통해 직관적으로 비교 및 분석 가능하게 하였다.
본 논문에서는 분산메모리 머신에서 병렬 이미지 윤곽선 랭킹 문제를 해결하는 새로운 알고리즘을 제안한다. 윤곽선 랭킹 문제는 주어진 이미지의 에지 윤곽선으로부터 에지 윤곽선의 선형적 표현 방식을 생성시키는 것으로, 에지점간의 순차적인 데이터 종속관계를 갖는 이 문제를 분산메모리 머신에서 수행하려면 입력 이미지에 의한 데이터의 불균형 분포와 불규칙적인 프로세서간 데이터 종속 문제를 해결해야 한다. 본 논문에서는 이 두 가지 문제를 동시에 해결할 수 있는 병렬 알고리즘을 제안하고, 제안된 알고리즘을 IBM SP2에 구현하였으며, 그 결과 윤곽선 랭킹 문제가 효과적으로 해결되었음을 확인하였다.
디바이스의 크기가 0.25㎛이하로 축소됨에 따라 DRAM(Dynamic Random Access Memory) 제조업체들은 칩 크기를 줄이고 지역적인 배선으로 사용하기 위해서 기존의 텅스텐-폴리사이드 비트-선에서 텅스텐 비트-선으로 대체하고 있다. 본 논문에서는 다양한 RTP 온도와 추가 이온주입을 사용하여 낮은 저항을 갖는 텅스텐 비트-선 제조 공정에 대해 다루었다. 그 결과 텅스텐 비트선 저항에 중요한 메계변수는 RTP Anneal 온도와 BF₂ 이온 주입 도펀트임을 알 수 있었다. 이러한 텅스텐 비트-선 공정은 고밀도 칩 구현에 중요한 기술이 된다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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