• Title/Summary/Keyword: 선폭

Search Result 512, Processing Time 0.027 seconds

Electromigration Characteristics in AI-1%Si Thin Film Interconnections for Microelectronic Devices (극소전자 디바이스를 위한 AI-1%Si 박막배선에서의 Electromigration 특성)

  • 박영식;김진영
    • Journal of the Korean Vacuum Society
    • /
    • v.4 no.3
    • /
    • pp.327-333
    • /
    • 1995
  • 전자소자의 축소화에 따라 박막배선에서의 electromigration은 점차 극소전자 디바이스의 주요 결함원인으로 부각되고 있다. 본 실험에서는 현재 박막 배선 재료로 가장 널리 사용되고 있는 AI-1%Si 금속박막배선의 electromigration에 대한 온도 및 배선길이의 의존성에 관하여 연구하였다. PSG($8000AA$)/SiO2(1000$\AA$)/AI-1%Si(7000$\AA$)/SiO2(5000$\AA$)/p-Si(100)의 보호막처리되지 않은 시편 등을 standard photolithography 공정을 이용하여 각각 제작하였다. 선폭 3$\mu$m, 길이 100, 400, 800, $\1600mu$m등의 AI-1%Si 배막배선구조를 사용하였다. 가속화실험을 위해 인가된 d.c.전류밀도는 4.5X106A/$ extrm{cm}^2$이었고 실온에서 $100^{\circ}C$까지의 분위기 온도에서 electromigration test를 진행하였다. 박막배선의 길에에 따른 MTF(Mean-Time-to-Failure)는 임계길이 이상에서 포화되는 경향을 보이며 이는 보호막층의 유무에 관계없이 나타난다. 선폭 $3\mu$m인 AI-1%Si 박막배선에서 임계길이는, 보호막처리된 시편은 $800\mu$m, 보호막처리되지 않은 시편은 $400\mu$m 배선길이에서 나타난다. 이러한 포화의 경향은 낮은 온도에서 더욱 명확해지는 특성을 보인다. 각 시편에서 electromigration에 대한 활성화에너지도 MTF의 특성과 유사하게 임계길이 이상에서 포화되는 특성을 보인다.

  • PDF

EHD 잉크젯에서의 전압과 기판속도 변화에 의한 토출 연구

  • Im, Byeong-Jik;Lee, Gyeong-Il;Lee, Han-Seong;O, Se-Uk;Lee, Cheol-Seung;Kim, Seong-Hyeon;Ju, Byeong-Gwon;Jo, Jin-U
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
    • /
    • 2013.02a
    • /
    • pp.633-633
    • /
    • 2013
  • 직접쓰기 기술은 재료의 낭비가 적고, 생산가격의 절감, 빠른 공정속도 및 유독물질 발생 없이 친환경적인 공정이 가능하여 디스플레이 및 인쇄전자 산업 등 다양한 분야에서 적용이 가능한 기술로 평가 받고 있다. 특히 EHD (Electro-Hydro-Dynamics) 기술을 이용한 잉크젯 방식의 경우 기존의 직접쓰기 기술에서는 어려운 고해상도의 패터닝이 가능하고 다양한 특성의 잉크에 적용 가능하다는 장점을 지니고 있어 크게 각광받고 있다. 본 연구는 내경 $60{\mu}m$, 외경 100 ${\mu}m$인 지르코니아 재질의 세라믹 노즐을 사용하여 EHD 잉크젯에서의 인가전압과 기판속도 변화에 의한 토출 현상을 연구하였다. BM 잉크를 이용하여 전압을 1.7~2.25 kV 증가하여 토출 시 구현된 라인의 선폭은 22~38 ${\um}m$까지 커졌고, AMO 잉크를 이용하여 기판속도를 25~500 mm/s 증가시켜 토출 시 구현된 라인의 선폭은 $91{\sim}21{\mu}m$로 줄어들며 라인의 두께는 400~110 nm얇아지는 것을 확인하였다. 이처럼 노즐에 인가되는 전압과 기판 속도에 따라 토출의 양상이 달라지므로 이를 적절히 조합하면 안정적으로 원하는 토출을 구현할 수 있다.

  • PDF

Formation of Fine Line and Series Gap Resonator Using the Photoimageable Thick Film Technology (후막 광식각 기술을 이용한 미세라인 및 Series Gap Resonator의 구현)

  • 박성대;이영신;조현민;이우성;박종철
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
    • /
    • v.8 no.3
    • /
    • pp.69-75
    • /
    • 2001
  • Photoimageable thick film technology is a new technology in that the lithography process such as exposure and development is applied to the conventional thick film process. Line resolution of 25 $\mu\textrm{m}$ width and 25 $\mu\textrm{m}$ space could be obtained by laminating green sheet, printing photoimageable Ag paste, exposing the test patterns, developing, and co-firing. In case of using the alumina substrate, 20 $\mu\textrm{m}$ fine line could be also obtained by similar process. Test results showed that exposing power density and developing time were the most important processing parameters for the fine line formation. Microstrip and series gap resonators with well-defined line morphology and good transmission characteristics in high frequency were formed by this new technology, and thereby dielectric constant and loss of test substrate were calculated.

  • PDF

Spectral Comb Stabilization of a Mode-Locked Semiconductor Fiber Ring Laser by External Optical Injection (외부 광주입에 의한 모드 잠금된 고리형 광섬유 레이저의 스펙트럼 빗살 안정화)

  • Seo, Dong-Sun
    • Journal of IKEEE
    • /
    • v.15 no.4
    • /
    • pp.313-318
    • /
    • 2011
  • The effects of external continuous wave optical injection on spectral comb of a 10 GHz harmonically mode-locked semiconductor fiber ring laser have been studied. Greater than 40 dB spectral deeps in the spectral comb and greater than 30 dB reduction of supermode beating noise are achieved by injecting coherent light with ~ 100 KHz spectral width. To examine the possibility of using a low-cost seed source, we replace the seed source by a DFB laser with ~ 10 MHz spectral width. It shows similar spectral deeps, however supermode beating noise enhancement, rather than reduction, is observed.

Frequency stabilization of diode lasers using a ultra-stable reference cavity (초안정 기준광진기를 이용한 다이오드 레이저의 주파수 안정화)

  • 안경원
    • Korean Journal of Optics and Photonics
    • /
    • v.11 no.5
    • /
    • pp.347-352
    • /
    • 2000
  • We have stabIhzed the laser frequency of a commercial dIode laser using a ULE (Ultra-low expansion material) reference cavIty and the cunent modulation charactenstics of the dIode itself The liuewIdth of the frce running laser was about a 1 MHz (rms) for a sampling time of 1 s and the drift rate was 300 kHz/s. Vvhen the laser is locked to oue sIde of the transmission signal from the ULE reference cavity, the lincwidth was reduced to 46 kHz (nus) for a sampling time longer than 10 ms. The root Allan variance was less than 2 kHz for a sampling time langeI than10 ms. 10 ms.

  • PDF

Characteristics of Injection-Locked High Power Diode Laser (고출력 다이오드 레이저의 주입-잠금 과정 연구)

  • 문한섭;김중복;이호성;양성훈;김점술
    • Korean Journal of Optics and Photonics
    • /
    • v.6 no.3
    • /
    • pp.222-227
    • /
    • 1995
  • A single mode, 100-mW diode laser was injection-locked by the master laser which was spectrally narrowed with Littman-type grating feedback. In the incomplete-injection-locking, we observed that two frequencies were simultaneously generated from the slave laser. The power ratio and frequency shift of two frequency components were proportional to the square of injected laser intensity. When the ratio of the injection intensity to the slave laser intensity was about $10^{-3}$, the injection-locking bandwidth was to be about 1.4 GHz. The bandwidth proportionally increased to the square root of the injection intensity, which was in good agreement with the theoretical predictions. The Iinewidth of the locked-laser was about 2.5 MHz, which was five times as narrow as that of free-running operation. ation.

  • PDF

Effect of Nitrogen concentration on Properties of W-C-N Diffusion Barrier (W-C-N 확산방지막의 질소량에 따른 특성 연구)

  • Kim, S.I.;Kim, S.Y.;Kang, G.B.;Lee, D.H.;Kouh, T.;Kang, J.H.;Lee, C.W.
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
    • /
    • 2006.06a
    • /
    • pp.114-115
    • /
    • 2006
  • 반도체 기술이 초고집적화 되어감에 따라 공정에서 선폭이 줄어들고, 박막을 다층으로 제조하는 것이 중요하게 되었다. 이와 같은 제조 공정 하에서는 Si 기판과 금속 박막간의 확산이 커다란 문제로 부각되어 왔다. 특히 Cu는 높은 확산성에 의하여 Si 기판과 접합에서 많은 확산에 의한 문제가 발생하게 되며. 또한 선폭이 줄어듦에 따라 고열이 발생하여 실리콘으로 spiking이 발생하게 된다. 이를 방지하기 위하여 우리는 3개의 화합물로 구성된 Tungsten-Carbon-Nitrogen (W-C-N) 확산방지막을 사용하였다. 실험은 물리적 기상 증착법 (PVD)으로 질소비율을 변화하며 확산방지막을 증착하였고, 이를 여러 온도에서 열처리하여 X-ray Diffraction 분석을 하였다.

  • PDF

Effects of Materials and Processing in Photosensitive Silver Pastes (감광성 실버 페이스트의 재료와 공정에 대한 영향)

  • Lee, Sang-Myoung;Park, Sung-Dae;Yoo, Myong-Jae;Lee, Woo-Sung;Nahm, Sahn
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
    • /
    • 2006.06a
    • /
    • pp.42-43
    • /
    • 2006
  • LTCC 후막공정에서 일반적으로 사용되고 있는 스크린 프린팅 방법은 낮은 정밀도와 100um 이하의 선폭을 구현하는 데 한계를 보이고 있다. 이에 따라서 보다 미세한 라인을 형성 할 수 있는 반도체 미세라인 공정기술을 후막 공정에 응용한 후막 리소그라피 기술 (thick-film lithography technology)이 전자부품의 소형화에 대한 방안으로 연구 되고 있다. 본 연구에서는 후막 리소그라피 기술에 사용되는 감광성 Silver 페이스트에 영향을 미치는 각기 다른 크기와 형상의 Silver 파우더들과 인쇄 후 표면의 roughness 개선을 위한 여러 종류의 첨가제들을 첨가하여 최적의 조성을 연구 하였으며, 그린시트와 페이스트의 매칭성을 해결하기 위해서 Tg가 다른 글라스 파우더를 첨가하였다. 또한 전면 인쇄 한 후에 건조, 노광, 현상, 적층, 소성 과정을 걸치는 후막 리소그라피 기술을 이용하여 소성 후 20um이하의 선폭을 가지는 내장형 패턴 구현하였으며 투과엑스레이와 O/S 테스트 통하여 우수한 특성을 확인 할 수 있었다.

  • PDF

Theoretical and experimental analysis of modal gain in asymmetric multiple quantum well laser diodes (비대칭 다중 양자우물 레이저 다이오드에서 모드이득의 이론 및 실험적 분석)

  • 권오기;김강호;김현수;김종회;오광룡
    • Korean Journal of Optics and Photonics
    • /
    • v.14 no.3
    • /
    • pp.279-285
    • /
    • 2003
  • Wide- and flat-gain laser diodes were designed and fabricated from asymmetric multiple quantum well (AMQW) structures which consist of three compressively strained InGaAsP wells of different thicknesses. For a 400 ${\mu}{\textrm}{m}$-long lasers with as-cleaved facets, -1 ㏈ and -3 ㏈ gain bandwidth were 45 nm and 80 nm, respectively. For this AMQW structure, calculated gain spectra with various line broadening functions were compared with experimental results. We confirmed the calculated gain spectra using an asymmetric line broadening function were in good agreement with the measured data.

The Optical Filtering Effect of a RSOA-based Broadband Light Source in a Bidirectional WDM-PON System (파장분할 다중화 수동광 네트워크에서 적용된 반사형 반도체 증폭기 기반의 광역선폭 광원의 광필터 특성 의존성)

  • Choi, Bo-Hun
    • Korean Journal of Optics and Photonics
    • /
    • v.22 no.3
    • /
    • pp.122-128
    • /
    • 2011
  • The AWG-filtering effect was investigated on a bidirectional 100-GHz-channel-spacing WDM-PON link using spectrum-sliced and RSOA-amplified light sources for downstream signals and a wavelength reuse technique for upstream signals. Signal performances of three different filtering AWGs, including Gaussian, trapezoidal, and rectangular types, were compared on link transmission with fiber nonlinear effects. As an extinction ratio of a downstream signal varied, the effect for both directional signals was analyzed and optimized. It was found that there was an optimal pass bandwidth of an AWG for the balance between relative intensity noise decrement and cross phase modulation noise increment as the bandwidth got wider.