• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2004.05a
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• pp.240-240
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• 2004

본 논문에서는 광학 기기 전반에 사용되고 있는 비구면 렌즈(aspheric lens)의 모델링과 제작 및 검증에 관한 연구를 수행하였다. 비구면 렌즈는 볼록렌즈, 오목렌즈와 달리 비구면을 사용함으로써, 사물의 원근에 관계없이 하나의 초점에 상을 맺을 수 있다. 그러나 이에 대한 모델링 정보는 공개되지 야고 있다. 따라서 본 연구에서는 다음의 식을 오일러 법(Euler method)을 적용하여 비구면 렌즈의 기하학적 형상을 모델링하였다.(중략)

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.7 no.1
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• pp.51-59
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• 1996

In this paper, we propose a new type of a planar waveguide lens, a meniscus lens instead of a plano-convex lens used widely for the optical integrated circuits such as optical numerical processors. A plano-convex lens has a spherical aberration caused by the linear boundary. In the proposed meniscus lens, this linear boundary is replaced by a circular-boundary, and the spherical aberration is removed. To test the performance of the proposed lens, a meniscus lens is designed using Fermat principle and fabricated on the Y-cut $LiNbO_3$ substrate. First a $Ti:LiNbO_3$ planar waveguide is fabricated on the $LiNbO_3$ substrate by Ti indiffusion. Then a meniscus lens is fabricated on the planar waveguide by TIPE(Ti indiffued proton-exchange) method. A plano-convex lens is also fabricated on the same substrate to compare the spot size at the focal point. The measured spot size of the meniscus lens is reduced to 59% that of the plano-convex lens. This result shows that the proposed meniscus lens is more effective for optical integrated circuits than the plano-convex lens.

• 대한공업교육학회지
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• v.43 no.1
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• pp.94-113
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• 2018

The purpose of this study is to develop a using various convex lenses 'VR glasses' instructional materials for area of communication technology of the 2015 Revision Curriculum in middle school. This study was progressed depend on ADDIE model. In the analysis step, a necessity of developing the instructional materials was confirmed through social needs and leaner's needs and literature researches were reviewed about the 2015 Revision Curriculum and virtual reality and confirmed the area of communication technology related to VR glasses. The communication process of information was selected as a communication technology area related to VR glass. In the design step, Based on the analysis stage, instructional objectives were set and instructional method and medium were selected. In the development step was developed instructional materials, what are teaching-learning guidance, power-point presentations, the paper for group learning activities, Individual portfolio, and using various convex lenses VR glasses example. As a result of 'VR glasses' using various convex lenses, the viewing angle was enlarged when the diameter of the convex lens was large, but it was difficult to quantify it. In the implementation step, the instructional materials developed for middle school students was applied. In the evaluation step, instructional materials were modified and improved through a students evaluation, experts evaluation.

• 정보저장시스템학회:학술대회논문집
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• 2005.10a
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• pp.151-152
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• 2005

Blu-ray 디스크에서는 NA=0.85 의 높은 개구수를 채용함으로써 디스크 보호층의 두께 변동에 따른 구면수차 발생량이 매우 커지는 문제가 발생하게 된다. 따라서 디스크 두께 공차 $3{\mu}m$에서 Blu-ray 시스템의 수차 발생 허용수준을 초과한다. 그리고 Multi-layer 디스크의 경우 각 층의 간격이 $25{\mu}m$ 정도의 간격을 두고 배치되어 있어 기록층 사이에서 발생하는 구면수차의 보정이 필요하며, 종래의 기술은 보상범위가 $3{\mu}m$로 한정되어 사용이 불가능하며 또한 대물렌즈 조립공차가 엄격히 관리되어야 하는 문제점을 안고 있었다. 본 연구에서는 액정렌즈에 의한 구면수차 보정으로 이러한 문제점들을 해결하고자 하였다. 액정렌즈는 오목렌즈 액정소자와 볼록렌즈 액정소자로 구성되며 픽업 광학계 내에 조합하여 설계함으로써 Multi-layer 디스크의 두께 변동에 따라 발생하는 구면수차를 보정하고 대물렌즈 조립공차 문제를 해결할 수 있다.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.24 no.5
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• pp.217-223
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• 2013

White light MTF(Modulation Transter Function)s of biconvex trial lenses from 10 to 20 diopter (D) were represented as a function of angular frequency and visual acuity, and then they were compared with AIM(Aerial Image Modulation) curves. All of the biconvex trial lenses evaluated in on-axis mode had MTF performance that could resolve Landolt's ring up to visual acuity 2.0. However, in a half field angle of five degrees, the trial lens of 10 diopters was able to resolve Landolt's ring up to visual acuity 0.9, and that of 20 diopter only up to visual acuity 0.8. This means that the trial lenses in the case of a half field angle of five degrees do not have sufficient resolution to measure visual acuity by 1.0.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2003.02a
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• pp.238-239
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• 2003

집적결상(integral imaging)에서 렌즈어레이(lens array)를 이용하여 3차원적인 물체를 기본영상(elemental image)들로 결상한 후, 다시 그 기본 이미지들로부터 3차원 이미지를 재생하는 과정에서 기본 이미지들을 변환시키지 않으면, 3차원 이미지가 재생될 때, 렌즈어레이와 수직한 축에 대해 렌즈어레이에 가까운 쪽과 먼 쪽이 서로 바뀌는 슈도스코픽(pseudoscopic) 현상이 일어난다. 그래서 기본이미지들을 변환시키기 위해 렌즈어레이를 한번 더 사용한 이단 집적결상계를 이용하거나 영상처리 방법을 이용하는데, 이와 같은 방법은 광학적 손실을 크게 하거나 처리 속도를 느리게 한다. (중략)

• Proceedings of the Korean Institute of Navigation and Port Research Conference
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• 2019.11a
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• pp.101-103
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• 2019

기존 해상용 등명기의 경우 빛을 평행하게 만들기 위해 볼록렌즈를 정교하게 절삭하여 곡률을 제작하는 기술이 까다로워 해상용 등명기 제작비용이 비싼 프레넬 렌즈를 사용하고 있다. 따라서 프레넬 렌즈를 사용하지 않고 평행 광을 만들 수 있는 포물선 반사체(parabolic reflector)의 원리를 도입하였다. 포물선 반사체의 원리는 포물선 초점에 있는 LED 광원에서 빛을 반사체에 반사하여 평행 광을 만드는 원리이며, 포물선 반사체에 반사된 빛은 45° 기울기의 원뿔형 반사체에 한 번 더 반사되어 지표면과 평행한 빛을 360° 방향으로 균일하게 내보낸다.

• Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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• v.5 no.3
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• pp.197-203
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• 2004

New lithography techniques are employed for the patterning of arbitrary shapes in nanometer scale. When, in the photolithography, the electromagnetic waves such as UV and X-ray are incident on the mask patterned in nanometer scale, the diffraction effect is unavoidable and degrades images of the mask imprinted on wafer. Only a convex lens is well-known Fourier transformer. It is possible to make the mask Fourier-transformed with the convex lens, even though the size of pattern on the mask is very large compared to the wavelength of electromagnetic wave. If the mask, modified according to new technique described in this paper, was placed at the front of the lens and was illuminated with laser beam, the nanometer-size patterns are only formed on the plane called Fourier transform plane. The new method presented here is quite simple setup and comparable with present and next generation lithographies such as UV/EUV photolithograpy and electron projection lithography when compared in attainable minimum linewidth. In this paper, we showed our theoretical research work in the field of Fourier optics, . In the near future, we are going to verify this theoretical work by experiments.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2014.02a
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• pp.256.1-256.1
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• 2014

21세기 정보화 시대의 도래와 함께 반도체 및 디스플레이 분야는 고부가가치산업으로 급격히 성장하였고, 현재까지도 미래의 지속적인 시장 창출을 위하여 기술개발과 투자로 초미세화, 고효율, 대면적화에 대한 원천기술 확보가 중요시되고 있다. 반도체 및 디스플레이의 대면적화가 진행됨에 따라 플라즈마 공정장비의 대면적화도 활발히 기술개발이 진행되고 있으며, 대면적화에 있어 플라즈마의 공간균일도는 생산수율 및 공정균일화를 위해 기본적으로 평가되어야 하는 중요한 지표가 되었다. 하지만 종래의 진단법들은 대면적 플라즈마 진단에 매우 제한적이기 때문에 본 연구에서는 대면적 플라즈마의 공간균일도 평가를 위해 플라즈마의 방출광 측정을 기초로 하는 진단계를 개발하였다. 플라즈마 방출광을 이용한 진단은 플라즈마에 섭동을 주지 않고 전자온도의 변화 및 공간균일도를 평가할 수 있다. 이 진단법은 두 마주보는 한쪽 면이 평평한 볼록렌즈(plano-convex lens)로 이루어진 수광시스템과 역변환 알고리즘을 통해 선 적분된 방출광으로부터 플라즈마 방출광의 국지적 정보를 측정하는 것이다. 플라즈마와 같이 크기가 큰 광원의 경우 렌즈 광학계에서 필연적으로 수반되는 선적분된(chord-integrated) 방출광을 제거하기 위해 구조에 따른 시스템 함수를 이용한 푸리에 변환 알고리즘을 개발하였고, 이를 통해 렌즈 초점거리의 정확한 방출광 세기만 재구성하였다. 이러한 재구성 방법을 이용하여 렌즈의 거리를 움직이며 대면적 플라즈마의 방출광 분포측정을 수행하였고, 이에 대한 결과를 발표하고자 한다.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.9 no.2
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• pp.51-58
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• 1998

We investigated surface-relief profiles of the TPHK(telecentric paraxial holographic kinofrm) used as a Fourier-transform lens employing exact geometrical raytracing. For the TPHK of F/8 and focal length of 15 mm, we consider the cases where the thickness of the substrate is 0 and 50 ${\mu}{\textrm}{m}$, dividing the surface-relif profiles into fifty steps from plano-convex to convexplano shapes and varying the angle of incidence($0^{\circ},{2.5}^{\circ},5^{\circ}$). In order to identify appropriate surface-relief profiles, we employ, as criteria of performance, rms spot size, rms deviation from $f{\sin}{\theta}$, peak position and FWHM(full width at half maximum), number of rays abandoned from raytracing etc., which are determined from the result of exact raytracing. It is found that the profile with 80% of its relief thickness facing the image plane gives the best performance regardless of the presence of substrate.