• 한국표면공학회:학술대회논문집
• /
• 한국표면공학회 2008년도 추계학술대회 초록집
• /
• pp.93-93
• /
• 2008

니켈도금은 각종 소지 상에 직접적이고 밀착성이 양호하고, 변색이 적고 방청력이 크며, 경도, 내식성, 내마모성 및 유연성이 우수하다. 또한 최근 활발히 진행되고 있는 광촉매 연구에 $TiO_2$는 우수한 광화학적 안정성, 효과적인 전하분리, 높은 산화 환원력 및 상업적 적용성을 갖기 때문에 니켈도금용액에 $TiO_2$를 첨가하며 복합도금을 행함으로써 니켈이 가지고 있는 기존의 우수한 특성에 $TiO_2$의 광분해 효과를 부과시킴 으로써 그 특성이 한층 더 향상되는 것을 알수있다. 본 연구에서는 수용액전해질과 비수용액 전해질에서의 Ni-$TiO_2$ 복합도금의 특성을 비교 분석해보았다. 동전위(Potentiodynamic)실험 및 순환전위(Cyclic Voltammetry)실험을 하였으며, 도금층의 특성 및 두께는 OM,SEM을 이용하여 분석하였다. 또한 복합도금 촉매 전극에 의한 광분해 효과를 보기 위해서 UV램프를 이용하여 분석하였다.

• 한국표면공학회지
• /
• 제29권2호
• /
• pp.109-119
• /
• 1996

In order to improve adhesion of electroless copper deposits on alumina substrates, some stabilizers such as 2-Mercapto Benzothiazole, thiourea and NaCN were added over a wide range of concentrations. The adhesion tests of the deposits were performed by using the cellophane tape and the push-pull scale. With the minor addition of the stabilizers, 2-MBT having a large molecular size gives poor adhesion, together with a finer grain structure, whereas Thiourea and NaCN show a high mechanical strength of the deposits. The high mechanical strength is supposed to be due to the easy desorption of hydrogen gas generated from the electroless reactions. A large amount of the three stabilizers decreases the adhesion for all the cases, resulting from strong adsorption of the stabilizers to the substrates.

• 한국표면공학회:학술대회논문집
• /
• 한국표면공학회 2007년도 춘계학술발표회 초록집
• /
• pp.136-138
• /
• 2007

최근 기계가공기술의 발달에 따라 내마모용 TiN 박막의 수요가 증가하였고, TiN박막은 내마모용으로 높은 경도 및 밀착력을 필요로 한다. TiN박막을 증착시키는 방법은 PVD, CVD 등 여러 가지가 있으나 본 연구에서 공구강 SKD 61기판 표면과 Radical Nitriding(RN) 처리된 SKD 61 기판에 arc ion plating(AIP)를 이용하여 TiN 박막을 증착시켜 표면경도를 향상시키고, 이 코팅층의 미세구조가 기계적 특성에 미치는 영향을 연구하였다. 그 결과 RN처리된 SKD61에서 코팅 두께가 많이 나왔고, 스크래치테스트 결과 접착력이 향상되었음을 알 수 있었다.

• 한국표면공학회:학술대회논문집
• /
• 한국표면공학회 2012년도 춘계학술발표회 논문집
• /
• pp.269-270
• /
• 2012

Strip 강판의 코팅막의 밀착력 향상을 위하여 강판 표면의 에칭은 필수적이다. 본 연구에서는 대전류 이온원을 이용하여 Strip 강판 에칭에 적용 가능한 장시간 사용 가능한 대전류 이온원의 개발과 고속 이온빔에칭 공정 조건을 개발하였다. 대전류 이온원의 내구성 향상을 위하여 필라멘트등 이온원의 부품 개선을 통하여 장시간 사용 가능한 대전류 이온원 개발하여 이온원의 내구성을 120hr 이상 확보하였다. 또한 이온원의 인출전극에 관한 기초연구 수행을 통해 11nm/s(Si wafer 기준)이상의 고속 이온빔에칭 공정조건을 개발하였다.

• 한국표면공학회:학술대회논문집
• /
• 한국표면공학회 2012년도 춘계학술발표회 논문집
• /
• pp.313-314
• /
• 2012

본 연구는 반도체 배선형성에 있어 무전해 방식의 동(Electroless Copper) 피막특성에 관한 연구이다. 반도체 동 배선을 습식 무전해 도금공정을 이용하여 형성하였고, 이의 피막에 대하여 기본적인 표면 및 단면 조직이나 결정구조, 밀도, 석출속도, 밀착성 등을 분석하였다. 이어, 배선용 특성으로 요구되는 배선 비저항과 열처리에 따른 저항변화를 실험을 통하여 고찰하였고, 표면조도 및 조직구조에 따라 EM에 대한 영향성을 고찰하였다. 이어 AR3.0에 배선폭 30nm급의 초미세 배선상에서의 Gap-fill 상태를 확인한 결과 void없이 충진됨을 확인할 수 있었다.

• 한국표면공학회:학술대회논문집
• /
• 한국표면공학회 2001년도 춘계학술발표회 초록집
• /
• pp.8-8
• /
• 2001

초고속 증착은 짧은 시간에 박막 형성을 가능하게 하므로 window glass 코팅등의 대면적 코팅에 있어서 비용을 절감 시키고, 대량생산을 가능하게 만들기 때문에 관심이 집중되고 있다. 고속증착 공정으로는 high current arc, laser arc, hollow cathode discharge ion plating 그리고 마그네트론 스퍼터링법 등이 있다. 특별히 마그네트론 스퍼터링법은 3m이상의 넓이에 코팅을 할때 두께가 매우 균일하며, 증착율은 evaporation 공정에 비해 경제적, 기능적인 면에서 효율적이다. 그리고 증착된 박막은 매우 조밀하고 좋은 밀착력을 갖고 있으며, 고융점 금속을 포함하여 금속 합금 및 혼합물의 비율을 조정 및 금속 산화물, 질화물, 탄화물 등과 같은 금속의 증착도 stoichiometry를 조정하여 박막을 합성 시키는데 있어서 효과적이다. 이러한 초고속 증착을 만들기 위한 마그네트론 스퍼터링법의 요건은 마그네트론 원이 높은 타켓 power density를 가져야 하며, 타켓에서 효율적으로 플라즈마를 구속하여 스퍼터 되는 이온의 양을 최대화 시킬 수 있어 한다. 따라서 본 실험에서는 초고속 증착을 위해서 직경 50mm 타켓의 UBM magnetron원을 설계 제작하였다. 고밀도의 플라즈마를 형성시키기 위해서, Poisson simulation c code를 이용하여 자기장의 방향, 세기 및 밀도를 측정 하였고, 자기장 측정기(Gauss meter)를 이용하여 실제 자장을 측정 비교 분석하였다. 상기의 data를 바탕으로 여러 형상의 마그네트론원을 설계, 제작하였고. 마그네트론 원의 특성 분석을 위해 I-V 방전 특성을 평가하였고 substrate ion current density와 박막의 증착율을 측정하였다.duty-on 시간의 증가에 따라 $Cr_2N$ 상의 형성이 점점 많아져 80% duty-on 시간 경우에는 거의 CrN과 $Cr_2N$ 상이 공존하는 것으로 나타났다. 또한 duty-on 시간이 증가할수록 회절피크의 세기가 증가하여 결정화가 더 많이 진행되어짐을 알 수 있었다. 마찬가지로 바이어스 펄스이 주파수에 다른 결정성의 변화도 펄스의 주파수가 증가할수록 박막이 결정성이 좋아지고 $Cr_2N$ 상이 쉽게 형성되었다. 증착 진공도에 따른 결정성은 상대적으로 질소의 농도가 높은 낮은 진공도에서는 CrN 상이 주로 형성되었으며, 반대로 높은 진공도에서는 $Cr_2N$ 상이 많이 만들어졌다. 즉 $1.3{\times}10^{-2}Torr$의 증착 진공도에서는 CrN 상만이 보이는 반면 $9.0{\tiems}1-^{-2}Torr$ 진공도에서부터 $Cr_2N$ 상이 형성되기 시작하여 $5.0{\tiems}10^{-2}Torr$ 진공도에서는 두개의 상이 혼재되어 있음을 알 수 있었다. 박막의 내마모성을 조사한 결과 CrN 박막의 마찰 계수는 초기에 급격하게 증가한 후 0.5에서 0.6 사이의 값으로 큰 변화를 보이지 않았으며, $Cr_2N$ 박막도 비슷한 거동을 보였다.차 이, 목적의 차이, 그리고 환경의 의미의 차이에 따라 경관의 미학적 평가가 달라진 것으로 나타났다.corner$적 의도에 의한 경관구성의 일면을 확인할수 있지만 엄밀히 생각하여 보면 이러한 예의 경우도 최락의 총체적인 외형은 마찬가지로 $\ulcorner$순응$\lrcorner$

• 대한세포병리학회지
• /
• 제4권2호
• /
• pp.105-110
• /
• 1993

갑상선의 세침흡인 세포학적 검사에서 가장 문제가 되는 점은 여포상 종양의 진단이다. 세포학적 소견만으로는 증식성 결절성 갑상선종, 여포성 선종 및 분화가 잘 된 여포상 암종 간의 감별 진단이 매우 어려운 경우가 많다. 저자들은 최근 4년 5개월 간에 조직학적으로 확진된 여포상 종양 중 수술 전에 적합한 세포학적 검사가 시행된 15예를 대상으로 그 세포학적 소견을 재검토하였다. 여포상 선종 6예의 흡인 도말은 공 모양 또는 합포체를 형성하는 다량의 여포성 세포를 함유하고 있었고, 경도의 핵 다형성 및 작은 핵소체가 각각 2예에서 관찰되었다. 배경은 출혈성으로 교질 성분은 매우 적거나 없었다. 여포상 암종 9예도 기본적으로 선종과 유사한 세포학적 소견을 보였는데, 세포밀도가 좀더 높고, 세포집단의 모양이 더 크고 불규칙하였으며, 흩어진 개별 종양세포가 많은 것이 차이점이었다. 핵의 다형성 및 눈에 띄는 핵소체가 선종에서 보다 많은 6예 및 5예에서 각각 관찰되었으나 그 정도는 심하지 않았다. 대부분의 암종과 1예의 선종에서 종양세포 집단에 밀착한 혈관 내피세포가 관찰되었다. 전반적으로 여포상 선종 및 암종은 미미한 차이를 보여서 세포학적으로 확실히 구별하기는 어려웠으나, 많은 수의 개별 세포와 종양세포 간에 포착된 혈관내피세포의 존재는 양성보다는 악성을 시사하는 소견으로 생각되었다. 여포상 종양의 세포학에 좀더 관심을 가짐으로써 그 발견율을 현저히 높일 수 있다고 생각된다.

• 대한방사선기술학회지:방사선기술과학
• /
• 제6권1호
• /
• pp.103-113
• /
• 1983

Scintillation cameras을 사용(使用)할때 양질(良質)의 화상(畵像)을 얻기 위하여 camera의 성능(性能), 방사성의약품(放射性醫藥品)의 특성(特性), 그리고 적정(適正)한 촬상조건(撮像條件)을 고려할 필요(必要)가 있다. 특(特)히 RI 상(像)에 대한 촬상조건(撮像條件)은 film의 성질(性質), 상(像)의 크기, 상(像)의 농도(濃度), window, 그리고 콜리메타 전면(前面)으로부터 거리(距離) 등(等)에 따라서 좌우(左右)된다. 이러한 요인(要因)들은 각각 화상(畵像)을 만드는 과정에 영향(影響)을 미치고 있다. 그러므로 상(像)의 표준화(標準化)와 촬상방법(撮像方法)의 기준(基準)을 확립(確立)하기가 매우 어렵다. 고로 이러한 문제(問題)들을 해결(解決)하는 것은 Scintillation camera을 사용(使用)하는 핵의학적(核醫學的) 검사(檢査)에 있어서 매우 중요(重要)하다. 저자(著者)는 이러한 점(點)을 고려하여 일정(一定)한 상(像)의 농도(濃度)을 얻을 수 있는 촬상조건(撮像條件)에 대(對)하여 실험(實驗)을 하였다. 실험(實驗)에 있어서 평행다공형(平行多孔型) 콜리메타를 camera의 head에 부착(附着)시키고 $^{99m}Tc$(3mCi)가 넣어져 있는 liver phantom을 콜리메타의 표면(表面)에 밀착(密着)시켜 다음과 같은 방법(方法)에 의하여 촬상(撮像)하였다. 즉, 일정(一定)한 상(像)의 농도(濃度)을 얻을 수 있는 촬상조건(撮像條件)을 찾아낼 목적(目的)으로 preset time, image size, 콜리메타전면(前面)- phantom간(間) 거리(距離), 그리고 window를 각각(各各) 변화(變化)시키면서 phantom을 촬상(撮像)하였으며, 특(特)히 거리(距離)와 window에 있어서는 cold defects의 검출능(檢出能)도 비교검토(比較檢討)하였다. 실험결과(實驗結果)는 다음과 같다. 1. C type film에 있어서 1.5의 농도(濃度)을 얻기위해서는 7.5의 intensity 에서 preset time은 60초(秒), image size는 1.0, 콜리메타-phantom간거리(間距離)는 0cm 그리고 window는 20%가 요구(要求)되고 있었다. 2. 편면유제(片面乳劑) film의 preset time은 양면유제(兩面乳劑) film보다 짧은 것으로 나타났다. 3. 상(像)의 분해능(分解能)은 image size가 작을수록, 콜리메타-phantom간(間) 거리(距離)가 짧을수록, 그리고 window 폭(幅)이 좁을수록 더욱 더 향상(向上)되고 있었다. 4. Cold defects의 검출능(檢出能)은 image size가 작을수록, 콜리메타-pantom간(間) 거리(距離)가 짧을수록, 그리고 window폭(幅)이 좁을수록 향상(向上)되고 있었다.

• 대한기계학회논문집
• /
• 제15권2호
• /
• pp.575-583
• /
• 1991

The weld pool convection problem that occurs during the stationary GTA welding has been studied, considering the four driving forces for weld pool convection, i.e., the electromagnetic force, the buoyancy force, the aerodynamic drag force, and the surface tension force at the weld pool surface. In the numerical simulation, the difficulties associated with the irregular moving liquid-solid interface have been successfully overcome by adopting a Boundary-Fitted Coordinate system. In the experiments to show the validity of the numerical analysis, a deep periphery and shallow centerpentrated weld pool shape was observed from the etched specimen. It could be revealed that this type of weld pool shape could be simulated, only when some of aerodynamic drag force distributions are considered. Although slight disagreement arose, the calculated and the observed weld pool shapes were in a reasonable agreement.

• 공업화학
• /
• 제10권1호
• /
• pp.67-72
• /
• 1999

Nylon-inorganic filler alloy의 도금에 있어 최적 전처리 공정에 관하여 연구하였다. Nylon-inorganic filler alloy는 etching 공정만으로도 무정형층을 제거하여 요구되는 충분한 밀착력을 얻을 수 있었다. SEM과 표면조도 측정으로부터 etching 공정이 수지표면을 매우 거칠고 접착력을 우수하게 만든다는 결과를 얻었으며, 도금물질의 표면상태와 접착력은 Nylon-inorganic filler alloy 수지의 성형조건에 의존한다는 것을 확인하였다. EDS 분석으로 전처리 후 수지표면의 잔류금속의 종류와 양을 측정한 결과 Cr은 Sn과 Pd의 흡착에 크게 영향을 미치지 않는 것으로 나타났다.