• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2002.05a
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• pp.19-19
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• 2002

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2013.05a
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• pp.37-37
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• 2013

무전해도금법 (electroless plating)은 Brenner와 Riddell이 1946년에 처음으로 환원제를 이용한 금속의 침적을 electroless plating이라고 명명한 뒤 전기를 이용하지 않고 금속막을 얻을 수 있는 방법으로 인지되어왔다. 초기에는 용액이 불안정하였으나 용액의 안정성을 향상시키면서 꾸준히 산업체에 쓰여왔다. 무전해도금의 응용이 처음에는 니켈에 국한되었으나 구리의 무전해도금이 PCB에 사용되면서 80년대부터 전자산업에서 많이 쓰이게 되었다. 최근에는 무전해도금을 이용한 전자산업뿐만 아니라 MEMS와 같이 전기도금을 위한 전기접촉이 어려우면서 정밀한 균일도를 요구하는 분야에도 많이 쓰이고 있다. 본 발표에서는 무전해도금법의 일반적인 원리와 이를 이용한 IT 산업에서의 응용에 대하여 알아본다.

• The Bulletin of The Korean Astronomical Society
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• v.38 no.2
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• pp.83.1-83.1
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• 2013

선형비점수차를 완벽하게 제거한 비축반사경 이론을 천체 관측용 분광기의 전단 광학계 등에 응용하면 색수차가 없는 기기 제작이 가능하다. 이러한 비축 반사경은 DTM(Diamond Turning Machine)을 이용하여 알루미늄으로 만들면 제작 시간이 단축된다. 그러나 DTM을 이용해 알루미늄과 같이 무른 금속을 가공할 경우 툴마크가 발생하게 된다. 툴마크는 회절현상을 발생시키며 이러한 회절현상은 알루미늄 반사경을 이용한 광학계 개발에 제약이 된다. 툴마크는 DTM 가공 이후 연마를 통해 제거할 수 있지만 알루미늄의 무른 특성으로 인해 연마 과정에서 반사경의 형상이 변할 가능성이 크다. 이러한 알루미늄 반사경의 형상 변화를 최소화하기 위한 방법으로는 알루미늄 반사경 표면에 무전해니켈도금을 하는 것이다. 하지만 도금 과정에서 반사경의 형상이 변할 가능성이 있기 때문에 두가지 방법을 사용하여 툴마크를 제거할 계획이다. 첫 번째 방법은 DTM 가공된 알루미늄 반사경을 5 um의 무전해니켈도금 이후 연마하여 툴마크를 제거하고 반사율 증가를 위해 그 위에 다시 알루미늄 코팅을 하는 방법니다. 두 번째 방법은 100 um의 무전해니켈도금 이후 DTM 가공을 하고 다시 연마를 통해 툴마크를 제거하는 방법이다. 이번 발표에서는 툴마크를 제거하기 위한 2가지 방법의 장단점을 확인하고 툴마크를 제거한 알루미늄 반사경을 제작하기 위한 과정을 설명하였다. 본 연구에서 개발한 비축 반사경은 서울대학교 창의연구단의 광학/적외선 카메라 CQUEAN의 차세대 모델에 적용할 계획이다.

• Proceedings of the Korean Society of Machine Tool Engineers Conference
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• 2004.04a
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• pp.53-57
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• 2004

In this paper, we will present the Aspheric Surface Program for optical element. X-ray optical element designed to give a high resolution and reflectively in order to observe the living cell in the range of the water window. According to optical design, we developed the Aspheric Surface Program using the visual basic. Using the Aspheric Surface Program, we directly machined the electroless nickel bulk.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2007.11a
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• pp.29.2-29.2
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• 2007

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2013.02a
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• pp.322-322
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• 2013

최근 전자제품들의 소형화, 경량화, 다기능화가 활발히 진행됨에 따라, 고성능의 고출력용 인쇄회로기판(PCB)의 개발이 요구되고 있다. PCB는 전자제품의 각 부품을 전기적으로 연결하는 통로로서 전자제품의 소형화, 다기능화에 따라 고집적화가 요구되고 있다. 하지만 모든 전자장비의 고장의 85% 정도가 발열에 의한 것으로, PCB의 고집적화에 따른 발열문제가 매우 중요한 이슈가 되고 있다. 최근에는 이러한 문제점을 해결하기 위해 PCB의 방열층으로 양극 산화막을 금속 기판 위에 형성하고 이 절연층 위에 금속층을 회로로서 형성하는 방열 PCB 기판에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 최근까지, 금속층 회로 형성을 위해 무전해 Ni 도금에 대한 연구가 활발히 이루어져 왔다. 하지만 주로 화학적, 전기화학적 관점에서 많은 연구자들에 의해 조사 연구되어 왔다. 본 실험에서는 anodized Al 절연층 위의 회로전극 부분으로 스크린 방법으로 Ag paste를 패턴 인쇄한 뒤, 무전해도금 방식으로 저렴한 Ni 전면 회로전극을 형성하여 전기전도도를 높이고, 저항을 낮출 수 있는 회로로서 기판의 손상을 최소화하고 선택적으로 Ag 패턴에만 Ni 전극회로를 형성시키는 것을 목표로 연구하였다. Ni-B 무전해 도금시 도금조의 온도는 $65^{\circ}C$, 무전해 도금액의 pH는 ~7 (중성)로 유지하였다. Al2O3 기판을 이용한 Ag Paste 패턴 위에 증착된 Ni-B 박막의 특성을 분석하기 위해 X-ray diffraction (XRD), AFM (Atomic Force Microscopy), SEM (Scanning Electron Microscope), XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy)을 이용하여 Ni-B 박막의 특성을 분석하였다.

• Korean Journal of Materials Research
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• v.5 no.8
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• pp.1013-1019
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• 1995

The thin plate of Co-Ni-P was deposited on the polyester film by the electroless plating method. Through present experiments, deposition rates and metal compositions of the plates were determined according to compositions of solution, pH and temperature. Also, magnetic properties of plates were examined according to metal compositions. Considering magnetic properties and deposition rates of electroless plating, the best condition was obtained as pH of 8.5 and 90℃. It was observed that metal compositions were evidently varied by the pH of solutions and the concentration of complex agents. However. they were not affected by other factors. At the optimum condition, the composition of the plate was Co(78%), Ni(16%), and P(6%). Also, it was found that the coercive force was 370 Oe, and squareness was 0.65 at this condition. Magnetic properties (hard or soft) of thin plates were determined by metal compositions. Therefore. the plate became soft magnetic plate as the composition of nickel increased over 30 per cents. The crystal structure of the soft magnetic plate was found to be amorphous in which it was strongly oriented to the (111)phahe of nickel. On the ohter hand, the hard magnetic place was found to be hcp crystalline of α-cobalt which was oriented to the (101)phase of cobalt and the (100)phase of cobalt.

• The korean journal of orthodontics
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• v.36 no.2 s.115
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• pp.145-152
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• 2006

The purpose of this study was to evaluate electroless plating as a method of increasing the diameter of an orthodontic wire in comparison with eletroplating. After pretreatment plating of the 0.016 inch stainless steel orthodontic wire, electroless plating was performed at $90^{\circ}C$ until the diameter of the wire was increased to 0.018 inch. During the process of electroless plating, the diameter of the wire was measured every 5 minutes to examine the increasing ratio of the wire's diameter per time unit. And to examine the uniformity, the diameter at 3 points on the electroless-plated orthodontic wire was measured. An X-ray diffraction test for analyzing the nature of the plated metal and a 3-point bending test for analyzing the physical property were performed. The electroless-plated wire group showed a increased tendency for stiffness, yield strength, and ultimate strength than the electroplated wire group. And there was a statistically significant difference between the two groups for stiffness and ultimate strength. In the electroless-plated wire group, the increasing ratio of the diameter was $0.00461{\pm}0.00003mm/5min$ (0.00092 mm/min). In the electroplated wire group, it was $0.00821{\pm}0.00015mm/min$. The results of the uniformity test showed a tendency for uniformity in both the plating methods. The results of this study suggest that electroless plating of the wire is closer to the ready-made wire than electroplating wire in terms of the physical property. However, the length of plating time needs further consideration for the clinical application of electroless plating.

• Journal of Surface Science and Engineering
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• v.27 no.4
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• pp.193-206
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• 1994

A wear behavior of electroless (Ni-P-X, X: SiC, $Al_2O_3$, Diamond) composite coating layers, formed under various conditions on commerical grade low carbon steel, has been investigated using Taber abrasion tester and scanning electron microscope. Several factors, which are type of particles, co-deposited content, particle size, distribution of particles and heat-treatment, influenced the wear resistance. The wear resistance of the composited coating layers after heat-treatment at $400^{\circ}C$ for 1 hr was increased 70 times with diamond, 15 times with SiC and 8 times with $Al_2O_3$, compared with the electroless nickel plating layer without heat-treatment.

• Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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• v.6 no.1
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• pp.88-97
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• 1996

The metallization is the key to determining cell costs, cell performance, and system reliability. Screen printing technology suffers from several limitations affecting mainly the front grid. The buried contact solar cell (BCSC) was specifically desinged to be compatible with low cost, mass production techniques and avoid the conventional metallization problem. By using electroless plating technique, we performed this metallization inexpensively and reliably. This paper presents the details of the optimization procedure of metallization schemes on laser grooved cell surfaces. Commercially available Ni, Cu and Ag plating solutions were applied for the cell metallization. The application of those solutions on the buried contact front metallization has resulted in an cell efficiency of 18.8%. The cell parameters are an open circuit voltage of 651 mV, short circuit current density of 37.1 mA/$\textrm{cm}^2$, and fill factor of 77.8 %. The efficiency of over 18 % was achieved in the above 90% of the batch.