• Title/Summary/Keyword: 막열화

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Investigation on Performance Degradation of Protective Coating by Application of Rust Remover (마감 도장면 도막 성능에 미치는 rust remover 영향)

  • Kim, Dae-Gyeong;Jo, Yeon-Ho;Cheon, Je-Il;Han, Myeong-Su;U, Jong-Sik
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2014.11a
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    • pp.82-82
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    • 2014
  • 마감 도장이 완료된 면이 장기간 노출된 상태에서 후속 작업으로 인해 금속 분진 등의 오염물이 쌓이면 수분 및 염분 등과의 반응으로 도장 표면에 녹 등의 2차 오염이 발생하여 광택이나 표면 미려함 등을 잃어버리게 된다. 이럴 경우 소요되는 시간과 경비를 줄이기 위해 재도장 작업 대신 도장 표면의 오염 막을 제거하기 위한 방법으로 rust remover가 사용되고 있으나, 현재 rust remover 사용에 따른 도막 열화에 관한 객관적인 자료가 없는 실정이다. 본 연구에서는 당에서 사용되고 있는 선박용 마감 도료를 대상으로 rust remover가 도막 표면 열화에 미치는 영향에 대하여 조사 검토하다.

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Chemical Durability Test of Thin Membrane in Proton Exchange Membrane Fuel Cells (고분자전해질 연료전지에서 박막의 화학적 내구성 평가)

  • Sohyeong Oh;Donggeun Yoo;Sunggi Jung;Jihong Jeong;Kwonpil Park
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • v.61 no.3
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    • pp.362-367
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    • 2023
  • Recently, research and development of proton exchange membrane fuel cells (PEMFC) membranes are progressing in the direction of thinning to reduce prices and improve performance. Demand for hydrogen-powered vehicles for commercial vehicles is also increasing, and their durability should be five times greater than those for passenger vehicles. Despite the thinning of the membranes, the durability of the membranes must be increased five times, so the improvement of the durability of the membranes has become more important. Since the acceleration durability evaluation time also needs to be shortened, the protocol using oxygen instead of air in the existing protocol was applied to a 10 ㎛ thin membrane to evaluate durability. The accelerated durability test (Open circuit voltage holding) was terminated at 720 hours. If the air-based department of energy (DOE) protocol was used, a lifespan of 450,000 km of driving hours would be expected, with a durability of about 1,500 hours. During the chemical durability evaluation, the active area of the electrode decreased by 51%, suggesting that catalyst degradation had an effect on membrane durability. Reducing the catalyst degradation rate is expected to increase membrane durability.

Sputtering Yield and Secondary Electron Emission Coefficient(${\gamma}$) of the MgO, $MgAl_2O_4$ and $MgAl_2O_4/MgO$ Thin Film Grown on the Cu Substrate by Using the Focused Ion Beam (Cu 기판위에 성장한 MgO, $MgAl_2O_4$$MgAl_2O_4/MgO$ 박막의 집속이온빔을 이용한 스퍼터링수율 측정과 이차전자방출계수 측정)

  • Jung K.W.;Lee H.J.;Jung W.H.;Oh H.J.;Park C.W.;Choi E.H.;Seo Y.H.;Kang S.O.
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.15 no.4
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    • pp.395-403
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    • 2006
  • It is known that $MgAl_2O_4$ has higher resistance to moisture than MgO, in humid ambient MgO is chemically unstable. It reacts very easily with moisture in the air. In this study, the characteristic of $MgAl_2O_4$ and $MgAl_2O_4/MgO$ layers as dielectric protection layers for AC- PDP (Plasma Display Panel) have been investigated and analysed in comparison for conventional MgO layers. MgO and $MgAl_2O_4$ films both with a thickness of $1000\AA$ and $MgAl_2O_4/MgO$ film with a thickness of $200/800\AA$ were grown on the Cu substrates using the electron beam evaporation. $1000\AA$ thick aluminium layers were deposited on the protective layers in order to avoid the charging effect of $Ga^+$ ion beam while the focused ion beam(FIB) is being used. We obtained sputtering yieds for the MgO, $MgAl_2O_4$ and $MgAl_2O_4/MgO$ films using the FIB system. $MgAl_2O_4/MgO$ protective layers have been found th show $24{\sim}30%$ lower sputtering yield values from 0.244 up to 0.357 than MgO layers with the values from 0.364 up to 0.449 for irradiated $Ga^+$ ion beam with energies ranged from 10 kV to 14 kV. And $MgAl_2O_4$ layers have been found to show lowest sputtering yield values from 0.88 up to 0.109. Secondary electron emission coefficient(g) using the ${\gamma}$- FIB. $MgAl_2O_4/MgO$ and MgO have been found to have similar g values from 0.09 up to 0.12 for indicated $Ne^+$ ion with energies ranged from 50 V to 200 V. Observed images for the surfaces of MgO and $MgAl_2O_4/MgO$ protective layers, after discharge degradation process for 72 hours by SEM and AFM. It is found that $MgAl_2O_4/MgO$ protective layer has superior hardness and degradation resistance properties to MgO protective layer.

Effect of Self-Assembled Monolayer (SAM) on the Oxide Semiconductor Thin Film Transistor (자가조립단분자막이 산화물반도체에 미치는 영향)

  • Cho, Seung-Hwan;Lee, Yong-Uk;Lee, Jeong-Soo;Han, Min-Koo
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2011.07a
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    • pp.1422-1423
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    • 2011
  • Passivation 막이 증착될 때 산화물 반도체의 백 인터페이스에 주는 플라즈마 데미지와 화학적으로 유도된 데미지를 최소화하기 위하여 산화물 반도체의 보호막으로서 자가조립단분자막(SAM) 적용을 제안한다. TFT가 PECVD나 용액을 기반으로 한 재료로 passivation 될 때 산화물 반도체의 back interface는 플라즈마 데미지와 화학적으로 유도되는 데미지를 피할 수 없다. 자가조립단분자막을 적용함으로써 플라즈마 데미지를 막아줌으로써 이동도와 문턱전압 이하에서의 기울기(SS)의 열화와 용액을 기반으로 한 passivation으로 인한 특성변화(Von)를 최소화 하였다.

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Separation and Concentration Technology Using Membranes in Food Industry (식품산업에서의 분리막을 이용한 분리농축기술)

  • 김길환;김동만
    • Membrane Journal
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    • v.4 no.3
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    • pp.122-141
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    • 1994
  • 식품가공공장은 제품의 특성에 따라 필요로 되는 여러 가지의 단위공정이 조합되어 가동되고 있다. 식품제조 공정중 분리, 분획 및 농축은 매우 중요한 처리로 이를 위해서 증류, 증발, 원심분리, 여과 등의 조작이 절대적으로 필요하고, 최종 제품이 액상일 경우 유통중 변질 발생을 방지하기 위해 살균 공정을 반드시 거치도록 되어 있다. 또한 제품의 생산과정 중 사용되는 폐수에 의한 환경오염을 막기 위해서 폐수정화시설이 필수적으로 되어 있다. 이러한 대부분의 조작과정 중에는 열처리가 반드시 수반됨에 다라 가공원료 중에 함유된 각종 영양 성분이 부분적으로 열에 의해 파괴되고 냄새나 색 등이 변함에 따라 제품의 품질이 열화됨은 물론, 에너지 비용, 관련시설의 설치에 소요되는 부지, 시설비 및 운영비 등이 많이 필요로 된다.

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A Study on Buffered Deposition Device Structure to Improvement for High Density Chip Realiability (고밀도 칩 신뢰성 개선을 위한 buffered deposition 소자구조에 관한 연구)

  • Kim, Hwan-Seog;Yi, Cheon-Hee
    • Journal of the Korea Society for Simulation
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    • v.17 no.2
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    • pp.13-19
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    • 2008
  • New Buffered deposition is proposed to decrease junction electric field in this paper. Buffered deposition process is fabricated after first gate etch, followed NM1 ion implantation and deposition & etch nitride layer. New Buffered deposition structure has buffer layer to decrease electric field. Also we compared the hot carrier characteristics of Buffered deposition and conventional. Also, we design a test pattern including NMOSFET, PMOSFET, LvtNMOS, High pressure N/PMOSFET, so that we can evaluate DC/AC hot carrier degradation on-chip. As a result, we obtained 10 years hot carrier life time satisfaction.

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Influence of thickness ratio on corrosion resistance of Al-Mg multilayer films prepared by PVD method (PVD법에 의해 제작된 Al-Mg 다층막의 내식성에 미치는 두께 비의 영향)

  • Im, Gyeong-Min;Lee, Seung-Hyo;Jeong, Jae-In;Yang, Ji-Hun;Lee, Myeong-Hun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2012.05a
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    • pp.133-133
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    • 2012
  • 알루미늄(Al)은 노출 환경 중 치밀한 산화 또는 수산화 보호성 피막을 생성하여 강재를 부식환경으로부터 차단하는 역할을 한다. 또한 그 피막이 열화 또는 파괴되어 모재인 철이 노출되는 경우 철을 대신하여 희생양극으로 작용함으로써, 철의 부식을 지연시키는 역할을 한다. 한편, 마그네슘(Mg)은 매우 활성인 금속으로 우수한 희생양극 역할을 수행하나, 높은 활성에 의하여 자체 소모가 크기 때문에 단독으로 사용하기는 어렵다. 따라서 강재 표면에 알루미늄과 마그네슘을 다층으로 표면처리하게 될 경우 상기에서 언급한 보호적 특성과 희생양극적 성능에 의한 내식성 향상을 기대 할 수 있을 것으로 사료된다. 본 연구에서는 진공증착을 이용하여 강재에 두께 비에 따라 Al-Mg계 코팅막을 제작하여 내식성을 비교-분석하였다.

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Effect of Pt-Co/C Cathode Catalyst on Electrochemical Durability of Membrane in PEMFC (PEMFC에서 Pt-Co/C Cathode 촉매가 고분자막의 전기화학적 내구성에 미치는 영향)

  • Sohyeong Oh;Dong Geun Yoo;Myoung Hwan Kim;Ji Young Park;Kwonpil Park
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • v.61 no.2
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    • pp.189-195
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    • 2023
  • As a PEMFC (Polymer Exchange Membrane Fuel Cell) cathode catalyst, Pt-Co/C has recently been widely used because of its improved durability. In a fuel cell, electrodes and electrolytes have a close influence on each other in terms of performance and durability. The effect on the electrochemical durability of the electrolyte membrane when Pt-Co/C was replaced in the Pt/C electrode catalyst was studied. The durability of Pt-Co/C MEA (Membrane Electrode Assembly) was higher than that of Pt/C MEA in the electrochemical accelerated degradation process of PEMFC membrane. As a result of analyzing the FER (Fluorine Emission Rate) and hydrogen permeability, it was shown that the degradation rate of the membrane of Pt-Co/C MEA was lower than that of Pt/C MEA. In the OCV (Open Circuit Voltage) holding process, the rate of decrease of the active area of the Pt-Co/C electrode was lower than that of the Pt/C electrode, and the amount of Pt deposited on the membrane was smaller in Pt-Co/C MEA than in Pt/C MEA. Pt inside the polymer membrane deteriorates the membrane by generating radicals, so the degradation rate of the membrane of Pt/C MEA with a high Pt deposition rate was higher than Pt-Co/C MEA. When the Pt-Co/C catalyst was used, the electrode durability was improved, and the amount of Pt deposited on the membrane was also reduced, thereby improving the electrochemical durability of the membrane.