• Title/Summary/Keyword: 마이크로웨이브 열처리

Search Result 21, Processing Time 0.03 seconds

Electrical and optical properties of ZnO:Al thin films prepared by microwave magnetron sputtering (마이크로웨이브 magnetron sputtering법으로 제막된 ZnO:Al 박막의 전기광학적 특성)

  • 유병석;오근호
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
    • /
    • v.8 no.4
    • /
    • pp.587-591
    • /
    • 1998
  • AZO transparent conducting thin film were fabricated by DC magnetron sputtering using the Zn: Al (2% aluminu contained ) alloy target with inducing microwave to the plasma, and the effect of microwave was studied. The optical transmittance, the resistivity and dynamic deposition rate at the applied voltage to target of 420 V was 50~70%, $ 5.5{\times}10^{-3}{\Omega}$cm and 6,000 $\AA\textrm{mm}^2$/J, respectively. After annealing AZO coated glass at $400^{\circ}C$ for 30 minutes, the light transmittance was increased to 80% and electrical conductivity was also increased two times, reached to resistivity of $2.0{\times}10^{-3}{\Omega}$cm.

  • PDF

Enhancement of Cookie Quality by Microwave Treatment of Allergy Reaction-reduced "Ofree" Wheat Flour (마이크로웨이브 조사를 통한 알러지 저감 밀 오프리의 제과 가공적성 개선)

  • Park, JinHee;Yoon, Young-Mi;Son, Jae-Han;Choi, Chang-Hyun;Kim, Kyeong-Hoon;Kim, Kyeong-Min;Cheong, Young-Keun;Kang, Chon-Sick;Yang, Jinwoo
    • KOREAN JOURNAL OF CROP SCIENCE
    • /
    • v.64 no.4
    • /
    • pp.366-372
    • /
    • 2019
  • The use of flour milled from the Ofree wheat cultivar for baking attenuates allergies because some of the genes related to the allergic reaction have been knocked because some of its genes related to allergic reactions have been knocked down or knocked out through genetic mutation. However, the utilization of this flour is limited because the Ofree grain contains high content of total protein and gluten. Microwave irradiation has been used for changing the protein and gluten characteristics of wheat flour. Thus, this study investigated appropriate conditions of microwave irradiation to enhance the utilization of Ofree flour. As a result, when the flour was microwave-treated for 2 min, although the total protein and gluten contents were not changed, some qualities of the baked sugar-snap cookies, such as spread factor (diameter and thickness) and appearance (crack), were ameliorated. However, excessive heat treatment of the flour for over 3 min led to protein denaturation, which negatively affected the quality of the products. These results indicate that 2 min of microwave irradiation of flour that has high content of total protein and gluten can be used for the enhancement of cookie quality. Therefore, these results are expected to increase the utilization of Ofree wheat flour.

Effect of low temperature microwave irradiation on tunnel layer of charge trap flash memory cell

  • Hong, Eun-Gi;Kim, So-Yeon;Jo, Won-Ju
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
    • /
    • 2016.02a
    • /
    • pp.261-261
    • /
    • 2016
  • 플래시 메모리 (flash memory)는 DRAM(dynamic racdom access memory)이나 SRAM(static random access memory)에 비해 소자의 구조가 매우 단순하기 때문에 집적도가 높아서 기기의 소형화가 가능하다는 점과 제조비용이 낮다는 장점을 가지고 있다. 또한, 전원을 차단하면 정보가 사라지는 DRAM이나 SRAM과 달리 전원이 꺼지더라도 저장된 정보가 지워지지 않는다는 특징을 가지고 있어서 ROM(read only memory)과 정보의 입출력이 자유로운 RAM의 장점을 동시에 가지기 때문에 활용도가 크다. 또한, 속도가 빠르고 소비전력이 작아서 USB 드라이브, 디지털 TV, 디지털 캠코더, 디지털 카메라, 휴대전화, 개인용 휴대단말기, 게임기 및 MP3 플레이어 등에 널리 사용되고 있다. 특히, 낸드(NAND)형의 플래시 메모리는 고집적이 가능하며 하드디스크를 대체할 수 있어 고집적 음성이나 화상 등의 저장용으로 많이 쓰이며 일정량의 정보를 저장해두고 작업해야 하는 휴대형 기기에도 적합하며 가격도 노어(NOR)형에 비해 저렴하다는 장점을 가진다. 최근에는 smart watch, wearable device 등과 같은 차세대 디스플레이 소자에 대한 관심이 증가함에 따라 투명하고 유연한 메모리 소자에 대한 연구가 다양하게 진행되고 있으며 유리나 플라스틱과 같은 기판 위에서 투명한 플래시 메모리를 형성하는 기술에 대한 관심이 높아지고 있다. 전하트랩형 (charge trap type) 플래시 메모리는 플로팅 게이트형 플래시 메모리와는 다르게 정보를 절연막 층에 저장하므로 인접 셀간의 간섭이나 소자의 크기를 줄일 수 있기 때문에 투명하고 유연한 메모리 소자에 적용이 가능한 차세대 플래시 메모리로 기대되고 있다. 전하트랩형 플래시메모리는 정보를 저장하기 위하여 tunneling layer, trap layer, blocking layer의 3층으로 이루어진 게이트 절연막을 가진다. 전하트랩 플래시 메모리는 게이트 전압에 따라서 채널의 전자가 tunnel layer를 통해 trap layer에 주입되어 정보를 기억하게 되는데, trap layer에 주입된 전자가 다시 채널로 빠져나가는 charge loss 현상이 큰 문제점으로 지적된다. 따라서 tunnel layer의 막질향상을 위한 다양한 열처리 방법들이 제시되고 있으며, 기존의 CTA (conventional thermal annealing) 방식은 상대적으로 높은 온도와 긴 열처리 시간을 가지고, RTA (rapid thermal annealing) 방식은 매우 높은 열처리 온도를 필요로 하기 때문에 플라스틱, 유리와 같은 다양한 기판에 적용이 어렵다. 따라서 본 연구에서는 기존의 열처리 방식보다 에너지 전달 효율이 높고, 저온공정 및 열처리 시간을 단축시킬 수 있는 마이크로웨이브 열처리(microwave irradiation, MWI)를 도입하였다. Tunneling layer, trap layer, blocking layer를 가지는 MOS capacitor 구조의 전하트랩형 플래시 메모리를 제작하여 CTA, RTA, MWI 처리를 실시한 다음, 전기적 특성을 평가하였다. 그 결과, 마이크로웨이브 열처리를 실시한 메모리 소자는 CTA 처리한 소자와 거의 동등한 정도의 우수한 전기적인 특성을 나타내는 것을 확인하였다. 따라서, MWI를 이용하면 tunnel layer의 막질을 향상시킬 뿐만 아니라, thermal budget을 크게 줄일 수 있어 차세대 투명하고 유연한 메모리 소자 제작에 큰 기여를 할 것으로 예상한다.

  • PDF

Conductivity of copper(II)-phthalocyanine thin films due to a grain growth (결정 성장 조건에 따른 copper(II)-phthalocyanine 박막의 전기전도도 특성)

  • Park, Mie-Hwa;Yoo, Hyun-Jun;Lee, Kie-Jin
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
    • /
    • 2004.05a
    • /
    • pp.132-136
    • /
    • 2004
  • 열 증착 방법을 이용하여 copper(II)-phthalocyanine(CuPc) 박막을 glass 기판 위에 제작하였다. 열처리 조건은 $150^{\circ}C$에서 후열(annealing) 처리 하는 방식과 예열하는 두 가지 방식으로 달리하였다. 제작된 박막의 전기전도도를 평가하기 위해 마이크로웨이브 근접장 효과를 이용한 근접장 현미경(near-field scanning microwave microscope)을 이용하여 비파괴적인 방식으로 CuPc 박막의 반사계수(reflection coefficient)를 측정하였다. CuPc 박막의 전기전도도 특성을 UV 흡수도를 통한 에너지 밴드갭의 shift 현상과 관련지어 설명하고 또한 x-ray diffraction(XRD) data를 통해 박막의 결정 특성과 비교하였다. 박막 표면 특성은 SEM(scanning microscope microscopy)을 통해 관측하였다. 열처리 조건에 따른 CuPc 박막의 전기전도도 특성은 후열 처리한 박막의 경우 예열 처리한 박막보다 전기 전도 특성이 향상되었음을 관측할 수 있었다.

  • PDF

Co-firing of Dielectric and Electrode with Conventional and Microwave Heating in Plasma Display Panel (전형적인 열처리와 마이크로웨이브 열처리에 따른 PDP용 전극과 투명 유전체의 동시 소성)

  • Hwang, Seong-Jin;Veronesi, Paolo;Leonelli, Cristina;Kim, Hyung-Sun
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
    • /
    • 2008.06a
    • /
    • pp.463-463
    • /
    • 2008
  • The glass frit has been used in transparent dielectric, barrier rib and electrode of PDP (Plasma display panel). In PDP fabrication, the firing temperature of glass frit is normally 550~$580^{\circ}C$ with conventional heating. However, there are a problem that silver in electrode is diffused throughout the transparent dielectric. For inhibiting the Ag diffusion we considered use of the microwave heating. We investigated firing of glass frit compared between conventional and microwave heating. After firing by two types of heating, the diffusion of silver is determined using a optical microscope and UV-spectrometer. Based on the our results, the microwave heating should be a candidate to heating source for high efficacy in PDP.

  • PDF

Effect of microwave power on aging dynamics of solution-processed InGaZnO thin-film transistors

  • Kim, Gyeong-Jun;Jo, Won-Ju
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
    • /
    • 2016.02a
    • /
    • pp.256-256
    • /
    • 2016
  • 기존의 디스플레이 기슬은 마스크를 통해 특정 부분에만 유기재료를 증착시키는 방법을 사용하였으나, 기판의 크기가 커짐에 따라 공정조건에 제약이 발생하였다. 이를 해결하기 위해 최근 용액 공정에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 용액 공정은 기존 진공 증착 방식과 비교하였을 때 상온, 대기압에서 증착이 가능하며 경제적이고, 대면적 균일 증착에 유리하다는 장점이 있다. 반면, 용액 공정으로 제작한 소자는 시간이 지남에 따라 점차 전기적 특성이 변하는 aging effect를 보인다. Aging effect는 용액에 포함된 C기와 OH기 기반의 불순물의 영향으로 시간의 경과에 따라서 문턱전압, subthreshold swing 및 mobility 등의 전기적 특성이 변하는 현상으로 고품질의 박막을 형성하기 위해서는 고온의 열처리가 필요하다. 지금까지 고품질 박막 형성을 위한 열처리는 퍼니스 (furnace) 장비에서 주로 이루어졌는데, 시간이 오래 걸리고, 상대적으로 고온 공정이기 때문에 유리, 종이, 플라스틱과 같은 다양한 기판에 적용하기 어렵다는 단점이 있다. 따라서, 본 연구에서는 $100^{\circ}C$ 이하의 저온에서도 열처리가 가능한 microwave irradiation (MWI) 방법을 이용하여 solution-processed InGaZnO TFT를 제작하였고, 기존의 열처리 방식인 furnace로 열처리한 TFT 소자와 aging effect를 비교하였다. 먼저, solution-processed IGZO TFT를 제작하기 위해 p type Si 기판을 열산화시켜서 100 nm의 SiO2 게이트 산화막을 성장시켰고, 스핀코팅 방법으로 a-IGZO 채널층을 형성하였다. 증착후 열처리를 위하여 1000 W의 마이크로웨이브 출력으로 15분간 MWI를 실시하여 a-IGZO TFT를 제작하였고, 비교를 위하여 furnace N2 gas 분위기에서 $600^{\circ}C$로 30분간 열처리한 TFT를 준비하였다. 제작된 직후의 TFT 특성을 평가한 결과, MWI 열처리한 소자가 퍼니스 열처리한 소자보다 높은 이동도, 낮은 subthreshold swing (SS)과 히스테리시스 전압을 가지는 것을 확인하였다. 한편, aging effect를 평가하기 위하여 제작 후에 30일 동안의 특성변화를 측정한 결과, MWI 열처리 소자는 30일 동안 문턱치 전압(VTH)의 변화량 ${\Delta}VTH=3.18[V]$ 변화되었지만, furnace 열처리 소자는 ${\Delta}VTH=8.56[V]$로 큰 변화가 있었다. 다음으로 SS의 변화량은 MWI 열처리 소자가 ${\Delta}SS=106.85[mV/dec]$인 반면에 퍼니스 열처리 소자는 ${\Delta}SS=299.2[mV/dec]$이었다. 그리고 전하 트래핑에 의해서 발생하는 게이트 히스테리시스 전압의 변화량은 MWI 열처리 소자에서 ${\Delta}V=0.5[V]$이었지만, 퍼니스 열처리 소자에서 ${\Delta}V=5.8[V]$의 큰 수치를 보였다. 결과적으로 MWI 열처리 방식이 퍼니스 열처리 방식보다 소자의 성능이 우수할 뿐만 아니라 aging effect가 개선된 것을 확인할 수 있었고 차세대 디스플레이 공정에 있어서 전기적, 화학적 특성을 개선하는데 기여할 것으로 기대된다.

  • PDF

Development of High-performance Oxide Semiconductor Thin-Film Transistor with ITO buried layer by Annealed Microwave

  • Pyo, Ju-Yeong;Im, Cheol-Min;Jo, Won-Ju
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
    • /
    • 2015.08a
    • /
    • pp.204.2-204.2
    • /
    • 2015
  • 산화물 반도체는 비정질임에도 불구하고 높은 이동도를 나타내며, 적은 누설 전류, 낮은 소비전력, 저온 공정 가능, 가시광선 영역에서 투명한 성질을 가지고 있다. 이와 같은 다양한 장점들로 인해 산화물 반도체를 이용한 트랜지스터는 차세대 플랫 패널 디스플레이 적용에 있어서 핵심 기술로 각광받고 있다. 한편, 소자의 크기가 점점 더 작아짐에 따라 고집적화에 따른 scaling down은 항상 언급되는 이슈이다. 이와 관련하여 소자의 높은 on current는 트랜지스터를 더 작게 구현할 수 있다는 가능성을 보여준다. 따라서 현재 소자의 on current를 높이기 위해서 소자의 구조를 변형하는 연구가 활발히 진행되고 있다. 본 연구에서는 소자의 on current를 높이기 위한 방법으로 ITO buried layer를 이용한 산화물 반도체 pseudo 트랜지스터를 제작하였다. 먼저 채널을 형성하기 전에 ITO buried layer를 형성시켜준 후, 채널 영역으로서 InGaZnO (2:1:1)를 용액 공정을 이용하여 형성시켰다. 이어서 소자의 전기적 특성 향상을 위해 마이크로웨이브 열처리를 1800 W에서 2분간 실시하였다. 또한 대조군으로 ITO buried layer를 갖지 않는 소자를 같은 방법으로 제작하여 평가하였다. 그 결과 ITO buried later를 갖는 소자에서 대조군과 비교하여 높은 on current를 나타냄을 확인하였다. 이와 같은 결과는 낮은 저항의 ITO buried layer가 current path를 제공함과 동시에 더 두꺼운 채널 층을 형성시켜 높은 on current에 기여하기 때문이다. 결과적으로 ITO buried layer를 갖는 소자 구조를 이용함으로써 고성능 트랜지스터를 제작하여 소자를 집적화 함에 있어서 유망한 소자가 될 것으로 예상된다.

  • PDF

A Study on Synthesis of CaCO3 & MgO/Mg(OH)2 from Dolomite Using the Strong Acidic Cation Exchange Resin (강산성 양이온 교환수지를 통한 백운석으로부터 CaCO3 및 MgO/Mg(OH)2 합성에 관한 연구)

  • Hwang, Dae Ju;Yu, Young Hwan
    • Korean Chemical Engineering Research
    • /
    • v.57 no.6
    • /
    • pp.812-825
    • /
    • 2019
  • Two dolomite samples mined from the different mines were calcined using a batch-type microwave kiln ($950/60min^{\circ}C$) to produce $CaO{\cdot}MgO$. The hydration of the $CaO{\cdot}MgO$ samples shows different reactivity. MgO was separated by reacting with a strong acid cation exchange resin using the reactivity of the hydration properties of light dolomite ($CaO{\cdot}MgO$). Calcium ($Ca-(R-SO_3)_2$) was separated from the prepared $CaO{\cdot}MgO$ by the cation exchange resin ($CaO{\cdot}MgO:R-SO_3H=1:12mass%$). High purity MgO (higher than 94 mass %) with unburned $CaCO_3$ (1~2 mass %) was obtained by the separation process. The separated MgO was heated at $950^{\circ}C$ for 60 minutes to afford high purity MgO with MgO content higher than 96%. And High-grade $CaCO_3$ was prepared from the reaction with calcium adsorbed resin ($Ca-(R-SO_3)_2$) and NaOH, $CO_2$ gas.

Effect of Microwave Preheating and Hydrogenated Frying Fats on the Storage Stability of Yackwa (마이크로웨이브 열처리 및 경화튀김유가 약과의 저장 안정성에 미치는 영향)

  • 김창순;윤미화
    • Korean journal of food and cookery science
    • /
    • v.15 no.3
    • /
    • pp.264-271
    • /
    • 1999
  • This study was conducted to know the storage stability of Yackwa, a traditional Korean fried cookie, prepared by two different cooking methods; deep fat frying at 160$^{\circ}C$ for 8 min (DFF), and preheating Yackwa dough and then deep fat frying at 180$^{\circ}C$ for 2 min (MW/DFF). Soybean oil (SBO), hydrogenated soybean oil (HSBO) or hydrogenated palm oil (HPO) were used for frying Yackwa. Compared to Yackwa prepared by DFF, all MW/DFF Yackwa samples had low fat content and high moisture content. MW/DFF saved frying time 6 min compared with DFF. Non-hydrogenated soybean oil for frying fats was replaced with hydrogenated types of soybean oil and palm oil to improve the storage stability of Yackwa. To investigate the oxidation stability of Yackwa during the accelerated storage for 15 days at 60$^{\circ}C$, acid value, anisidine value, peroxide value and oxidation value of Yackwas were measured. Acid values of Yackwa made by MW/DFF were higher than those made by DFF through the whole storage periods, regardless of frying fats. Peroxide and anisidine values of Yackwa coated with syrup were much lower than those without syrup. MW/DFF cooking method, using hydrogenated soybean oil or hydrogenated palm oil for frying, showed lowering effects on peroxide value as well as anisidine value, resulting in improved oxidation stability of Yackwa during the storage. In sensory evaluation, the acceptability of MW/DFF Yackwa was higher than those of the commerical products. Yackwa prepared by MW/DFF cooking method using hydrogenated palm oil, showed the highest acceptability in color, taste and texture among the samples.

  • PDF

Transition of 12CaO·7Al2O3 electrical insulator to the permanent semiconductor using via thermo-chemical reduction treatment (열 화학적 환원 처리를 이용한 절연체 12CaO·7Al2O3의 전도체로의 전환)

  • Chung, Jun-Ho;Eun, Jong-Won;Oh, Dong-Keun;Kim, Kwang-Jin;Hong, Tae-Ui;Jeong, Seong-Min;Choe, Bong-Geun;Shim, Kwang-Bo
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
    • /
    • v.20 no.4
    • /
    • pp.178-184
    • /
    • 2010
  • The $12CaO{\cdot}7Al_2O_3$(C12A7) powders were successfully synthesized using combustion method with microwave-assistant and C12A7:H were fabricated by post-annealed process in Ar/H atmosphere. X-ray diffraction patterns and TGDSC were used for investigating to the precursors of crystalline and reaction depending on temperature. C12A7:H that was treated post-annealed process were investigated TG-MS and Hall-measurement for confirming H ions doping and checking electrical resistivity of C12A7:H. H ion substituted to $O^{2-}$ ions in the C12A7 cages were confirmed at $289.5^{\circ}C$ by TG-MS and C12A7:H calcined at $1000^{\circ}C$ in Ar/H=8:2 atmosphere for 8~10 h has low electrical resistivity about $10^2{\Omega}{\cdot}cm$ at room temperature.