• Title/Summary/Keyword: 마그네트론 스퍼터링

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Characteristics of Zn-Mg coatings synthesized by unbalanced magnetron sputtering process (비대칭 마그네트론 스퍼터링을 이용한 Zn-Mg 박막 합성 및 특성 연구)

  • Ra, Jeong-Hyeon;Lee, Yu-Jin;Kim, Dong-Jun;Kim, Seong-Min;Lee, Sang-Yul;Park, Sang-Min;Lee, Sang-Yong
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2012.11a
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    • pp.112-112
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    • 2012
  • 현재 표면처리 산업에서 흔히 사용되는 아연 습식 도금의 환경 오염문제, Zn의 고갈 문제 등의 해결책으로 건식코팅 공정의 적용, 대체 코팅물질의 개발에 관한 연구가 활발히 진행되고 있다. 이에 일환으로 본 연구에서는 비대칭 마그네트론 스퍼터링 공정을 이용하여 Zn-Mg 합금 타겟의 Mg 함량을 0wt.%에서 10wt.%로 변화하며 Zn-Mg 합금 박막을 합성하였고, 박막의 특성을 분석하였다.

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Electrical properties of ITO thin film deposited by Reactive DC magnetron sputtering (반응성 DC 마그네트론 스퍼터링 법으로 증착한 ITO 박막의 전기적 특성 평가)

  • Kim, Min-Je;Gang, Se-Won;Song, Pung-Geun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2014.11a
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    • pp.235-236
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    • 2014
  • 인듐 주석 산화물 박막을 In/Sn (2, 5 wt.%) 합금 타겟을 사용하여 DC 마그네트론 반응성 스퍼터링법을 이용하여 증착하였다. 기판온도는 상온에서 증착하였으며, 증착 중 DC 파워는 70W부터 120W 까지 10W 단위로 증가시켜 증착하였다. 증착 된 박막을 대기중에서 후 열처리를 각 6, 12 시간 진행하여 전기적 특성을 평가하였으며 평가 장비는 Hall-effect measurements system을 사용하였다. ITO (Indium Tin Oxide) 박막의 비저항은 합금의 Sn 조성별로 다르게 나타났다. Sn 5wt.% 타겟을 이용한 경우에는 DC 파워 90W를 기준으로 더 낮은 파워에서는 열처리에 따라 비저항이 증가하였고, 더 높은 파워에서는 열처리를 한 경우 비저항이 더 낮게 나타났다. 이러한 결과가 나온 이유는, DC 파워가 높은 경우 스퍼터링 공정 중 발생하는 고 에너지 입자 충돌에 의해 산소가 re-sputtering되어 산소가 부족한 박막이 형성되기 때문인 것으로 판단된다. Sn 2 wt.% 타겟의 경우에는 큰 차이를 나타내지 않았으며, 이러한 원인은 Sn 함량이 적기 때문에 산소 공급으로 인해 결정성이 향상되더라도 활성화 Sn의 양이 적기 때문에 나타나는 현상으로 판단된다.

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Effect of Annealing Temperature on the Properties of BaWO4:Eu Thin Films deposited by RF Magnetron Sputtering (RF 마그네트론 스퍼터링으로 증착한 BaWO4:Eu 박막의 특성에 열처리 온도가 미치는 영향)

  • Jeong, U-Jin;Hwang, Su-Min;Park, Tae-Jun;Jang, Won-U;Kim, Chun-Su;Jo, Sin-Ho
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2012.11a
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    • pp.160-160
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    • 2012
  • 라디오파 마그네트론 스퍼터링 방법을 사용하여 유리 기판 위에 Eu 이온이 도핑된 $BaWO_4$ 박막을 성장 시킨 후에 온도 범위 $400{\sim}550^{\circ}C$에서 급속 열처리를 수행하였다. 박막의 결정 구조와 표면 형상은 각각 x-선 회절법과 주사전사현미경으로 조사였다. 급속 열처리 온도에 관계없이 모든 적색 형광체 박막은 622 nm에 피크를 갖는 적색 발광을 나타내었고, 열처리 온도가 $400^{\circ}C$에서 $550^{\circ}C$로 증가함에 따라 적색 발광 스펙트럼의 세기는 감소하는 경향을 보였다.

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A Study on Electromagnetic Shield Coating of Ocular Lens (안경렌즈의 전자파 차폐 코팅에 관한 연구)

  • Kim, Ki-Hong;Park, Dae-Jin;Kim, In-Su
    • Journal of Korean Ophthalmic Optics Society
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    • v.11 no.2
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    • pp.115-119
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    • 2006
  • Electromagnetic shielding, transparent ITO coating layers have deposited on ocular lens substrate by magnetron sputtering. We investigated the effect induced by the substrate temperature on coating layer. The characteristics of the coating layers were analyzed using surface profiler, four-point probe, XRD, spectrophotometer and Auger Electron spectroscopy. As substrate temperature became higher, carrier concentration was increased and transmittance in the visible region was increased, too.

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Optimization of reactive nano-foil by the magnetron sputtering and industrial application (마그네트론 스퍼터링을 이용한 반응성 나노 포일의 제조 공정 최적화 및 산업적 응용)

  • Jo, Yong-Gi;Lee, Won-Beom;Yu, Se-Hun;Choe, Yun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2015.05a
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    • pp.29-29
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    • 2015
  • Al과 Ni이 나노 두께로 적층되어 있는 나노 포일은 외부의 촉발에 의해 원자수준의 상호 확산을 통해 합금화 된다. AlNi 합금이 되서 $-{\Delta}H$의 변화로 인하여, 외부에 열을 공급하게 되어 최대 엔탈피의 변화 일어날 수 있는 Al과 Ni의 혼합비율을 조사하였다. 나노 포일의 제조 공정은 마그네트론 스퍼터링을 이용하였으며, 나노 박막의 두께 및 적층 공정에 대한 공정 최적화를 하였다. 제조된 나노 포일은 금속-세라믹의 상온접합을 실시하여 산업적 응용에 대한 가능성을 고찰하고자 하였다.

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Dependency of oxygen partial pressure on the characteristics of ZnO films grown by magnetron sputtering (마그네트론 스퍼터링에 의해 성장된 ZnO 박막의 산소 분압 의존성)

  • An, Cheol-Hyeon;Kim, Yeong-Lee;Gang, Si-U;Gong, Bo-Hyeon;Jo, Hyeong-Gyun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2007.04a
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    • pp.67-68
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    • 2007
  • 마그네트론 스퍼터링을 이용하여 사파이어 기판위에 $O_2$의 분압에 따른 성장된 ZnO박막의 특성에 대해 연구하였다. $O_2$의 분압은 $Ar/O_2$의 비율에 의해 조절을 하여 성장을 하였으며, $O_2$의 분압이 감소함에 따라 결정성이 좋아지는 결과를 얻었다. PL측정결과에서 순수한 Ar분위기에서 성장된 ZnO박막에서 UV 발광과 더불어 Deep 1evel에 기인하는 Green 발광을 보였고, UN-Visible spectroscopy 측정결과 순수한 Ar분위기를 제외한 샘플에서 $60{\sim}80%$의 투과도를 보였다. SEM과 TEM의 이미지를 통해 미세 힐락들을 관찰되었는데, 이로 인해 투과도의 저하 원인으로 분석된다.

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Electrical properties of IZO thin films using magnetron sputtering method at low temperature (저온 마그네트론 스퍼터링에 의해 합성된 IZO 박막의 전기적 특성)

  • Park, Mi-Rang;Kim, Do-Geun;Lee, Seong-Hun;Lee, Geon-Hwan;Song, Pung-Geun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2007.04a
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    • pp.89-90
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    • 2007
  • 마그네트론 스퍼터링 공정을 이용하여 $100^{\circ}C$미만의 저온에서 산소유량을 변화시켜 Indium Zinc Oxide(IZO) 박막을 증착하였다. 기판온도의 영향과 산소유량의 변화에 따른 IZO 박막의 전기적 특성 변화를 조사하였다. 그 결과 가열하지 않고 증착한 경우 산소유량비의 증가와 함께 IZO 박막의 비저항이 증가되었고, $80^{\circ}C$로 증착온도를 가열한 경우 산소유량비 조절조건에 따라 최소 비저항이 얻어졌다. IZO 박막의 최저 비저항은 증착온도 $80^{\circ}C$, 산소유량비 1%조건에서 $2{\times}10^{-4}$ ${\Omega}$ cm로 나타났다.

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A study of microstructure and physical properties of low density carbon films synthesized by magnetron sputtering (마그네트론 스퍼터링으로 합성된 저밀도 탄소 박막의 미세구조 및 물리적 특성에 대한 고찰)

  • Kim, Seong-Il;Sim, Byeong-Cheol;Choe, Yun-Seok;Choe, In-Sik;Han, Jeon-Geon
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2012.05a
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    • pp.347-348
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    • 2012
  • 수소가 포함 되지 않은 저밀도 구조의 카본 박막을 마그네트론 스퍼터링으로 합성하였다. 본 실험을 통하여 플라즈마 변수에 따른 저밀도 구조의 카본 박막의 미세 구조와 물리적 특성과의 상관관계를 FESEM, AFM, 4-point probe의 분석 기구를 통하여 분석 하였고, 비정질 저밀도 구조의 탄소 박막에 Pt을 ion sputtering을 통하여 도핑 한 결과 1000에서 $0.0013{\Omega}cm$ 까지 전기 비저항을 낮추는 결과를 얻었다.

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Microstructure and chemical composition analysis to various heat treatment conditions of the CIGS films deposited using RF Magnetron sputtering (RF 마그네트론 스퍼터링을 이용하여 증착한 CIGS 박막의 다양한 열처리 공정 후 미세구조 및 화학 조성 분석)

  • Jeong, Jae-Heon;Jo, Sang-Hyeon;Song, Pung-Geun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2012.05a
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    • pp.203-204
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    • 2012
  • CIGS 단일 타켓을 RF 마그네트론 스퍼터링을 이용하여 파워별(20, 40, 60, 80W)로 Mo/SLG위에 증착하여 열처리를 실시하였다. 1step ($350^{\circ}C$), 1step ($550^{\circ}C$), 2step ($350^{\circ}C$, $550^{\circ}C$) 열처리 실시 후 XRD측정 결과 2step 80W에서 가장 좋은 결정성을 확인할 수 있었다. 또한 FE-SEM을 측정결과, 상대적으로 가장 큰 grain size(200nm)를 확인할 수 있었으며 박막의 표면 조도 또한 증가하는 것을 확인할 수 있었다.

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Characterization of transparent ATO conducting films prepared by RF magnetron sputtering (RF 마그네트론 스퍼터링 법에 의한 ATO 투명전도막의 특성)

  • Lee, Sung-Uk;Park, Yong-Seob;Hong, Byung-You
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.18 no.2
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    • pp.76-80
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    • 2008
  • In this study, we synthesized ATO films using RF magnetron sputtering method consisted of $SnO_2$ target added Sb of 6 wt% and investigated the effect of $O_2$ on structural, electrical, and optical properties of ATO films. As a result, in case of $O_2$/Ar ratio of 0.11, we obtained ATO films exhibit the properties such as the resistivity about $8{\times}10^{-3}[{\Omega}-cm]$, the transmittance of 85.17%, and retile structure.