• 전기의세계
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• 제51권2호
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• pp.34-43
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• 2002

• 한국정밀공학회지
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• 제23권11호
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• pp.34-41
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• 2006

Nanoimprint lithography is an emerging technology which has an ability to make patterns under 100nm width. Recently many researches have been focused to develop multilayer patterning function in nanoimprint lithography and aligning method is attracting attention as a key technology. $Moir\'{e}$ has been used widely to measure dislocation or deformation of objects and considered one of the best solutions to detect aligning error in nanoimprint lithography. Concentric circular patterns are used to generate a $moir\'{e}$ fringe in this paper and aligning offset and direction are extracted from it. Especially this paper shows the difference of fringe equation of $moir\'{e}$ which can be obtained in nanoimprint process atmosphere from normal one.

• 대한기계학회:학술대회논문집
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• 대한기계학회 2007년도 춘계학술대회A
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• pp.332-336
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• 2007

Temperature is an essential process variable in nanoimprint lithography(NIL) where the temperature varies between room temperature and above the glass transition temperature. To simulate NIL process, we employ both the Nose-Poincare method for temperature controlled molecular dynamics(MD) and force field for polymer material i.e. polymethyl methacrylate(PMMA), which is most widely selected as NIL resist. Nose-Poincare method, which convinces the conservation of Hamiltonian structure and time-reversal symmetry, overcomes the drawbacks inherent in the conventional methods such as Nose thermostat and Nose-Hoover thermostat. Thus, this method exhibits enhanced numerical stability even when the temperature fluctuation is large. To describe PMMA, we adopt the force field which account for bond stretch, bending, torsion, inversion, partial charge, and van der Waals energy.

• 한국윤활학회:학술대회논문집
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• 한국윤활학회 2004년도 학술대회지
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• pp.83-89
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• 2004

In this paper, molecular dynamics simulations are performed to analyze the adhesion between a diamond mould and a copper substrate in diamond nanoimprint lithography. The diamond nanoimprint lithography process is simplified as punch-type nanoindentation. The copper substrates are assumed to monocrystalline and defect free and consist of $22500\~80000$ atoms depending on their dimension. The diamond moulds consist of 916 or 2414 atoms, which is assumed to be rigid. The consistent results lot the maximum normal force and the adhesion force are obtained regardless of the size of substrates and the adhesion hysteresis is shown in all cases. It is found that the friction acting on the sidewalls of the mould affects the adhesion significantly when the mould is released from the substrate.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2003년도 하계학술대회 논문집 Vol.4 No.2
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• pp.689-692
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• 2003

본 논문에서는 개방된 양 끝이 Loading 캐패시턴스로 연결된 새로운 행태의 1/2 파장 공진기를 이용해서 3단 대역통과 여파기를 설계, 제작하였다. 제안한 공진기의 전파지연효과(Slow-Wave Effect)때문에, 넓은 상향저지대역을 갖으며, 사이즈(Size)가 축소된 협대역 여파기 설계가 가능하다. 설계한 대역통과 여파기는 미세라인 구현이 가능한 후막 리소그라피 공정 기술을 이용하여 제작하였다.

• 대한기계학회논문집A
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• 제29권3호
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• pp.411-417
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• 2005

Surface texturing of tribological application is another attractive technology of friction reducing. Also, reduction of friction is therefore considered to be a necessary requirement for improved efficiency of machine. In this paper attempts to investigate the effect of density for micro-scale dimple pattern using photolithography on bearing steel flat mated with pin-on-disk. We demonstrated the lubrication mechanism for a Stribeck curve, which has a relationship between the friction coefficient and a dimensionless parameter for lubrication condition. It is found that friction coefficient is depended on the density of surface pattern. It was thus verified that micro-scale dimple could affect the friction reduction considerably under mixed and hydrodynamic lubrication conditions from based on friction map. Lubrication condition regime has an influence on the friction coefficient induced the density of micro dimple.

• 한국정밀공학회지
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• 제19권7호
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• pp.59-64
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• 2002

Laser lithography technique is useful for fabricating micro-patterns of silicon wafers. In this work, the laser lithography micromachining technique is optimized based on Taguchi method. Sensitivity analysis was performed using laser scanning speed, laser power level, developing time and mixture ratio between developer and Di-water as the parameters. The results show that for the photoresist used in this work, 70${\mu}m$/s scan speed, 50㎽ laser power, 60sec. developing time and 6: 1 mixture ratio gives the best result. This work shows the effectiveness of laser lithography technique in fabricating patterns with a flew micrometer in width.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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• pp.514-514
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• 2012

면방전 구조의 대가압 DBD플라즈마 소스를 제작하여 Ar과 N2 기체를 유입하여 미생물인 Fungi의 변화를 관찰하였다. 면방전 구조의 DBD플라즈마 소스는 유리기판위에 포토리소그라피 공정으로 미소전극을 형성하여 고밀도의 방전셀을 형성하였다. 방전시 발생하는 열에 의한 효과의 제어를 위하여 냉각장치를 장착하였다. 또한 유리기판과 포토리소그라피 공정은 방전영역에 제한없이 다양한 크기의 소스제작이 가능하다. 셀 피치가 $400{\mu}m$이며 $cm^2$ 당 200여개의 방전 셀로 구성되어 있어서 기존 메쉬타입의 DBD플라즈마 장치에 비해 균일하게 플라즈마를 조사할 수 있으며 플라즈마 제트 장치에 비해서는 넓은 면적을 동시에 조사할 수 있게 되었다. Ar 과 N2기체를 3 L/min의 유량으로 방전공간에 유입하면서 1 kV의 구동전압으로 플라즈마를 발생하였다. 이 경우 플라즈마의 조사시간을 20 s, 40 s, 60 s 간격으로 변화를 주며 Fungi의 변화를 관찰하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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• pp.398-398
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• 2012

GaN 기반의 InGaN/GaN 다중양자우물(MQW) 구조의 발광다이오드는 다양한 파장대의 가시광을 방출하는 소자로 교통 신호등, 디스플레이, LCD backlight, 일반 조명까지 넓게 응용되고 있다. 그러나, 이러한 응용을 위해서는 전류 주입 효율, 내부양자효율, 광추출 효율을 개선하는 연구를 통한 발광 다이오드의 광효율을 높이는 연구가 필수적이다. 최근 많은 연구 개발에 의해 내부양자효율은 크게 향상 되었지만, 광추출 효율은 GaN (n=2.4)와 공기 (n=1)의 굴절률 차이에 의해 아직까지 낮은 실정이다. 광추출 효율을 개선하기 위해 반사전극, 전방향 반사전극, 표면 거칠기, Chip 성형 등의 기술이 제안되고 있다. 본 연구는 LED의 광추출 효율을 높이기 위해 다양한 모양의 Hydrothermal 법에 의해 성장된 ZnO 나노 구조 및 나노스피어 리소그라피를 통한 폴리스티렌 나노 구체의 주기적인 배열에 따른 특성을 연구하였다.

• 한국마이크로전자및패키징학회:학술대회논문집
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• 한국마이크로전자및패키징학회 2002년도 추계기술심포지움논문집
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• pp.87-90
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• 2002

무선 통신 시스템의 광대역화에 따라 수십GHz 이상에서의 시스템 구성이 필요하다. 이러한 시스템의 상용화를 위해서는 수십GHz 이상에서의 고주파 특성 만족과 저비용의 공정이 요구된다. 본 연구에서는 후막 리소그라피 공정을 이용하여 미세라인 특성에 민감한 BPF를 설계.제작하였다.