• 제목/요약/키워드: 능동형 오염방지

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SELF-PALSMA OES의 능동형 오염 방지 기법

  • 김남식
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2013년도 제45회 하계 정기학술대회 초록집
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    • pp.82.1-82.1
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    • 2013
  • SPOES(Self Plasma Optical Emission Spectroscopy)는 반도체 및 LCD 제조 장비의 Foreline에 장착되는 센서로써, Foreline에 흐르는 Gas를 이온화시켜 이때 발생되는 빛을 분광시켜 공정의 상태 및 장비의 상태등을 종합적으로 점검할 수 있는 센서입니다. SPOES의 최대 장점은 공정 장비에 영향을 주기 않으면서 공정을 진단할 수 있고, 장비의 메인챔버에서 플라즈마 방전이 발생하지 않는 RPS (Remote Plasma System)등에 적용이 가능하며, 설치 및 분해이동과 운용이 용이한 장점이 있습니다. 하지만, SPOES는 오염성 가스 및 물질에 의한 오염에 취약한 단점이 있습니다. 예컨대, 플라즈마 방전에 의한 부산물들이 SPOES의 내부에 있는 윈도우의 렌즈에 부착되어 감도를 저하시켜, SEOES의 수명을 단축시킵니다. 또한 오염 물질이 SPOES 내부의 방전 CHAMBER에 증착되어 플라즈마 방전 효울을 저하시켜 센서의 효율을 저하시킵니다. 예를들면, 장비의 공정 챔버에서 배출되는 탄소와 같은 비금속성 오염물질과 텅스텐과 같은 금속성 오염물질이 SPOES의 방전 CHAMBER 내벽과 윈도우에 증착되어 오염을 유발합니다. 오염이 진행된 SPOES는 방전 CHAMBER의 오염으로 CHAMBER의 유전율을 변화시켜, 플라즈마 방전 효율의 저하를 가져오고, 윈도우의 오염은 빛의 투과율을 저하시켜, OES 신호의 감도를 저하시켜, SPOES 감도를 저하시키는 요인으로 작용합니다. 이러한 문제를 해결하기위한 방법으로 능동형 오염 방지 기술을 채용 하였습니다. 능동형 오염 방지 기법은 SPEOS의 방전 챔버에서 플라즈마 방전시 발생하는 진공의 밀도차를 이용하는 기술과 방전 챔버와 연결된 BYPASS LINE에 의해 발생되는 오염물질 자체 배기 시스템, 그리고 고밀도 플라즈마 방전을 일으키는 멀티 RF 기술 및 고밀도 방전을 일으키는 챔버 구조로 구성 되어 있습니다. 능동형 오염 방지 기법으로 반도체 공정에서 6개월 이상의 LIFETIME을 확보 할 수 있고, 고밀도 플라즈마로 인한 UV~NIR 영역의 감도 향상등을 확보 할 수 있습니다.

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위치추적용 능동형 RFID 기능을 장착한 수질 측정 센서의 제작 및 검증 (Fabrication and Verification of a Water Quality Sensor Equipped with Active RFID Function for Real Time Location)

  • 정용섭;장훈;김진영;강준희
    • 대한공간정보학회지
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    • 제17권1호
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    • pp.113-120
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    • 2009
  • USN 기술은 주변 환경과 주어진 상황에 대한 자동 인지를 통해 사용자에게 최적의 서비스를 제공한다. 본 연구에서는 능동형 RF시스템을 개발하여 성능을 측정하고 수질센서와 일체형으로 결합함으로써 센서를 통해 얻어진 온도와 pH 정보를 사용하여 실내/외 환경변화를 감지하여 오염정도를 파악하도록 시스템을 구현하였다. 태그의 소형화를 위하여 내장형 Print-on-PCB 안테나를 장착하였다. 능동형 RFID 기능을 구현하기 위하여 TI사의 RF 트랜시버 CC2510 칩셋을 사용하였다. 실제 위치결정은 임의의 위치에 대해서 능동형 태그와 능동형 리더에 의해 얻어진 RSSI값을 사용하였다. Labview를 사용한 운용 프로그램으로 성능평가를 하여 오차를 구하였다. 10개의 임의의 위치에 대하여 측정을 한 결과 평균 X축 1.69m, Y축 1.66m의 오차를 보였다. 본 연구에서 개발된 시스템은 물류, 환경오염 측정 또는 미아방지 등의 다양한 분야에 적용 가능하다.

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국내 미래청정기술 개발을 위한 전략 (Strategy for the Development of Innovative Clean Technology in Korea)

  • 김영대;심상준;이중기;최광진;박태준;조영상
    • 청정기술
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    • 제3권1호
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    • pp.9-26
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    • 1997
  • 공해 유발형 산업기술/제품의 폐기 요구 점증, 배출된 오염 물질 제거를 위한 후처리기술(EOP 기술) 활용의 한계, Green Round에 의한 국제 무역 규제 및 환경 부담금 문제 가시화(PPMs 규제) 및 지속 가능한 환경조화형 산업기술 확보(Sustainable Development)요구 등에 능동적 대처를 위해 산업활동에서의 환경오염 발생을 원천 억제 또는 제거하는 미래형 청정기술개발에 대한 요구가 급증하고 있다. 미래청정기술은 산업활동에서의 환경오염 발생을 원천 억제 또는 제거하는 미래형 환경오염 방지 기술로 정의될 수 있다. 선진국에 비해 청정기술 개발이 늦은 국내 현실에서 청정기술의 예속화를 피하고 기술 자립을 위해서는 원천 기술의 확보가 필수 불가결하며, 이의 달성을 위한 효과적인 청정기술의 개발 전략이 요구된다. 현재 국내 외에서 진행 중인 연구개발 프로그램을 비교 분석하고, 원천 기술인 미래형 청정기술의 성격을 규명한 뒤 효과적인 연구 수행을 위한 전략을 소개한다.

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