• Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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• 2003.12a
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• pp.68-77
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• 2003

TFT-LCD 모니터 및 TV의 핵심부품인 TFT/Color Filter를 제조하는 공장라인에서 제품의 품질에 중요한 역할을 하는 것은 유리기판에 TFT와 Color Filter을 형성시키는 노광공정(Exposure)이다. 이러한 TFT/Color Filter를 생산하는 공정내에서 노광기는 핵심기술이므로 진동에 대하여 엄격하게 관리되어지고 있다. 그리고, TV 및 TFT-LCD 모니터의 크기가 큰 것을 사용자의 요구로 TFT/Color Filter 생산 공장은 세대가 거듭될수록 사용되어지는 유리기판의 크기도 따라서 커지고 있다. 이러한 유리기판의 크기 증가는 공정라인에서 진동에 더욱더 취약해지는 결과를 초래하므로 보다 엄격하게 진동관리가 필요하게 된다. 이에, 본 논문에서는 기존 세대인 1～5세대 TFT-LCD 공장 현장에서 노광기의 진동실태를 수집하여 파악하고 Maker에서 제시하는 자료와 비교/평가하고, 문제점을 확인한다. 이를 기초로 수정/보완되어야 할 사항을 검토하며, 차세대인 6∼7세대 노광기에 대한 진동저감 대책을 위한 시스템을 설계하는 절차서에 대한 예를 들었으며, 최적의 진동저감 대책에 대한 설계안의 방향을 제시하였다.

• Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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• v.11 no.1
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• pp.150-156
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• 1994

To meet the process requirement of semiconductor device manufacturing, it is necessary to improve the alignment accuracy in exposure equipments. We developed the excimer laser stepper and will describe the methodology for alignment measurement and experimental results. Our wafer alignment system consists of off-axis optics, TTL(Through The Lens) optics and high precision stage. Off-axis alignment utilizes the image processing and /or diffraction from thealign marks of off-centered chip area. On the other hand, TTL alignment can be used for the die-by-die alignment using dual beam interferometry. When only off-axis alignment was used, the experimental alignment error(lml+3 .sigma. ) was 0.26-0.29 .mu. m, and will be reduced down to 0.15 .mu. m by adding TTL alignment.

• The Optical Journal
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• s.122
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• pp.44-49
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• 2009

이번호에는 광기술컨텍트 2009년 5월호 <특집:광학기술의 한계>에서 Toda Shin-ichiro씨가 기고한 '편광소자의 광학특성의 한계' 내용을 번역하여 게재한다. 최근 노광기, 광기록을 비롯하여 레이저 가공, 광계측 등 여러 분야에 걸쳐 광원파장의 단파장화가 진행되고 있다. 이러한 상황 속에서 광학부품의 하나인 편광자의 자외화(紫外化)에 대한 필요성이 요구되고 있다. 성능적으로 밸런스가 좋은 편광자로 글랜 톰슨 프리즘을 들 수 있는데 본 고에서는 글랜 톰슨 프리즘 구조에서 파장 $\lambda$=1800nm부터 사용 가능하고 투과율도 높은 편광자와 그 제작 시의 문제점에 대해 설명하고 있다.

• The Optical Journal
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• s.116
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• pp.85-89
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• 2008

미국, 일본, 독일을 중심으로 초대형 천체망원경, 고해상도 인공위성 카메라, 차세대 반도체 산업용 진공자외선 및 엑스선 노광기, 비구면 및 자유곡선 가공기와 측정기, 나노기술을 이용한 초소형 광학소자, 반도체 및 디스플레이 공정용 레이저 가공기술 등 첨단 산업용 원천 및 요소기술 개발에 집중하고 있다. 중국은 최근에 자국시장이 대폭 확대됨에 단순가공 수준이었던 광기술을 전략적으로 발전시키고 있으며, 자국시장을 기반으로 중급 광학소자 및 광학계 시장에서 고속성장이 기대된다.

• Proceedings of the Korean Society for Noise and Vibration Engineering Conference
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• 2004.05a
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• pp.247-251
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• 2004

최근 정밀장비의 진동허용규제치 및 동강성허용규제치는 제작사가 사용자에게 반드시 제출해야 하는 하나의 사양으로 정착되고 있지만, 대부분 국내외의 장비 제작자가 제시하는 진동허용규제치는 부정확할 뿐만 아니라 통일된 양식을 갖추고 있지 못하고 있는 실정이다. 따라서, 본 연구에서는 장비제작사에서 제시하는 동하중에 의한 기준과 진동측정을 통한 평가 동하중에 따른 기준으로 노광기의 기초에서 진동허용규제치를 만족시키기 위한 건물의 요구 이너턴스를 평가하여 차세대 노광기에 대한 정량적인 동강성규제치를 제안하였다.

• The Optical Journal
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• s.109
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• pp.56-57
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• 2007

국내 광산업은 80년대 카메라, 복사기 등 결상기기 중심에서 90년대 이후에는 결상기기와 더불어 레이저 가공기, 광정보기기, 광통신기기 등 광응용기기로 확대되고 있다. 2005년 기준으로 볼때 국내 광산업은 세계시장의 약 5.5.%를 차지했으며, 정밀 광산업 기술로드맵과 직접 관련되는 광정밀기기, 광정보기기, 광학기기분야의 수입은 68%, 수출이 90%를 차지해 수출역점산업임을 알 수 있다. 따라서 2010년에는 광산업 세계 시장 규모가 400조원 수준에 이를 것으로 예상되고 있는 가운데 이에 대비하여 국내 광산업의 성장기틀을 다질 때이다. 본 고는 한국광학기기협회에서 작성한 정밀광학기기 분야의 기술로드맵 내용 중 노광기 분야의 시장 전망과 국내 기술 현황에 대한 내용을 발췌, 정리한 것이다.

• Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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• v.33 no.10
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• pp.845-850
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• 2016

A direct laser lithography system is widely used to fabricate various types of DOEs (Diffractive Optical Elements) including lenses made as CGH (Computer Generated Hologram). However, a parametric study that uniformly and precisely fabricates the diffractive patterns on a large area (up to $200mm{\times}200mm$) has not yet been reported. In this paper, four parameters (Focal Position Error, Intensity Variation of the Lithographic Beam, Patterning Speed, and Etching Time) were considered for stabilization of the direct laser lithography system, and the experimental results were presented.

• Proceedings of the KSME Conference
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• 2005.11a
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• pp.18.2-18.2
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• 2005

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2013.05a
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• pp.641-642
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• 2013

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2013.05a
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• pp.1273-1274
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• 2013