본 논문은 노화로 인한 배터리의 용량과 최대 출력 변화를 추정하는 알고리즘을 제안한다. 제안하는 알고리즘은 실시간으로 내부저항을 추정하여 배터리의 최대 출력을 예측하고 전하량 대비 개방회로전압의 변화율을 통해 노화된 용량을 계산한다. 개방회로전압 변화율의 정확한 계산을 위하여 앞서 추정된 내부저항을 이용한다. 제안하는 알고리즘의 정확도는 단전지 실험 및 시뮬레이션을 통하여 검증한다.
SoC(System-On-Chip) 시스템에서 초 저전력 시스템을 구현하기 위한 dynamic voltage and frequency scaling (DVFS)알고리즘에 사용될 시스템 버스의 다중 코어 전압 레벨을 생성해주는 새로운 다계층(multi-level) 코어 전압용 high-speed level up/down Shifter 회로를 제안한다. 이 회로는 내부 회로군과 외부 회로군 사이에서 서로 다른 전압레벨을 조정 접속하는 I/O용 level up/down shifter interface 회로로도 동시에 사용된다. 제안하는 회로는 인터페이스 접속에서 불가피하게 발생하는 속도감쇄와 Duty Ratio 불안정 문제를 최소화하는 장점을 갖고 있다. 본 회로는 500MHz의 입력 주파수에서 $0.6V\sim1.6V$의 다중 코어 전압을 각 IP들에서 사용되는 전압레벨로, 또는 그 반대의 동작으로 서로 Up/Down 하도록 설계하였다 그리고 제안하는 I/O 용 회로의 level up shifter는 500MHz의 입력 주파수에서 내부 코어 용 level up shifter의 출력전압인 1.6V를 I/O 전압인 1.8V, 2.5V, 3.3V로 전압레벨을 상승 하도록 설계하였으며, level down shifter는 반대의 동작으로 1Ghz의 입력 주파수에서 동작하도록 설계하였다. 시뮬레이션 및 결과는 $0.35{\mu}m$ CMOS Process, $0.13{\mu}m$ IBM CMOS Process 와 65nm CMOS model 변수를 이용한 Hspice를 통하여 검증하였다. 또한, 제안하는 회로의 지연시간 및 파워소모 분석과 동작 주파수에 비례한 출력 전압의 Duty ratio 왜곡에 대한 연구도 하였다.
플라즈마 디스플레이 패널의 각 부화면 시간동안 기입 방전의 지연시간을 각각 조사하였고 오방전이 발생하지 않는 범위내에서 추가 주사전압의 높이를 다르게 인가하여 모든 부화면 시간동안 기입방전 지연시간을 단축시키기 위한 수정된 구동방법을 제시한다. AC PDP에서 첫번째 초기화 기간 동안 주사전극에 높은 상승 경사파 전압을 인가하여 약한 플라즈마 방전이 발생하고 셀 내부에서 프라이밍 입자와 벽전하 생성을 유도한다. 생성된 벽전하는 셀 내부 벽전압이 되므로 기입기간 중 기입전압과 더해져서 기입 방전을 일으킨다. 그러나 셀 내부의 벽전하는 시간이 지나면서 점차 소멸되므로 1 TV 프레임 시간 동안 각 부화면 시간동안 기입방전은 늦게 발생한다. 첫 번째 부화면 시간에는 초기화 기간 동안 상승 경사파를 갖는 높은 전압에 의해 벽전하가 많이 남아 있으므로 첫 번째 기입 방전은 다른 부화면 시간보다 빠르게 형성된다. 한편, 두 번째부터 마지막 부화면 시간까지의 기입 방전 생성시간은 셀 내의 벽전하 소멸에 의하여 점차적으로 늦어진다. 본 연구에서는 각 부화면 시간동안 기입방전의 시간지연을 조사하였고, 부화면 시간의 기입기간 마다 추가 주사전압을 다르게 인가하여 전체 기입방전지연시간을 단축시켰다.
비정질 탄소막 제조에 있어서 수소가 포함된 반응성 가스를 사용할 경우 제작된 탄소막 내부에는 수소가 포함되게 되며, 이러한 수소원자들은 막의 특성에 중요한 영향을 주는 것으로 알려져 있다. 따라서, 본 연구에서는 비정질 탄소막(a-C:H) 내부에 존재하는 수소가 탄소막의 특성에 미치는 영향을 알아보고, 막 내부에 포함된 수소의 함량과 공정조건 사이의 함수계를 조사함으로써 수소의 함량을 인위적으로 통제할 수 있는 가능성을 제시하고자 한다. 수소가 포함된 비정질 탄소막은 2.45 GHz의 전자기파를 사용하는 electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition (ECR-PECVD) 방법과 DC magnetron sputtering 법을 사용하여 제작하였다. 기판으로는 Si(001) wafer를 사용하였으며, 아세톤과 에탄올을 사용하여 표면의 유기성분을 제거하고, 진공챔버속에서 Ar 플라즈마를 발생시켜 sputter etching 방법으로 표면을 세척하였다. ECR-PECVD 방법에서는 반응가스로 메탄(CH4)과 수소(H2)의 혼합가스를 사용하였으며, 혼합가스의 비는 5~50% 범위내에서 변화를 주었다. 수소가스의 유량은 100SCCM으로 고정하였으며, 마이크로웨이브의 power는 360~900W였고, 기판에 가해준 negative DC bias 전압은 0~-500V이었다. DC magnetron sputtering 방법에서는 반응가스로 아세틸린(C2H2) 가스를 사용하였으며, 플라즈마 발생을 용이하게 하기 위해서 Ar 가스와 혼합하여 사용하였다. Ar 가스의 유량은 10SCCM으로 고정하였으며, 아세틸렌 가스의 유량은 5~20SCCM 범위내에서 주입하였다. 이때, 기판에 가해준 negative DC bias 전압은 0~-100V이었다. 제작된 탄소막의 수소 함량을 조사하기 위하여 Fourier Transform Infrared (FTIR) 분광법과 Elastic Recoil Detection Analysis (EFDA) 법을 사용하였으며, 증착율은 SEM 단면촬영과 a-step을 이용하여 측정하였고, 막의 경도는 Micro-Hardness Testing 법을 사용하여 측정하였다.
피뢰기란 뇌서지 및 개폐서지로 인한 과도적 이상전압으로부터 전력설비의 기기를 보호하는 장치이다. 종래에는 주로 전력시설물을 그 보호대상으로 하고 있었으나 최근에는 건축물의 내부에 사용하는 정보통신기기를 보호하는 기술도 발달하고 있다. 본론에서는 고압기기를 보호대상으로 하는 피뢰기에 대하여 살펴보겠다.
피뢰기란 뇌서지 및 개폐서지로 인한 과도적 이상전압으로부터 전력설비의 기기를 보호하는 장치이다. 종래에는 주로 전력시설물을 그 보호대상으로 하고 있었으나 최근에는 건축물의 내부에 사용하는 정보통신기기를 보호하는 기술도 발달하고 있다. 본론에서는 고압기기를 보호대상으로 하는 피뢰기에 대하여 살펴보겠다.
본고에서는 고분자절연체의 내부전하분포 측정을 위한 측정원리, 측정장치 및 실제측정예 등에 대하여 언급하였다. 이 방법은 고분자내에 존재하는 전하의 종류, 위치 및 전하량에 대한 정보를 얻을 수 있으므로 고분자의 절연성질을 이해하는데 도움을 줄 것으로 생각한다. 특히 폴리에틸렌의 경우 여러 가지 요인, 즉 수지의 종류 또는 첨가제의 유무 등에 의해 각기 다른 내부전하분포를 갖는다는 사실이 밝혀졌다. 이와 같은 사실은 고분자 내부에 존재하는 공간 전하 때문에 외부전압에 의한 전기장이 변형되고 이에 따라 고분자의 절연성질이 변형될 수 있다는 점을 생각할 때 매우 중요한 의미를 갖는다고 할 수 있다. 따라서 고분자의 절연성질에 대한 이해를 높이기 위하여는 절연성질과 내부전하분포와의 관계에 대한 보다 깊은 연구가 이루어져야 할 것으로 생각된다.
본 논문은 발전기보호를 위한 전압억제 과전류계전기에 관한 것이다. 발전기 후비보호를 담당하는 전압억제 과전류 계전기능은 발전기 전부하전류의 150~200[%]의 범위내 과부하상태에서 불필요하게 Trip 되는 것을 방지하는 역할을 한다. 본 논문은 대형 발전기 내부사고 보호를 위한 다기능 IED 시제품 기술 개발 과제의 1차년도 진도보고의 일부로서 0사의 DGP를 Target 계전기로 삼아 연구를 수행하였다. 본 논문에서는 전압억제 과전류의 동작특성과 특성방정식계전기, 정정기준 분석 및 제시안, 논리를 알아본 후 최종적으로 알고리즘을 정립하였다.
콘덴서는 유도성 부하의 늦은 역률 보상으로도 사용되며, 비선형 부하에서 발생하는 고조파를 저감하기 위해 리액터에 직렬로 연결하여 사용되기도 한다. 콘덴서는 전압이 증가할 경우 전류도 함께 증가하고, 주파수가 증가할 경우 콘덴서에 흐르는 전류가 증가하기 때문에 전류의 증가는 바로 열의 증가로 콘덴서 절연에 스트레스로 작용하여 고장의 원인을 제공할 수 있다. 본 연구에서는 콘덴서에 인가되는 전압의 크기와 주파수를 변화시킬 경우 콘덴서에서 발생하는 열을 열화상 카메라로 측정하여 외부 및 내부에서의 온도분포를 분석하였다. 측정결과 전압과 주파수가 증가할 경우 콘덴서에서 열이 매우 높게 분포함을 확인할 수 있었다.
본 논문은 계통연계형 인버터를 위한 비례공진제어 기반의 케스케이드전류-전압 제어기 설계에 대해 다루고있다. 인버터가 계통연계모드로 동작할 때 인버터는 계통의 보조 전력원으로서의 역할을 하기 때문에 전류원으로 정의된다. 이때 LCL 필터가 연결된 계통연계형 인버터의 출력 LC 단에 비선형 지역적 부하가 연결될 경우 기존의 단일 전류 제어기만으로는 비선형 부하로 인한 고조파 왜곡에 대처하기 힘들고 독립운전모드와의 모드절환시 매끄러운 과도 특성을 보장하기 힘들다. 따라서 본 논문에서는 비례다중공진제어기를 활용한 내부 출력 전압, 외부 출력 전류 루프로 구성된 케스케이드 전류-전압 제어기를 제안하였고 제안된 방식이 고조파 보상과 모드 절환시의 매끄러운 과도 특성에 효력을 보임을 PSIM 시뮬레이션을 통해 검증하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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