• Journal of the Korean Chemical Society
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• v.50 no.1
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• pp.14-22
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• 2006

the basic model of chemical reactor using glow discharge, we used cathode discharge cell with vacant cavity in the middle. Currently glow discharge is widely studied as a radiation source or atomization device in atomic spectroscopy and remarkable technological achievements are made through the graft with other analysis devices such as microanalysis and steel analysis.1 Additionally, as the characteristics of basic glow discharge and radiation have been reviewed many times, those results could be used in this experiment.2-3 In 1993, an article regarding the treatment of poisonous gas in the air using low temperature plasma was published. According to this article, if DC Glow Discharge is used under continuous atmospheric flow, poisonous gases such as SO2 and NO can be removed.4 Based on those findings, we designed highly efficient reactor where stable air plasma is composed and all air flow pass the negative glow area passing through the tube. It was observed that the cathode tube type glow discharge developed in this study would be economical, easy to use and could be used as radiation source as well.

• Journal of the Korean Chemical Society
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• v.35 no.4
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• pp.350-354
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• 1991

Characteristics of a gas chromatographic detector using glow discharge as the ionization source was studied in helium flow. Discharge current greater than 10$_6$ A was observed from the electric field 400 V/mm for the electrode distance 1 mm. The discharge current of 0.1~0.3 mA could be used for the detection of organic compounds. Discharge current was almost constant for the helium flow rate greater than 10 ml/min, but the discharge was easily disappeared by an injection of a small amount of organic compound in the flow rate of 0~30 ml/min. From the decrement of the discharge current depend on several compounds, it was suggested that the sensitivity of the glow discharge ionization chromatographic detector is strongly influenced by the molecular weight of the compounds.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.02a
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• pp.248-248
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• 2011

유전체 모세관을 이용한 해수에서의 펄스고전압 방전 특성을 연구하였다. 내경 1, 2, 3 mm의 구멍이 뚫린 Quartz 블럭에 외경 1, 2, 3 mm의 SUS 핀을 삽입하였고 삽입된 핀의 끝이 해수에 담구어 지도록 하여 고전압 방전을 발생 시켰다. 인가된 펄스 고전압은 5 kHz의 반복 주파수를 가지며, Pulse 폭을 $1{\sim}2.5{\mu}sec$까지 변화 시켜 전압전류 파형과 방전양상을 살펴 보았다. 방전은 펄스폭 변화에 따라 전해전도 전류에 의한 모세관 가열, 모세관내 미세기포형성, 기포내의 코로나 방전 개시 그리고 글로우 또는 아크방전으로 발전하는 것을 확인하였다. 모세관의 길이는 각각의 구경에 대하여 5 mm, 10 mm 두 가지로 변화하여 실험하였고, 모세관 길이 10 mm 조건에서는 방전이 매우 불안정 하였다. 각각의 방전조건별로 1~5분간 방전을 진행하여 해수내의 유리염소의 농도 변화를 살펴본 결과 방전모드가 글로우 또는 아크 방전 모드에서 단위 에너지당 유리염소 발생 수율이 큰 폭으로 증가하는 것을 확인할 수 있었다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2013.02a
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• pp.385-385
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• 2013

음극 아크로 증착한 TiAlN 박막의 표면형상과 물리적 특성을 관찰하였다. 음극 아크로 박막을 코팅할 경우, 거대 입자가 박막 표면에 존재하여 박막의 품질을 저하시킨다. 본 연구에서는 거대입자의 생성을 막기 위한 기판 청정공정을 도출하였다. 먼저 글로우 방전을 이용하여 기판을 청정한 후 $N_2$ 가스를 주입하여 TiAlN 박막을 코팅하였다. 글로우 방전의 경우 Ar 가스주입 후 공정압력은 $1.9{\sim}2.1{\times}10^{-2}$ Torr, 전압 -800 V에서 30분 동안 청정을 실시하였다. 다른 청정 방법으로는 Ar과 $N_2$ 가스를 동시에 주입하여 아크를 발생시키고 시편에 전압을 -400 V 인가하여 청정을 실시한 후 인가전압만을 -100 V로 낮추어 TiAlN을 코팅하였다. 글로우 방전 청정과 Ar과 $N_2$의 혼합가스로 아크를 발생시켜 청정을 실시한 후 코팅된 시편의 박막 표면형상과 물리적 특성을 비교해 본 결과, 앞서 서술한 두 종류의 청정공정 모두 거대입자의 수가 주목할 만하게 줄어들었다. 글로우 방전과 Ar과 $N_2$의 혼합가스로 발생시킨 아크로 청정을 실시하고 코팅한 TiAlN 박막은 거대입자의 제거와 함께 박막의 경도가 최대 47 GPa까지 향상되는 경향을 보였다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2013.02a
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• pp.527-527
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• 2013

현재 산업에서 상압플라즈마는 생물의학, 표면처리, 용접 및 절단, 화학적 오염제거 등 여러 분야에서 각광받고 있으며 그 잠재력 또한 매우 크다. 통상적으로 글로우 방전은 생물의학, 표면처리, 화학적 오염제거 등에 주로 쓰이고 아크 방전은 용접 및 절단에 응용된다. 이처럼 상압플라즈마는 여러 가지 방전으로 분류되고 그 특성에 맞게 응용되고 있는데 이러한 산업 여러 분야에 적절히 응용하기 위해서는 이에 대한 진단과 특성 분석이 선행적으로 이루어져야 한다. 본 연구에서는 침 대 면 전극을 가진 상압방전장치에서 스트리머로부터 스파크방전으로의 전이과정이 연구되었다. 전극간격, 주파수, 전압, 구동회로의 전류제한 조건을 가변함에 따라 스파크방전으로 전이되는 방전조건과 안정적인 글로우 방전이 유지되는 조건이 어떻게 달라지는지 조사되었다. 또한 방전전류 측정 및 ICCD 영상분석을 통해 Transient spark의 self-pulsing 조건과 주파수변화 특성을 고찰하였다.

• Proceedings of the KIPE Conference
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• 2007.07a
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• pp.356-358
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• 2007

최근 개발된 평판 타입 면광원의 경우, 전면방전을 위해서는 방전수축이 아닌 글로우 방전을 이용하게 된다. 본 논문은 면광원 피드백 구동 시스템에 관한 것으로서, 구체적으로는 면광원의 동작시간이 길어짐에 따라 방전수축 상태로 천이하거나 방전수축 상태에서 점등하는 것을 방지하고 안정적으로 동작하도록 하는 피드백 구동 시스템에 관한 것이다. 면광원에 흐르는 전류의 값을 측정하여 면광원 구동 회로를 피드백 제어하는 시스템을 구성함으로써, 면광원 램프에 흐르는 전류의 값을 목적하는 범위 이내에 유지할 수 있어 방전수축상태로 천이하지 않는 안정적인 면광원 구동회로를 구성한다. 실험을 통하여 제안된 방식의 타당성을 검증 하였다.

• Analytical Science and Technology
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• v.15 no.6
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• pp.514-520
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• 2002

The electrothermal vaporization (ETV) hollow cathode glow discharge atomic emission spectrometer for analysis of liquid sample has been developed and characterized. This system has improved the sample introduction method of electrothermal vaporization and the hollow cathode glow discharge. The sample introduction method was possible to provide high analyte transport efficiency to the plasma by helix coil made of tungsten material. In addition, small volume samples (<$30{\mu}{\ell}$) could be used. The system has glow discharge cell with special design for improvement of precision. The effect of discharge parameters such as discharge power, gas flow rate has been studied to find optimum condition. The emitted light was effectively carried into detector by fiber optic cable in UV region. The calibration curve of Pb, Cd were obtained with 3 samples.

• Journal of the Korean Chemical Society
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• v.48 no.4
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• pp.351-357
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• 2004

We have investigated the intensity of Cu 510.6 nm emission line in see-through hollow cathode glow discharge (st-HCGD) for the development of medical Cu vapor laser. In order to acquire the stable plasma in st-HCGD cell at high current, several factors such as current, the length and the inner diameter of cathode tube, the shape of the tube, and the range of the sputtering range were tested. An optimum condition in our st-HCGD cell was obtained at 600 V, 700 mA, 2.3 Torr of Ar gas (100 SCCM), and 40 mm of tube with 4-11-4 mm type cathode design. Also, it was indirectly observed that temperature in the cell could reach more than $1,000{\circ}C$ since Cu cathode was melt at the current more than 700 mA (melting point of Cu, $1084{\circ}C$).

• Proceedings of the Korean Fiber Society Conference
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• 1995.10a
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• pp.21-21
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• 1995

• Proceedings of the Korean Fiber Society Conference
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• 1996.10a
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• pp.322-324
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• 1996