• Title/Summary/Keyword: 광전소자

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분광타원분석법을 이용한 InAs 유전율 함수의 온도의존성 연구

  • Kim, Tae-Jung;Yun, Jae-Jin;Gong, Tae-Ho;Jeong, Yong-U;Byeon, Jun-Seok;Kim, Yeong-Dong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.162-162
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    • 2010
  • InAs 는 광전자 및 광통신 소자에 널리 이용되는 $In_xGa_{1-x}As_yP_{1-y}$ 화합물의 endpoint 로서, Heterojunction Field-Effect Transistors (HEMTs), Heterojunction Bipolar Transistor (HBT) 등에 중요하게 이용되고, 다양한 소자의 기판으로도 폭넓게 사용되는 물질이다. InAs 의 반도체 소자로의 응용을 위해서는 정확한 광 특성과 밴드갭 값들이 필수적이며, 분광타원편광분석법(ellipsometry) 을 이용한 상온 InAs 유전율 함수는 이미 정확히 알려져 있다. 그러나 상온에서는 $E_2$ 전이점 영역에서 여러 개의 밴드갭들이 중첩되어 있어, 밴드구조계산 등에 필수적인 InAs의 전이점을 정확히 정의하기 어렵다. 또한, 현재의 산업계에서 중요하게 여겨지는 실시간 모니터링을 위해서는 증착온도에서의 유전율 함수 데이터베이스가 필수적이다. 이와 같은 필요성에 의해, 22 K - 700 K 의 온도범위에서 InAs 의 유전율 함수와 밴드갭 에너지에 대한 연구를 수행하였다. InAs bulk 기판을 methanol, acetone, DI water 등으로 세척 한 뒤, 저온 cryostat 에 부착하였다. 분광타원분석법은 표면의 오염에 매우 민감하기 때문에, 저온에서의 응결 방지를 위해 고 진공도를 유지하며, 액체 헬륨으로 냉각하였다. 0.7 - 6.5 eV 에너지 영역에서 측정이 가능한 분광타원편광분석기로 측정한 결과, 온도가 증가함에 따라 열팽창과 phonon-electron 상호작용효과의 증가에 의해, 밴드갭 에너지 값의 적색 천이와 밴드갭들의 중첩을 관찰 할 수 있었다. 정확한 밴드갭 에너지 값의 분석을 위하여 2계 미분을 통한 표준 밴드갭 해석법을 적용하였으며, 22 K 의 저온에서는 $E_2$ 전이점 영역에서 중첩된 여러 개의 밴드갭들을 분리 할 수 있었다. 또한 고온에서의 연구를 통해, 실시간 분석을 위한 InAs 유전함수의 데이터베이스를 확립하였다. 본 연구의 결과는 InAs 를 기반으로 한 광전자 소자의 개발 및 적용분야와 밴드갭 엔지니어링 분야에 많은 도움이 될 것으로 예상한다.

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Determination of Quantum well Thickness of ZnO-ZnMgO core-shell Cylindrical Heterostructures by Interband Optical Transitions

  • Sin, Yong-Ho;No, Seung-Jeong;Kim, Yong-Min
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.08a
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    • pp.208-208
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    • 2013
  • ZnO는 직접천이형 반도체로 약 3.37 eV의 넓은 에너지 band-gap과 60 meV의 비교적 큰 엑시톤 결합 에너지를 가지고 있다. 또한 단결정 성장 가능과 투명성 등 많은 장점들로 인하여 GaN와 대체할 자외선 또는 청색 발광소자나 ITO를 대체할 투명전극 같은 광범위한 광전소자로 큰 주목을 받으며 연구되어 왔다. 이러한 ZnO는 다양한 물질들의 첨가를 통해 인위적으로 특성변화가 가능한데 Mg, Be, Cd 첨가를 통한 에너지 밴드갭의 확장과 수축, Al 첨가를 통한 전기전도성의 증가 등이 그 예이다. 최근에는 밴드갭 조절을 이용한 ZnO-ZnMgO와 같은 이종접합구조가 광소자 등의 응용을 목적으로 많은 연구가 이루어지고 있다. 더불어 나노선이나 나노막대 같은 1차원 구조를 갖는 ZnO 계열 반도체의 연구는 현재 큰 이슈가 되고 있는 나노 크기의 소자 개발에 매우 큰 적용 가능성을 가지고 있다. 우리는 수열합성법을 이용하여 hexagonal ZnO 나노막대를 성장하고 그 표면에 core-shell 형태의 $ZnO-Zn_{1-x}Mg_xO$ (x=0.084) 양자우물을 원자층증착법으로 증착하였다. 본 연구에서는 만들어진 ZnO 나노막대와 ZnO-ZnMgO 나노막대, core-shell ZnO-ZnMgO 양자우물 sample들의 저온(5 K) Photoluminescence 측정을 통하여 광학적 band 구조를 분석하였다. 실험적으로 의도된 양자우물 두께와 다른 실제 형성된 양자무물의 두께를 알아내기 위하여 2차원 hexagonal 양자우물 band 구조에서 self-consistent nonlinear Poisson-Schr$\"{o}$dinger 방정식 계산과 컴퓨터 시뮬레이션을 이용하였으며, 이 방법으로 계산된 값과 실험값의 비교를 통하여 실제 형성된 양자우물의 두께를 정량적으로 유출할 수 있었다.

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일본 광산업 생산액 - 인터넷 폭발적 신장이 기여 1998년부터 상승 무드 전환

  • 한국광학기기협회
    • The Optical Journal
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    • v.12 no.5 s.69
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    • pp.47-53
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    • 2000
  • 1998년 일본 내 생산실적은 5조 6,342억엔, 1999년 일본 내 생산실적 6조 4,191억엔으로 성장률 저하 경향이 1998년 경계로 상승 무드로 전환됐다. 인터넷의 폭발적인 신장에 따른 디스플레이 소자의 증산 및 대 화면 제품의 시장 진출, 광전송기기 장치 등의 신장이 크게 기여했다. 2000년은 $17.1\%$ 성장한 7조 5,170억엔이 예측된다.

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MEMS 소자로의 응용을 위한 Pb(Zr, Ti)$O_3$ 강유전체 박막의 압전 특성

  • 김승현;신현정;윤영수
    • Ceramist
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    • v.7 no.3
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    • pp.55-61
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    • 2004
  • 21세기 지식 정보 시대에 요구되는 미래 첨단제품의 특성은 극소형, 고밀도, 대용량, 고속, 다기능, 저전력형으로 예상되므로, 우리나라를 비롯한 기술 선진국의 연구 개발 역시 이러한 고부가가치 첨단 제품의 경박단소화 기술 개발에 집중될 것이며, 광전 복합 부품의 극소화를 통해 성능 및 가격 경쟁력의 향상은 물론 에너지와 자원의 경제적 활용을 동시에 추구하고자 할 것이다. (중략)

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Analysis of taper-foremd optical coupler for the optical communication (광통신용 taper형 광 결합기의 해석)

  • 김선엽;노신래;손동희;강영진
    • Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
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    • v.35D no.10
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    • pp.98-106
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    • 1998
  • Efficient power transmission from a single mode fiber to a thin-film waveguide devices is one of the most fundamental and inevitable subject that should be first solved toward the realization of the integrated optic system. In this paper, fiber-waveguide coupling structure is considered and the large mismatch of field profiles at the fiber-waveguide interface is well avoided by using to the coupling guide which is intentionally developed on the top of the thin-film guuide. From the simulation, the taper-type structure are shown to be easier realizeable than the uniform one, since optical coupling between the guides in the latter has a stronger tolerance to the deviation of waveguide parameters.

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An implementation of fiber-optic sensors for impulse voltage and current measurement using a BSO and an YIG (BSO와 YIG를 이용한 임펄스 전압, 전류 측정용 광센서 구현)

  • 송재성;김영수
    • Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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    • v.13 no.8
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    • pp.688-693
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    • 2000
  • In this paper an optical voltage sensor and an optical current sensor which can be used for the measurement of impulse voltage and current are implemented. BSO single crystal is utilized as a voltage sensor(Pockels effect cell). An rare earth doped YIG is used as a current sensor(Faraday effect cell). A new signal processing technique is adopted not only to avoid the influences o external optical fiber pertubations of transmitting optical fiber but also to improves the frequency response characteristics of the fiber-optic voltage and current sensors. Experimental results show that optical voltage sensor has maximum 2.5% error within the voltage range from 0V to 500V. and optical current sensor has maximum 2.5% error within the current range and that of optical current sensor is about 1.5% within temperature range from -2$0^{\circ}C$ to 6$0^{\circ}C$. The proposed optical sensors have good frequency response characteristics within the frequency range from DC to 10MHz.

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고 투과, 저 저항 Ge-doped $In_2O_3$ (IGO) 투명 전극의 특성 평가 연구

  • Gang, Sin-Bi;Kim, Han-Gi
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.02a
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    • pp.192-192
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    • 2013
  • 본 연구에서는 RF/DC 마그네트론 스퍼터링 시스템을 이용하여co-sputtering 방법으로 성장시킨 고이동도를 갖는Ge-doped $In_2O_3$In2O3 (IGO) 박막의 전기적, 광학적, 구조적 특성을 평가하고, 이를 유기태양전지와 유기발광다이오드에 적용함으로써 고이동도 IGO 투명전극의 소자 적용가능성을 타진하였다. GeO2 타겟에 인가되는 도핑 Power와 급속열처리 온도가 30 W, $500^{\circ}C$일 때, 최적화 된 IGO 박막으로부터 $2.8{\times}10^{-4}$ Ohm-cm의 낮은 비저항과 86.9% (550 nm)의 높은 투과도를 확보하였다. 뿐만 아니라 Near Infra-red (750~1,200 nm) 영역에서의 IGO투명전극의 광투과율이 결정질의 ITO보다 높은(약15%) 투과도를 보이는 것을 통해 IGO박막의 높은 LAS (Lewis Acid Strength) 값을 가지는 Ge 원소의 도핑이 NIR 영역의 광투과율 향상에 미치는 영향을 확인할 수 있었다. 최적 조건의 IGO 박막을 적용하여 Fill Factor 67.38%, Short circuit current density 8.43 mA/cm2, open circuit voltage 0.60 V, efficiency 3.44%의 유기태양전지 및 19.24%의 외부양자효율을 갖는 유기발광다이오드를 제작함으로써 결정질 ITO 전극(20.05%)을 대체할 수 있는 고투과, 고이동도 IGO 투명 전극 및 이를 이용한 광전소자 적용 가능성을 타진하였다.

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A study on the electrical characteristics of CdZnS/CdTe heterojunction (CdZnS/CdTe 이종접합의 전기적 특성에 관한 연구)

  • Lee, Jae-Hyeong
    • Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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    • v.14 no.7
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    • pp.1647-1652
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    • 2010
  • A CdS film has been used as a window layer in CdTe and Cu(In,Ga)$Se_2$ thin films solar cell. Partial substitution of Zn for Cd increases the photocurrent and the open-circuit voltage by providing a match in the electron affinities of the two materials and the higher band gap. In this paper, CdZnS/CdTe and CdS/CdTe heterojunctions were fabricated and the electrical characteristics were investigated. Current-voltage-temperature measurements showed that the current transport for CdS/CdTe heterojunction was controlled by both tunneling and interface recombination. However, CdZnS/CdTe heterojunction displayed different current transport mechanism with the operating temperature. For above room temperature, the current transport of device was generation/recombination in the depletion region and was the leakage current and/or tunneling in the range below room temperature.

The formation of Si V-groove for optical fiber alignment in optoelectronic devices (광전소자 패키징에서 광섬유 정렬을 위한 Si V-groove 형성)

  • 유영석;김영호
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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    • v.6 no.3
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    • pp.65-71
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    • 1999
  • The effects of mask materials and etching solutions on the dimensional accuracy of V-groove were studied for the alignment between optoelectronic devices and optical fibers in optical packaging. PECVD nitride, LPCVD nitride, or thermal oxide($SiO_2$) was used as a mask material. The anisotropic etching solution was KOH(40wt%) or the mixture of KOH and IPA. LPCVB nitride has the best etching selectivity and thermal oxide was etched most rapidly in KOH(40wt%) at $85^{\circ}C$ among the mask materials studied here. The V-groove size enlarged than the designed value. This phenomenon was due to the undercutting benearth the mask layer from the etching toward Si (111) plane. The etch rate of (111) plane wart 0.034 - 0.037 $\mu\textrm{m}$/min in KOH(40wt%). This rate was almost same regardless of mask materials. When IPA added to KOH(40wt%), the etch rate of (100) plane and (111) plane decreased, but etching ratio of (100) to (111) plane increased. Consequently, the undercutting phenomenon due to etching toward (111) plane decreased and the size of V-groove could be controlled more accurately.

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