• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2008.06a
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• pp.202-202
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• 2008

실리콘 기판 위에 성장된 세륨 산화막(CeO2)은 고품질의 SOI(Silicon on Insulator)나 혹은 안정한 캐패시터 소자와 같은 반도체 소자에 대한 응용 가능성이 높아 여러 연구가 진행되어 왔다. 세륨 산화막은 형석 구조, 다시 말해서 대칭적인 큐빅 구조이며 화학적으로 안정한 물질이다. 또한, 세륨 산화막의 격자상수 (a = $5.411\AA$)는 실리콘의 격자상수 (a = $5.430\AA$) 와 비슷하며 큰 밴드갭(6eV) 및 높은 유전상수 ($\varepsilon$ = 26), 높은 열적 안전성을 지니고 있어 실리콘 기판에 사용된 기존 절연막인 사파이어나 질코늄 산화막보다 우수한 특성을 지니고 있다. 본 논문에서는 스퍼터링을 이용하여 세륨 산화막을 실리콘 기판 위에 형성하면서 기판가열 온도 조건을 각각 상온, $100^{\circ}C$, $200^{\circ}C$로 설정하였으며, 세륨 산화막의 증착 두께 조건을 각각 80nm, 120nm로 설정한 다음 퍼니스를 이용하여 $1100^{\circ}C$에서 1시간 동안 열처리를 거친 세륨 산화막의 결정화 형태 및 박막의 막질 상태를 각각 X선 회절 장치 (XRD) 및 주사전자현미경 (SEM)으로 관찰하였다.

• The Journal of the Korea institute of electronic communication sciences
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• v.13 no.6
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• pp.1213-1222
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• 2018

The energy band gaps and the bowing parameters of zincblende $GaAs_{1-x}N_x$ on the variation of temperature and composition are determined by using an empirical pseudo-potential method with another virtual crystal approximation, which includes the disorder effect. The bowing parameter is calculated as 15eV and the energy band gaps are decreasing rapidly in $GaAs_{1-x}N_x$ ($0{\leq}x{\leq}0.05$, 300K). A refractive index n and a function of high-frequency dielectric constant ${\varepsilon}$ are calculated by the results of energy band gaps and the calculation results of energy band gaps are consistent with experimental values.

• The Journal of the Korea institute of electronic communication sciences
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• v.14 no.5
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• pp.877-886
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• 2019

The energy band gaps and optical constants of zincblende $In_yGa_{1-y}As_{1-x}N_x$ on the variation of temperature and composition are determined by using band anticrossing method. The energy band gaps are decreasing continuously in $In_yGa_{1-y}As_{1-x}N_x$ ($0{\leq}x{\leq}0.05$, $0{\leq}y{\leq}1.0$, 300K) and the bowing parameter is calculated as 0.522eV. The calculation results of energy band gaps are consistent with those of other studies. A refractive index n and a high-frequency dielectric constant ${\varepsilon}$ are calculated by a proposed modeling equation using the results of energy band gaps.

• Korean Journal of Materials Research
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• v.3 no.5
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• pp.476-481
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• 1993

Microwave dielectric properties of $(Na_{1/2}{\;}La_{1/2})TiO_3$ (NLT) ceramics which is an A site complex perovskite structure are investigated. Dense sintered bodies are obtained when calcined at $1000^{\circ}C$ for 4h and then sintered in the temperature range between $1350^{\circ}{\;}and{\;}1450^{\circ}C$. NLT shows the bulk density of $4.95g/\textrm{cm}^3$, relative density of 96.4%, and a simple cubic structure with lattice constant(a) of 3.873$\AA$. Dielectric Constant(${\varepsilon}_r$) and quality factor Q increase as bulk density and average grain size increase respectively. NLT has the dielectric ${\varepsilon}_r=125$, Q=2842(fo=3 GHz), ${\tau}_f=465{\;}ppm/^{\circ}C$ when sintered at $1400^{\circ}C$ for 4h.

• Korean Journal of Materials Research
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• v.9 no.9
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• pp.943-947
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• 1999

The crystal structure and the microwave dielectric properties of $La(Mg_{1/2}Ti_{1/2})O_3$ ceramics have been investigated. $La(Mg_{1/2}Ti_{1/2})O_3$ has the 1:1 ordered monoclinic structure with the lattice parameters of $a = 5.5467(3){\AA}, b = 5.5616(3){\AA}, c = 7.8426(5) {\AA} and \beta = 89.9589 (2)^{\circ}$ The spacegroup of LMT is $P2_1/n$. Monoclinic LMT has the in­phase and anti-phase tilting of octahedra with the $a^_a^_c^_$ tilting system. Anti-parallel shift of A-site cations was also found in LMT. The relative density of the specimens sintered above $1600^{\circ}C$ was ranged between 95 % and 96 % of the theoretical density and the dielectric constant of specimens was about 28. The highest $Q\timesf$ achieved in this investigation was 63,100 for the specimen sintered at $1630^{\circ}C$ for 5 hr. Temperature coefficient of resonance frequency ranged from $>-74 ppm/^{\circ}C ~ -79 ppm/^{\circ}C$.

• Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics
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• v.27 no.11
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• pp.77-82
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• 1990

The temperature and the composition dependence of the dielectric properties of the solid solution materials in the system $xBa(Zn_{1/3}Nb_{2/3})O_{3}\[BZN]-(1-x)\Sr(Zn_{1/3}Nb{2/3)O_{3}\[SZN]$ at microwave frequency was studied. The dielectric constant and unloaded Q were $40.5{\pm}0.5,5980{\pm}100$ respectively for BZN at 10 GHz and $36.9{\pm}0.5,2700{\pm}100$ for SZN at 10.2GHz. The temperature coefficient of the resonant frequency was $+27.5ppm/{\circ}C$ for BZN and $-39.1ppm/{\circ}C$ for SZN. The results also showed that 0.3 BZN-0.7 SZN is the most temperature-stable composition among xBZN-(1-x) SZN solid solutions. In this case, the dielectric constant, the unloaded Q and $\tau_{f}$ at 9.8GHz were $41.5{\pm}0.2,2920{\pm}100$ and $-3.5ppm/{\circ}C$, respectively.

• Journal of the Korean Ceramic Society
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• v.39 no.9
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• pp.822-828
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• 2002

Fabrication and electrical characterization of R. F. High-power unit capacitors were investigated to study on condition of fabrication processing for R. F. High-power unit capacitor and electrical characteristics according to addition of $ZrO_2$. The unit capacitors were fabricated using tape casting. The optimum mixture ratio of dielectrics and mixing binder for the slurry fabrication was 57.5∼60.0: 42.5∼40.0 wt%. The slurry viscosity was 4000∼5000 cps and casting state of green tape fabricated using these slurry was excellent. Optimum stacking was made by 200 kg/$cm^2$ pressure with 80$^{\circ}C$ heating. $ZrO_2$ was added to improve the electrical characteristics of unit capacitor, especially breakdown characteristics. The dielectric constant and loss factor of the unit condenser having different $ZrO_2$ amounts was not changed in the addition range of 1 to 5 wt%. Also, dielectric constant was not changed in the frequency range of 10 to 500 kHz. It was found that characteristics of resistance voltage was improved through the formation of $CaZrO_3$ and the reduction of particle size as about 3wt% $ZrO_2$ was added.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2012.08a
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• pp.63-63
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• 2012

편광분석법(ellipsometry)은 대상 물질의 유전율 함수의 실수부와 허수부를 Kramers-Kronig 관계식의 도움 없이 그 물질상수를 정확히 측정할 수 있는 매우 우수한 기술이다. 이 기술의 큰 장점 중 하나는 빛의 편광상태의 변화를 이용한 비파괴적인 방법으로써 실시간 측정이 가능하며, 박막의 두께측정의 오차범위는 0.1 nm 이하로써 매우 정확하다는 것이다. 본 연구자는 이러한 우수한 측정 기술인 편광분석법을 고진공의 분자살박막증착장치(MBE) 와 결합하여 AlSb, AlP의 유전율 함수를 측정하였다. Al 계열을 포함하는 반도체 화합물은 Al의 산소친화력이 강해 대기 중에서 순수한 유전율 함수를 얻기가 불가능하다. 하지만 본 연구실에서 초고진공 상태의 MBE 챔버에서 시료를 성장시키는 동시에 실시간으로 편광분석기를 이용하여 측정하였고, 지금까지 발표된 결과들 중 가장 순수한 상태의 AlSb 유전율 함수를 얻어낼 수 있었다. 또한 순수한 AlP의 유전함수를 측정할 수 있었고, 이는 편광분석기를 이용한 최초의 실험결과로써 이차미분을 이용한 전이점 분석결과 이론적인 전자밴드구조에서 E1, E1+${\Delta}1$, E2에 해당하는 밴드갭들을 확인할 수 있었다. 또한 표면의 원자배열 구조와 실시간으로 일어나는 그들의 역학적인 현상들에 관한 정보를 얻을 수 있는 surface photoabsorption (SPA)를 metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD)에 장착하여 실시간 모니터링이 가능하도록 하였다. SPA를 이용하여 GaAs/AlGaAs 양자우물구조의 성장을 원자층 수준으로 실시간 모니터링을 할 수 있었다. 그리고 SPA를 이용하여 MOCVD 안에서 InP에 As가 흡착 및 탈착되는 현상을 분석하여, As의 흡착이 두 단계에 의해 이루어짐을 분석하였다. 그리고 편광분석법의 빠르고 정확한 측정 기술을 규칙적인 구조체에서 전자기파의 회절을 구할 수 있는 Rigorous Coupled-Wave Analysis (RCWA) 계산방법과 결합하여 나노구조의 기하학적인 모양을 정확하고 빠르게 구할 수 있었다. 본 연구를 위해 규칙적인 3차원 Si 구조체 제작하여 편광분석기로 측정하고 $SiO_2$와 표면 거칠기를 고려하여 RCWA로 분석한 결과, 규칙적인 Si 구조와 산화막 층까지 정확하게 분석할 수 있음을 확인하였다. 또한 규칙적인 나노구조분석 연구를 넘어 불규칙적인 나노구조에 대한 분석 가능성을 보이기 위해 InAs 양자점을 증착하여 분석하였고, 이를 통해 편광분석법과 RCWA를 이용하여 불규칙적인 나노구조의 모양과 크기, 분포의 분석이 가능함을 보였다.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2006.11a
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• pp.228-229
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• 2006

본 연구에서는 초음파 모터 등의 고출력 액츄에이터에 응용 가능한 $04Pb(Ni_{1/3}Nb_{2/3})O_3-6Pb(Zr_xTi_{1-x})O_3$ 조성시스템에 소결온도를 달리하여 압전, 유전특성 및 미세구조에 관해 고찰하였다. 본 조성을 $1200^{\circ}C$ 온도에서 2, 4, 6, 8시간 소결하여 시편을 제조하였으며 이의 결정구조 및 미세조직을 분석하였다. 소결시간 증가에 따라 전기기계결합계수와 기계적품질계수는 증가하였으며, 압전상수는 Zr(Zr+Ti)비 0.390까지 증가하였으나 그 이상 증가함에 따라 감소하였다. 압전특성은 $1200^{\circ}C$에서 4시간 소결한 Zr=0.390인 조성에서 ${\varepsilon}_r$ = 4487, $k_p$ = 0.72. $d_{33}$ = 710, $Q_m$ =109의 우수한 특성을 나타내었다.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2007.06a
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• pp.299-299
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• 2007

후막형 무기 EL (electro-luminescence) 소자는 제조공정이 간단하고, 얇고, 가볍고, 유연한 동의 많은 장점들 때문에 휴대폰의 키패드 (key-pad) 및 광고용 back-light용으로 사용되고 있다. 이 무기 EL 소자는 비교적 손쉬운 스크린 프린팅 (screen-printing) 법으로 대면적을 제작할 수 있지만, LED (light emitting diode) 등과 비교하여 밝기가 낮아서 그 응용 분야가 제한되고 있다. EL 소자의 형광층은 전면 전극과 후면 전극 사이에 위치한다. EL은 이 형광층에 고 전기장이 걸릴 때, 전기장에 의해 가속된 전자가 형광층 내부에 첨가된 발광 중심의 전자를 여기시키고, 여기된 전자가 다시 바닥상태로 완화될 때 빛이 방출되는 현상이다. 즉, EL 소자는 이러한 전자 발광 현상을 이용한 소자로서, 전압 인가 시 발광 면 전체가 균일하게 발팡하는 평면 광원이다. 이러한 EL 소자에서 휘도의 증가는 후면 전극과 형광층 사이에 삽입되는 유전체 층의 특성과 밀접한 연관성이 있다. 본 연구에서는 고휘도 무기 EL 소자를 제작하기 위하여 이 유전체 층의 특성과 소자의 성능 사이의 관계를 알아보고자 하였다. 유전체 층에 사용하기 위해서 $BaTiO_3$-PVDF (polyvinylidene fluoride)의 복합체 필름을 제조하였다. 먼저 이 복합체 필름을 스크린 프린팅 (screen printing) 법으로 코팅하기 위한 페이스트 제작을 위해서, PVDF 수지를 용제에 녹였다. 그 다음, 일반 혼합기 및 삼단 롤밀 혼합기 (3-roll milling mixer) 등을 이용하여 $BaTiO_3$ 분말과 PVDF 용액을 다양한 비율로 혼합하여 페이스트를 제조하였다. ITO가 증착된 PET Film에 스크린 프린팅 법을 사용하여 형광층, 유전층, 배면 전극 등을 차례로 코팅하였다. $BaTiO_3$ (BT) 분말과 복합체 필름의 XRD 분석 결과, 분말 시료와 복합체 시료 모두 페로브스카이트 구조의 BT 회절선만 관찰되었다. 복합체의 단면 SEM 관찰에서는, BT 분말의 무게비가 증가할수록 더 치밀한 구조를 보여줌을 확인하였다. 또 EL소자의 유전상수와 휘도도 BT 분말의 혼합비가 증가할수록 증가하였다. 본 연구에서 제작한 무기 EL 소자의 최대 휘도는 약 $130\;cd/m^2$ 정도로 측정되었는데, 이는 휴대폰 키패드의 back-light용 광원으로 사용하기 충분하다고 판단되어진다.