X-ray diffraction method has been widely used for qualitative and quantitative analysis of a mixture of materials since every crystalline material gives a unique X-ray diffraction pattern independently of others, with the intensity of each pattern proportional to that material's concentration in a mixture. For determination of mixing ratios, extracting source spectra correctly is important and crucial. Based on the source spectra extracted, a regression model with non-negativity constraint is applied for determining mixing ratios. In some mixtures, however, X-ray diffraction spectrum has sharp and narrow peaks, which may result in partial negative source spectrum from independent component analysis. We propose several procedures of extracting non-negative source spectra and determining mixing ratios. The proposed method is validated with experimental data on powder mixtures.
Proceedings of the Korean Fiber Society Conference
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1998.04a
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pp.106-110
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1998
최근 용융방사섬유의 제조에 이용되고 있는 고속방사법은 높은 신장속도하에서 일어나는 배향결정화에 의한 섬유구조형성을 목적으로 하는 방사법으로, 방사선에서의 동력학은 폴리머의 열특성, 냉각거동 및 방사선상에서 작용하는 응력 등의 많은 인자에 의해 영향을 받는다. 복합섬유란 특수한 복합방사장치를 이용하여 두 개의 폴리머가 동시에 압출되어 하나의 필라멘트를 형성하도록 방사한 섬유로써 권축섬유, 열융착형섬유, 이형단면섬유, 전도성섬유, 초극세섬유 등 특수한 섬유의 제조에 이용되기 때문에 그 상업적 관심도가 크다[1].(중략)
Proceedings of the Korean Fiber Society Conference
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1998.10a
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pp.252-255
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1998
PVA(Poly Vinyl Alcohol)는 폴리에틸렌과 함께 최고 수준의 결정 탄성율(250~300 GPa)을 보유하고 있고, 이론적으로 높은 기계적 특성을 지녔기 때문에 초연신에 의한 고강도 고탄성율 섬유를 얻을 가능성이 매우 크다. 그러나 분자에 많이 존재하는 -OH기에 의한 강력한 분자내 및 분자간 수소결합 때문에 융점이 228~25$0^{\circ}C$ 정도로 높은 편이라는 장점이 있는 반면, 연신이나 열처리동안 분자 사슬의 alRMfj짐이나 재배열이 입체장애로 방해를 받아서 충분히 배향시키는데 상당한 어려움이 있다. (중략)
ZnO:Al films were deposited by DC-pulsed magnetron sputtering using a two-step process involving the control of the oxygen pressure. The seed layers were prepared with various Ar to oxygen flow ratios and the bulk layers were deposited under pure Ar. As the oxygen pressure during the deposition of the seed layer increased, the crystallinity and degree of (002) texturing increased. The resistivity gradually decreased with increasing crystallinity from $4.7\times10^4\Omega{\cdot}cm$ (no seed) to $3.7\times10^4\Omega{\cdot}cm$ (Ar/$O_2$ = 9/1). The etched surface showed a crater-like structure and an abrupt morphology change appeared as the crystallinity was increased. The sample deposited at an Ar/$O_2$ flow ratio of 9/1 showed a very high haze value of 88% at 500 nm, which was explained by the large feature size of the craters, as shown in the AFM image.
This purpose of this study is to enhance the hydrolysis of poly (butylene succinate-co-L-lactate) (PBSL) and poly [(R) -3-hydroxybutylate] (PHB), to develop materials with advanced medical absorbability and environmental suitability. The first method involves increasing the bioabsorbability of poly (glycolic acid) (PGA) in the core of the fibrous complex, while the second method involves making a complex fiber containing PBSL and PHB in the outer layer for improving environmental degradability Improvement in the hydrolysis of PBSL and PHB due to glycolic acid occurs by hydrolytic behavior of PGA. The drawing supporting the resulting PBSL/PGA fiber was executed at $65^{\circ}C$, where the orientation is well arranged in crystal form. Obtaining a PHB/PGA complex fiber in the proper crystal orientation at $50^{\circ}C$ was not possible since the arranged crystal orientation was only identified in drawings from temperatures above $50^{\circ}C$. Also, it is necessary to execute a smooth surface to achieve an on-line drawing since unevenness occurs in the fibrous surface from an in-line drawing.
Kim, Sang-Hyeok;Park, Chae-Min;Mun, Seong-Jae;Lee, Hyo-Jong
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2017.05a
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pp.67.1-67.1
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2017
구리는 탄성이방성이 큰 재료로 Si 박막상에 성장시키면 (111) 방향으로 우선 배향된 박막을 얻을 수 있다. 본 연구는 이러한 (111) 우선 방위를 갖는 Cu 박막의 전기도금층의 재결정 후의 매우 평탄한 표면을 갖는 박막에서 에칭에 따른 박막의 단차와 표면형상을 통해 결정방위별 에칭 특성을 비교 분석한 결과이다. 10 vol% 질산용액에서 에칭한 결과는 구리의 용해에 따라 각 결정면에 대한 고유의 facetted surface morphology를 나타내며, 대표적인 결정 방위인 (111), (110), (100)에 대해 triangular flake, ridge and rectangular pyramidal shapes을 나타내는 것을 알 수 있었다. 에칭속도의 정량적 측정을 위해 120초간 2.2M 농도의 질산용액으로 에칭을 실시하였고, nanosize의 as-plated initial region, (111), (110), (100) oriented regions의 각각에서 383, 270, 276, 317 nm/min의 에칭속도를 갖는 것을 확인하였다. Facet surface의 관찰을 통해 에칭반응이 (111) front surface를 갖는 열역학적 평형상태에서 일어나며, 이러한 결정방위별 에칭속도 차이는 각 결정S면이 갖는 Kink or ledge의 밀도의 차이에 기인할 것으로 판단된다. 즉, 에칭이 평형상태에서 step flow mechanism에 의해 열역학적 평형상태를 유지하면서 진행이 된다. 본 연구는 향후 다양한 에칭관련 용액 효과, 구리 박막의 응력 및 불순물에 의한 효과를 볼 수 있는 기본 방법을 제공해 줄 것으로 기대한다.
ZnO thin films on glass substrate were deposited by RF magnetron reactive sputtering at 100 W, 1.33 Pa, Ar/O2=50 : 50, 200$^{\circ}C$, and a target/substrate distance of 4 cm. Crystallinities, surface morphologies, chemical compositions, and electrical properties of the films were investigated by XRD, SEM, AFM, RBS, and electrometer. All films showed a strong preferred c-axis orientation and the chemical stoichiometry. The propagation velocity of ZnO/IDT/glass of single electrode and double electrode types SAW filter was about 2,589 m/sec, 2,533 m/sec and insertion loss was a minimum value of about -11 dB and -21 dB, respectively.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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1999.07a
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pp.86-86
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1999
본 연구에서는 마이크로파 유전체 소자로서의 응용 및 절연 산화막으로의 응용을 위해 마이크로파 유전체 세라믹으로 사용되어 온 MgTiO3 물질을 펄스 레이저로 박막을 제조하였다. MgTiO3 는 주로 고주파에서 높은 유전율을 갖고 높은 품질계수 (22.000 at 5 GHz) 혹은 낮은 유전손실을 갖으며 유전특성의 온도 안정성이 우수하여 유전체 세라믹 재료로 응용된다. MgTiO3 박막의 성장은 KrF(파장:248nm) 엑시머 레이저를 이용했으며 공정조건으로 박막의 성장온도는 500-75$0^{\circ}C$, 산소 압력은 10-5-200mTorr, 성장 후 냉각시 산소분위기는 200Torr, 레이저 에너지 밀도는 1.5-5J/cm2 등의 조건으로 박막을 성장하였다. MgTiO3 박막을 여러 가지 기판, 즉 Al2O3(r-plane), Si, Pt 위에 성장시켰으며 기판에 따라 에픽텍셜 혹은 다결정 상태를 갖는 ilmenite 구조로 성장되었다. PLD(Pulsed laser deposition)법에 의해 형성된 MgTiO3 박막을 보면, 우선 Al2O3(r-plane) 기판위에 성장된 경우 $700^{\circ}C$에서 에픽텍셜하게 성장하였으며, Si 기판 위에 성장된 경우 $650^{\circ}C$에서부터 (003)면으로 우선 배향된 단일상의 ilmenite 구조가 형성된다. Ptdnl에 성장된 경우 $600^{\circ}C$에서부터 (003)면으로 우선배향성을 가지며 $650^{\circ}C$에서 결정의 안정화를 이루었으나, MgTiO3 박막은 전기적 특성으로 유전특성 및 유전분산 특성 등이 측정 분석되어 MgTiO3 박막의 고주파 유전체로의 응용에 관한 가능성을 토의하였다.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.291.1-291.1
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2014
산화아연 박막은 아연이 코팅된 테프론 기판 위에 졸-겔 스핀코팅 방법을 이용하여 각기 다른 후열처리 온도에서 제작되었다. 산화아연 박막의 후열처리 온도에 따른 구조적, 광학적 특성은 field emission scanning electron microscopy (FE-SEM), X-ray diffractometer, and photoluminescence spectroscope를 이용하여 분석하였다. 후열처리 온도를 달리하여 성장한 모든 산화아연 박막은 수지상(dendrite) 구조를 가지고 있으며, 이 수지상 구조 위에 약 20 nm의 산화아연 입자들이 성장되었다. 후열처리 온도가 증가함에 따라 c-축 배향성이 우세하게 나타났으며, 인장응력도 증가하였다. 후열처리 온도 $400^{\circ}C$에서 Near-band-edge emission (NBE) 피크는 적색편이(red-shift) 하였고, 후열처리 온도가 증가함에 따라 deep-level emission (DLE) 피크의 세기는 감소하였다. 또한 $400^{\circ}C$의 후열처리 온도에서 NBE 피크의 반치폭(FWHM)이 가장 작았으며, INBE/IDLE의 비율이 가장 높았다. 따라서 $400^{\circ}C$의 후열처리 공정에 의해 결정성 및 광학적 특성이 가장 우수한 산화아연 박막을 얻을 수 있었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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