• Title/Summary/Keyword: 결정 결함

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Si결정에서의 격자결함의 특성 및 고분해능 투과전자현미경에 의한 격자상

  • Jo, Gyeong-Ik;Gwon, O-Jun;Gang, Sang-Won
    • Electronics and Telecommunications Trends
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    • v.4 no.4
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    • pp.98-107
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    • 1989
  • 실제의 결정은 이상적인 결정과는 달리 결함(imperfection or defect)들을 포함하고 있다. 본고에서는 이들 여러가지 결함들 중 격자 결함들에 국한해서, 그 기본적인 특성과 Si 격자에서의 이들 결함들의 구조를 살펴보고, 이것들을 고분해능 전자현미경(High Resolution Transmission Electron Microscopy ; HRTEM or HREM)으로 관찰했을 때, HRTEM의 탈초점 (defocus)에 따른 결함 상(image)의 성질의 변화와 함께 상 특성과 격자구조와의 관계를 살펴보았다.

Effect of high-temperature annealing on the microstructure of laterally crystallized polycrystalline Si films and the characteristics of thin film transistor (고온열처리가 측면결정화시킨 다결정 실리콘 박막의 미세구조와 박막트랜지스터 특성에 미치는 영향)

  • 이계웅;김보현;안병태
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2003.11a
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    • pp.70-70
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    • 2003
  • 금속용액을 이용하여 측면고상결정화 시킨 다결정 실리콘 박막내의 고각입계를 줄이기 위해 서 고온열처리를 실시하였다. SEM과 TEM을 이용하여 다결정 실리콘내의 바늘모양의 결정립의 폭의 증가를 관찰하였고, 결정 립내의 결함이 감소를 관찰하였다. 그리고 결정화된 다결정 실리콘의 표면 거칠기를 AFM이용하여 퍼니스에서 53$0^{\circ}C$에서 25시간 동안 결정화 시킨 시편과 이후 80$0^{\circ}C$에서 40분간 추가 고온 열처리시킨 시편을 비교한 결과 6.09$\AA$에서 4.22$\AA$으로 개선되었음을 확인할 수 있었다. 박막내의 금속에 의한 오염을 줄이기 위해 금속의 농도를 줄인 금속용액을 결정화에 사용하였다. 이때 저농도 금속용액을 사용하여 측면결정화시킨 다결정 실리콘 박막내의 소각입계를 이루는 결정립군의 크기가 고농도 금속용액을 이용하여 측면결정화시킨 경우보다 증가함을 확인 할 수 있었다. 박막트랜지스터를 제작하여 트랜지스터의 전기적특성을 살펴보았다. 전계이동도가 80$0^{\circ}C$ 고온 열처리에 의해서 53$\textrm{cm}^2$/Vsec 에서 95$\textrm{cm}^2$/Vsec 로 상승하였는데 이는 고온열처리에 의해서 측면결정화된 다결정 실리콘내의 트랩 밀도가 2.2$\times$$10^{12}$/$\textrm{cm}^2$ 에서 1.3$\times$$10^{12}$$\textrm{cm}^2$로 감소하였기 때문이다.

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Investigation of growth-in defects distribution in Si single crystal (실리콘 단결정내의 grown-in 결함 분포에 관한 고찰)

  • 이보영;황돈하;유학도;권오종
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.8 no.4
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    • pp.539-543
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    • 1998
  • The relationship of growth-in defects such as crystal originated particles (COP), flow pattern defects(FPD), laser scattering tomography defects (LSTD) was investigated in Cz-Si single crystals which had different pulling speed during crystal growing. It is concluded that the density and radial distribution of grown-in defects is strongly dependent on the pulling speed. And as the generation areas of these grown-in defects in a wafer are identical in radial position, they can be generated from same origin during crystal growing.

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A Study on the Factors Affecting on the Pilot's Decision Making (조종사의 의사결정에 영향을 미치는 요인에 관한 연구)

  • Kim, Chil-Young
    • Journal of the Korean Society for Aviation and Aeronautics
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    • v.1
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    • pp.95-132
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    • 1993
  • 사람들은 누구나 시간과 장소를 구분하지 아니하고 의사결정을 내려야 할 상황에 처하게 된다. 특히 조종사의 경우에는 의사결정을 하여야 할 상황이 보다 시간적으로 제한되어 있고, 또 다른 어떤 경우보다 그 내용이 더 복잡하다는 특성을 가지고 있다. 특히 항공기 운항중 발생하는 조종사의 의사결정은 그 방법에 따라 결과는 아주 다른 양상으로 나타나게 되는데 합리적인 의사결정이 이루어졌다면 그 결과는 안전성과 경제성이 동시에 실현되지만 합리적으로 의사결정이 이루어지지 못하였다면 항공기 사고라는 최악의 사태로 이어지게 된다. 그러나 현실적으로는 조종사들이 사회, 문화적 특성과 개인적인 태도 및 성격에 따라 집단내 구성원들의 의사를 종합하여 의사결정을 얻지 못하고 경우에 따라서는 기장 개인의 능력에 따라 의사결정이 이루어지고 있는 실정이다. 이러한 점에 착안하여 본 연구에서는 조종사의 합리적인 의사결정에 영향을 미치는 요인들을 분야별로 내용을 분석하고 의사결정의 이론적 고찰을 통해 조종사의 합리적인 의사결정을 위한 방안을 제시하고자 하였다. 특히 조종사 자격 관리 및 능력개발 프로그램시 태도 변화를 위한 교육이 우선해야 한다는 것과 그리고 미국의 여러 기관에서 연구 수행한 결과를 인용하여 조종사의 태도분석방법을 소개함으로써 조종사 자신들이 직접 지니고 있는 위험한 태도 요소를 자각할 수 있도록 하였으며 이에 대한 행동상 지켜야 할 원칙을 제시하여 자신이 의사결정을 해야하는 경우 적용할 수 있도록 하였다. 앞으로 이와 관련하는 지속적인 연구를 함으로서 합리적인 의사결정을 위한 요인들의 상관관계를 분석하고 항공기 운항분야중에서 부분적이나마 정형적인 의사결정모델이 개발될 때 항공기 안전운항에 크게 기여할 것으로 기대된다.

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The influence of mechanical damage on the formation of the structural defects on the silicon surface during oxidation (규소 결정 표면의 구조 결함의 형성에 미치는 기계적 손상의 영향)

  • Kim, Dae-Il;Kim, Jong-Bum;Kim, Young-Kwan
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.15 no.2
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    • pp.45-50
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    • 2005
  • During oxidation process, several type of defects are formed on the surface of the silicon crystal which was damaged mechanically before oxidation. As the size of abrasive particle increases multiple dislocation loops are produced favorably over oxidation-induced stacking faults, which are dominantly produced when ground with finer abrasive particle. These defects are not related with the crystal growth process like Czochralski or directional solidification. During directional solidification process, twins and stacking faults are the two major defects observed in the bulk of the silicon crystal. On the other hand, slip dislocations produced by the thermal stress are not observed. Thus, not only in single crystalline silicon crystal but also in multi-crystalline silicon, extrinsic gettering process with programmed production of surface defects might be highly applicable to silicon wafers for purification.

Solid phase crystallization of LPCVD amorphous Si films using $AlCl_3$ and $NiCl_2$ atmosphere ($AlCl_3$$NiCl_2$ 화합물 분위기를 이용한 LPCVD 비정질 실리콘 박막의 고상결정화)

  • 엄지혜;안병태
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2003.11a
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    • pp.61-61
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    • 2003
  • 다결정 실리콘 박막은 박막 트랜지스터와 실리콘 태양전지등에 응용되며, 비정질 실리콘을 재결정화 하여 얻어지는 다결정 실리콘 박막이 주로 이용되고 있다. 비정질 실리콘 박막을 금속 원소와 접촉시킨 상태에서 열처리할 경우 결정화 온도가 낮아지고 결정화에 필요한 열처리 시간이 짧아지게 된다. 금속을 실리콘 박막 표면에 가하는 방법은 진공증착법등으로 비정질 실리콘 박막 위에 금속원소 층을 형성하는 방법이 주로 이용되었다. 본 연구에서는 AlCl$_3$와 NiCl$_2$ 금속화합물 분위기에서 LPCVD 비정질 실리콘 박막을 열처리하여 결정화 거동을 관찰하였다. 금속화합물과 결정화할 비정질 실리콘 박막을 각각 다른 온도로 가열해 줄 수 있는 노를 이용하여 열처리를 시행하였다. AlCl$_3$와 NiCl$_2$ 분말을 혼합하여 소스로 이용한 경우 48$0^{\circ}C$ 5시간 열처리로 결정화가 완료되었으며, 박막 전체에 걸친 균일도와 재현성이 우수하였다. AlCl$_3$와 NiCl$_2$를 이용한 결정화 초기 상태에는 박막 전면에 걸쳐 등근 형태의 결정립이 균일한 핵 생성으로 나타났다. 이와 같은 결과는 Al과 Ni이 고상결정화에 동시에 작용하면서 나타난 것으로, Al이 가해진 비정질 실리콘으로 인해 결정화 속도가 빨라지고 결함이 작은 결정립을 얻을 수 있었으며, Ni로 인해 결정화의 균일성과 재현성을 높일 수 있었다.

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Growth and defects of ZnSe crystal (ZnSe 단결정 성장과 결정결함)

  • 이성국;박성수;김준홍;한재용;이상학
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.7 no.1
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    • pp.76-80
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    • 1997
  • ZnSe single crystals were grown by seeded chemical vapor transport in $H_2$ atmosphere. The influence of the growth parameters on the crystal defect was investigated. The grown ZnSe single crystal was characterized by chemical etching, X-ray rocking curve and photoluminescenc e measurements.

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대구경 사파이어 단결정 기판의 결함 평가를 위한 X-선 토포그래피 장비 구축

  • Jeon, Hyeon-Gu;Jeong, In-Yeong;Lee, Yu-Min;Kim, Chang-Su;Park, Hyeon-Min;O, Byeong-Seong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.08a
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    • pp.238-238
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    • 2013
  • 사파이어 단결정은 광학 투명도, 물리적 강도, 충격 저항, 마모 부식, 높은 압력 및 온도 내구성, 생체 호환성 등 다양한 특성을 가지고 있어 다양한 분야에서 사용되고 있으며, 특히 최근에는 백색 또는 청색 LED 소자 분야에서 기판으로 주로 활용되고 있다. 이러한 사파이어 단결정 기판은 공정에서 결정 성장 조건 및 기계적 연마 등의 다양한 요인으로 결정학적 결함이 발생한다. 이러한 결정학적 결함을 제어함으로서 좋은 품질의 단결정 기판을 생산할 수 있다. 이에 따라 각종 결함 제어를 위해서 X-선, EPD, 레이저 편광법 등 다양한 방법으로 결함들을 측정하고 있다. 그 중에서도 X-선 토포그래피는 시료를 비파괴적인 방법으로 단결정의 결함 밀도와 유형 등을 파악하는데 매우 유용한 측정법이며, Lang 토포그래피로 대표되는 X-선 회절 투과법은 기판과 같은 대구경의 시료를 우수한 분해능으로 내부 결함까지 관찰할 수 있는 장점을 지니고 있다. 본 연구에서는 대구경 사파이어 단결정 기판에 내재하는 결정 결함을 확인 및 분석하기 위해 X-선 Lang 토포그래피(X-ray Lang Topography) 장비를 구축하였다. 그리고 4, 6인치 c-면 사파이어 단결정 기판의 (110), (102) 회절면의 X-선 토포그래피 측정을 통해 전위(dislocation), 스크래치(scratch), 표면데미지(surface damage), 트윈(twin), 잔류 응력(strain) 등의 결함의 유형을 식별 및 분석하였으며, 각각의 결함들의 토포그래피 이미지 형성 메커니즘에 대해 분석하였다. 이를 통해 X-선 Lang 토포그래피(X-ray Lang Topography) 장비가 대구경 사파이어 단결정 기판의 결정 결함 평가에 폭넓은 활용이 가능할 것으로 예상된다.

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The far-field characteristics of the dipole mode laser in the two dimensional single cell photonic crystal (2차원 단일 결함 광결정에서 이중 극자 모드 레이저의 먼 장 특성)

  • 김선경;김세헌;김국현;이용희
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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    • 2003.07a
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    • pp.238-239
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    • 2003
  • 2차원 슬랩 형태의 단일 결함 레이저는 낮은 발진 문턱값과 작은 모드 부피로 인해 문턱 없는 레이저의 동작 가능성, 광자 집적 회로에서의 광원 소자 등으로 각광을 받고 있다. 광결정은 결정 구조에 따라 삼각격자와 사각격자로 나눌 수 있는데, 특히 삼각격자의 경우 사각격자에 비해 밴드갭이 보다 넓은 주파수 영역에 걸쳐 나타나므로, 공진기와 도파로서의 응용에 더 적합한 소재로 연구되고 있다. 2차원 삼각구조 단일 결함 광결정은 60$^{\circ}$회전에 대하여 대칭성을 가지므로, 군론에 따라 기본적으로 60$^{\circ}$,120$^{\circ}$,180$^{\circ}$,360$^{\circ}$의 회전 대칭성을 가지고 있는 네 종류의 모드가 존재한다. (중략)

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The crystal structure and dielectric properties of Polyethylene exposed Radiation (방사선이 조사된 폴리에틸렌의 결정형상과 유전특성)

  • Kang, J.H.;Kim, H.J.;Yu, K.M.;Han, S.O.;Kim, J.S.;Park, K.S.
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2001.07c
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    • pp.1503-1505
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    • 2001
  • 방사선이 폴리에틸렌 박막의 결정구조에 미치는 영향은 결정구조의 전 영역에서 결정 격자의 결함으로 나타났으며, 이는 탄탄한 연결고리를 형성하고 있는 분자쇄의 단절로 인하여 결정 내부 및 표면에서 화학작용에 의한 기포가 발생한 것으로 판단된다. 또한, 방사선량의 증가에 따라서 그 결함은 비례적으로 증가하였으며, 주파수에 따른 유전특성 고찰결과는 10 MHz 이상의 범위에서 유전율이 급격히 증가하였다.

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