• 제목/요약/키워드: 감광기술

검색결과 84건 처리시간 0.027초

감광제/광촉매에 의한 공기오염물질 제거 (Removal of Air Pollutants Using Photosensitizers/Photocatalysts)

  • 박주형;안기창;이재구
    • 한국환경농학회지
    • /
    • 제19권4호
    • /
    • pp.284-293
    • /
    • 2000
  • 일반 주거환경 또는 재배시설 내의 공기오염물질인 농약 및 병원성 미생물을 인위적으로 제거하기 위해서 자연광 또는 인공광조건하에서 몇몇 감광제 (PS)/광촉매 (PC)에 의한 광분해 촉진효과와 미생물의 살균효과 시험을 수행하였다. 광촉매로는 반도체 물질인 PC-1과 PC-2, 그리고 산화제로 사용되는 PC-3, PC-4, PC-5 및 PC-6과 감광제로 PS-7과 PS-8을 선발하였다. Dichlorvos의 경우에는 자연광과 인공광 조건하에서 광촉매 무처리구에 비해 각각의 광촉매가 처리된 모든 처리구에서 4배 이상의 광분해 촉진효과를 보였고, methyl tert-butyl ether의 경우에는 단지 광촉매 PC-1 처리구만이 광촉매 무처리구에 비해 약 17배 이상의 분해 촉진효과를 보였다. 또한 procymidone의 경우에도 PC-1, PC-6 및 PS-8에 의한 광분해가 약 3배 이상 촉진되었다. 공기 중의 미생물을 제거하기 위한 예비시험에서는 Pseudomonas putida, Phytophthora capsici 및 Salmonella typhimurium 현탁액에 각각 광촉매 PC-1을 첨가하고 인공광을 조사함으로서 미생물의 생육이 저해됨을 확인할 수 있었다. 또한 평판배지에 도말된 Salmonella typhimurium은 광촉매 PC-1의 주변에서 미생물 생육이 저해됨을 보였다. 이상의 결과에서 볼 때 광조건 하에서 감광제/광촉매를 이용한 고등산화기술은 농약을 비롯한 여러 환경 오염물질을 제거하여 재배시설 내의 작업자와 일반 대중의 환경오염원에 대한 노출을 예방할 수 있을 것으로 기대된다.

  • PDF

SIMS, XPS, AFM을 이용한 LCD blue color filter의 고분자 표면 연구 (Characterization of polymer surface of LCD blue color filters using SIMS, XPS and AFM)

  • 김승희;김태형;이상호;이종완
    • 한국진공학회지
    • /
    • 제6권4호
    • /
    • pp.321-325
    • /
    • 1997
  • LCD용 칼라 필터를 제작하는 방법으로 감광성 고분자(photosensitive polymer)에 광 리소그라피(photolithography)기술이 많이 이용되어지고 있다. 이로 인해 감광성 고분자 표 면의 물리적, 화학적 성질이 변하게 되는데, 이는 후속 공정인 플라즈마 식각이나 ITO 전극 의 증착 등에도 많은 영향을 주므로, 각 공정에 따른 이들 고분자의 표면 연구는 매우 중요 하다. 본 논문에서는 blue 칼라 필터의 고분자 표면에 대한 연구를 SIMS와 XPS를 이용하 여 수행하였으며, 표면의 거칠기 변화를 AFM을 통해 관찰하였다. SIMS와 XPS결과로부터 초기 공정인 blue 칼라 필터를 스핀 코팅하고 pre bake한 상태에서는 주로 칼라 필터의 주 성분인 단량체와 결합제의 고분자 물질이 표면에 드러나 있다가, 노광 과정을 거치고 post bake한 시료에서는 색깔을 내는 안료 성분이 표면에 드러남을 확인하였고, AFM을 통해서 는 post bake후에 표면에 더 거칠어 짐을 관찰하였다.

  • PDF

실리콘 트랜치 구조 형성용 유전체 평탄화 공정 (Dielectric Layer Planarization Process for Silicon Trench Structure)

  • 조일환;서동선
    • 전기전자학회논문지
    • /
    • 제19권1호
    • /
    • pp.41-44
    • /
    • 2015
  • 소자의 집적화에 필수적인 소자 분리공정에서 화학약품의 오염 문제등을 발생시키는 화학적 기계연마기술(CMP) 공정을 사용하지 않고 벌크 finFET(fin field effect transistor) 의 트랜치 구조를 형성할 수 있는 공정에 대하여 제안하였다. 사진 감광막 도포시 발생하는 두께차이와 희생층으로 사용되는 실리콘 질화막을 사용하면 에칭 공정만을 사용하여 상대적으로 표면 위로 돌출된 부분의 실리콘 산화막 층을 에칭하는 것은 물론 finFET 의 채널로 사용되는 실리콘 트랜치 구조를 한번에 형성할 수 있는 특징을 갖는다. 본 연구에서는 AZ1512 사진 감광막을 사용하여 50 나노미터급 실리콘 트랜치 구조를 형성하는 공정을 수행하였으며 그 결과를 소개한다.

저온동시소성용 감광성 은(Ag)페이스트의 광식각 특성 (Photolithographic Properties of Photosensitive Ag Paste for Low Temperature Cofiring)

  • Park, Seong-Dae;Kang, Na-Min;Lim, Jin-Kyu;Kim, Dong-Kook;Kang, Nam-Kee;Park, Jong-Chul
    • 한국세라믹학회지
    • /
    • 제41권4호
    • /
    • pp.313-322
    • /
    • 2004
  • 후막 광식각 기술은 스크린 인쇄 등의 일반적인 후막공정에 노광 및 현상 등의 리소그라피 공정을 접목시킨 새로운 기술이다. 본 연구에서는 후막 광식각 기술을 이용하여 미세라인을 형성할 수 있는 저온동시소성용 Ag 페이스트를 개발하였다. 페이스트를 구성하는 Ag분말과 폴리머, 모노머, 광개시제 등의 양을 조절하여 미세라인을 형성할 수 있는 최적 조성을 연구하였으며. 또한 노광량과 같은 공정변수가 미세라인 형성에 미치는 영향을 연구하였다. 실험결과 폴리머/모노머비, Ag 분말 중량비, 광개시제의 양 등이 미세라인의 해상도에 영향을 미치는 주요 인자임을 확인할 수 있었다. 개발된 감광성 Ag 페이스트를 저온동시소성용 그린 시트에 전면 인쇄한 후 건조, 노광, 현상, 적층, 소성 과정을 통하여, 소성 후 20$\mu\textrm{m}$ 이하의 선폭을 가지는 후막 미세라인을 형성할 수 있었다.

인쇄기법을 이용한 보안필름의 제조

  • 윤성만;유종수;조정대;김광영;강정식
    • 기계와재료
    • /
    • 제22권3호
    • /
    • pp.14-21
    • /
    • 2010
  • 디스플레이의 기술 발달에 따라 전자소재용 기능성 필름이 각광받고 있다. 용도에 따라 제작 방법도 다양하고 생산 방식에도 차이가 있지만, 제조 기간이나 비용이 많이 소모되어 절감하려는 노력이 필요하다. 보안필름은 기능성 필름의 한 종류로서, 제조 방법에는 여러 가지가 있을 수 있으나 저가의 대량생산을 위해 최근에는 인쇄기법을 이용해 보안필름의 원리에 부합하는 필름을 제조하려는 시도가 이루어지고 있다. 따라서 본 원고에서는 인쇄기법 기반으로 안료 및 감광필름을 이용해 보안필름을 제조한 경우를 통하여 새로운 보안필름 제조방법에 대해 접근 하고자 한다.

  • PDF

StereoLithography의 조형정보 생성에 관한 연구

  • 홍삼열;김준안;김인훈;양남열;이원정
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국정밀공학회 1995년도 춘계학술대회 논문집
    • /
    • pp.440-444
    • /
    • 1995
  • StereoLithography는 3차원 CAD로 작성된 모델데이타를 이용하여입체조형 실물을 빠르게 제작 하는 Rapid Prototype 기술의 한 방식으로서, 감광성 수지를 자외선 Laser 광에 의해 선택적으 로 경회시켜 원하는 한 단면형상을 이룬후 적층하는 반복작업에 의해 입체 형상을 조형하는 기법 이다. Rapid Prototype 시스템은 제품개발기간 단축과 설계완성도를 높이는 목적으로 최근 산업계에서 그 활용도가 점차 증가하는 추세에 있으며, 3차원 CAD 시스템과 함께 제품개발 체제를 통합화하고 Concurrent Engineering의 실현을 위한 주요한 Tool로써 자리를 잡아가고 있다.

  • PDF

유-무기 하이브리드 하드마스크 소재의 합성 및 식각 특성에 관한 연구 (Synthesis and Etch Characteristics of Organic-Inorganic Hybrid Hard-Mask Materials)

  • 유제정;황석호;김상범
    • 한국산학기술학회논문지
    • /
    • 제12권4호
    • /
    • pp.1993-1998
    • /
    • 2011
  • 반도체 산업은 지속적으로 비약적인 발전을 이루어내면서 점점 고집적회로를 제작하기 위하여 패턴의 미세화가 이루어지게 되었다. 현재 미세 나노패턴의 형성을 위하여 여러층의 하드마스크가 사용되고 있으며, 화학증기증착(CVD)공정을 이용하여 형성한다. 이에 본 연구에서는 스핀공정(spin-on process)이 가능한 유-무기 하이브리드 중합체를 이용한 단일층의 하드마스크를 제작하였는데, 하드마스크 내의 무기계 성분이 감광층 보다 쉽게 식각되는 반면에 하드마스크의 유기계 성분으로 인해 substrate층 보다 덜 식각되었다. 유-무기 하이브리드 중합체를 이용한 하드마스크막의 광학 및 표면 특성을 조사하였고, 감광층과 하드마스크막의 식각비를 비교하여 유-무기소재의 하이브리드중합체에 대한 미세패턴을 형성시킬 수 있는 하드마스크막으로써의 유용성을 확인하였다.

Epoxy resin을 이용한 cyclic moiety가 포함된 고내열 감광성 prepolymer의 합성 및 특성연구 (Synthesis and characterization of photoreactive prepolymers bearing cyclic moiety)

  • 이성범;이명섭;임현순;강태수;김환건;이준영
    • 한국섬유공학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국섬유공학회 2003년도 봄 학술발표회 논문집
    • /
    • pp.44-47
    • /
    • 2003
  • 21C 고도정보화 시대를 맞이하여 평판표시소자에 대한 요구가 급증하여 현재는 액정표시소자 (Liquid Crystal Display, LCD)가 가장 널리 사용되고 있는데, 특히 해상도가 우수한 TFT(Thin Film Transistor)-LCD에 대한 수요가 급증하고 있다. Full color TFT-LCD를 구성하는 재료 중 가장 높은 비중을 차지하고 있는 것이 color filter이며, 이것을 제조하는 데 있어 가장 중요한 기술은 화소 형성기술이다. 특히 가격은 고가이지만 해상성이 뛰어난 TFT-LCD에 주로 사용되는 안료분산법은 신뢰성, 특히 내열성 및 공정의 복잡성 등 문제점을 가지고 있다[1]. (중략)

  • PDF

고품질 화상형성을 위한 도전성 탄성체 롤러의 개발 (Development of Conductive elastomer Roller for Image Forming High-Quality)

  • 전호익;조현섭
    • 한국산학기술학회논문지
    • /
    • 제11권10호
    • /
    • pp.3923-3927
    • /
    • 2010
  • 대전롤러는 감광체의 표면과 접촉된 상태로 회전하면서 드럼 표면을 대전시켜야 하므로 접촉이 잘 되도록 적당한 도전성을 갖는 탄성체로 만들어 진다. 또한 그 롤러 표면은 코팅을 하게 되는데 코팅제의 종류나 코팅 방식에 따라서 대전특성이나 화상특성이 달라지고, 또한 환경의 변화에 따라 화상특성이 달라진다. 본 연구에서는 고품질의 화상형성을 얻을 수 있는 대전 롤러의 제조를 위하여 적합한 도전성 탄성체 롤러를 개발하였다.

LBP 감광드럼의 표면전위 특성에 관한 연구 (A Study on the Characteristics for Surface Potential of Photoconductive Drum in LBP)

  • 조현섭;유인호
    • 한국산학기술학회논문지
    • /
    • 제11권10호
    • /
    • pp.3893-3897
    • /
    • 2010
  • LBP 현상기 롤러는 시간이 지나면 자기력과 자화 특성이 감소하게 되며 이런 자성체 감소로 인해 인쇄 품질이 떨어진다. 본 연구에서는 재활용에 따른 현상기 롤러의 자성 분포를 조사하여 신제품과 비교함으로써 재활용의 사용 가능성 및 자성체의 경시 변화에 대해 제한하였다.