Vanadium dioxide(VO2) has been reported to be the most attractive material for thermochromic windows due to its semiconductor-metal phase transition at around $68^{\circ}C$. However, our previous experiment showed it is difficult to grow VO2 thin films directly on glass substrate, whereas thermochromic VO2 thin films were successfully grown on R-cut sapphire substrate. Properties of VO2 thin films on different orientations of sapphire substrates were already reported. Furthermore, VO2 thin films were successfully grown heteroepitaxially on (001) preferred oriented ZnO coated glass. We deposited VO2 thin films using V2O5 targets on substrates with various lattice parameters with same orientation(SrTiO3, MgO, and Sapphire substrate of (001) orientation) by pulsed laser deposition. In this work, we will discuss the effects of lattice misfit, substrate-induced stress and grain size on the properties of VO2 thin films deposited on various substrate materials.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.466.2-466.2
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2014
The Quantum dot (QD) solar cells have been under active research due to their high light harvesting efficiencies and low fabrication cost. In spite of these advantages, there have been some problems on the charge collection due to the limitation of the diffusion length. The modification of advanced nanostructure is capable of solving the charge collection problem by increasing diffusion length of electron. One dimensional nanomaterials such as nanorods, nanowires, and nanotubes may enhance charge collection efficiency in QD solar cells. In this study, we synthesized $TiO_2$ anatase nanorod arrays with length of 200 nm by two-step sol-gel method. The morphology and crystal structure for the nanorod were characterized by using scanning electron microscopy (SEM), transmission electron microscopy (TEM), and X-ray diffraction (XRD). The anatase nanorods are single-crystalline and possess preferred orientation along with (001) direction. The photovoltaic properties for the heterojunction structure QD solar cells based on the anatase nanorod were also characterized. Compared with conventional $TiO_2$ nanoparticle based QD solar cells, these nanostructure solar cells exhibited better charge collection properties due to long life time measured by transient open circuit studies. Our findings demonstrate that the single crystalline anatase nanorod arrays are promising charge transport semiconductors for heterojunction QD solar cells.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.29
no.1
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pp.1-5
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2019
The physical properties of ceramic materials including oxides are greatly influenced by the material density. Therefore, various efforts have been made to increase the material density. One of the most popular strategies is to use sintering additives in sintering materials. The conventional sintering additive was a spherical powder having a three-dimensional structure. In this study, sintering additive with 2-dimensional (2D) layer structure was used to increase the sintering density of cerium oxide and its effect was confirmed. In this study, 1 nm-thick $TiO_x$ and $MnO_x$ nanosheets were used as sintering additives.
Lead-free compound $(Na_{0.5}Bi_{0.5})(Zr_{0.75}Ti_{0.25})O_3$ was prepared using conventional ceramic technique at $1070^{\circ}C$/4h in air atmosphere. X-ray diffraction analysis showed the formation of single-phase orthorhombic structure. Permittivity data showed low temperature coefficient of capacitance ($T_{CC}{\approx}5%$) up to $100^{\circ}C$. Complex impedance studies indicated the presence of grain boundary effect, non-Debye type dielectric relaxation and evidences of a negative temperature coefficient of resistance. The ac conductivity data were used to evaluate the density of states at Fermi level and apparent activation energy of the compound.
Kim, Geunho;Shin, Dongkyun;Lee, Dong-Ju;Kim, Eundo
Journal of the Korea Convergence Society
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v.11
no.10
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pp.1-7
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2020
The manufacturing process of the resistive variable memory device, which is the based of neuromorphic device, maintained the continuity of vacuum process and applied plasma module suitable for the production of the ReRAM(resistive random access memory) and process technology for the neuromorphic computing, which ensures high integrated and high reliability. The ReRAM device of the oxide thin-film applied to the plasma module was fabricated, and research to improve the properties of the device was conducted through various experiments through changes in materials and process methods. ReRAM device based on TiO2/TiOx of oxide thin-film using plasma module was completed. Crystallinity measured by XRD rutile, HRS:LRS current value is 2.99 × 103 ratio or higher, driving voltage was measured using a semiconductor parameter, and it was confirmed that it can be driven at low voltage of 0.3 V or less. It was possible to fabricate a neuromorphic ReRAM device using oxygen gas in a previously developed plasma module, and TiOx thin-films were deposited to confirm performance.
Lanthanum aluminate($LaAlO_3$) film has been prepared on single crystal and metal substrates by dip coating method. Lanthanum acetate and aluminum were prepared via ligand exchange starting from lanthanum nitrate hexahydrate and aluminum nitrate hexahydrate in acetate glacial acetic acid solution after being refluxed. Coating solution was obtained by diluting the gel with methanol and 2-methoxyethanol to adjust the total cation concentration to 0.67 M. Precursor coated film was prepared by dip-coating with a speed of 25 mm/min on various substrates such as $LaAlO_3$ (001), MgO(001), $SrTiO_3$(001) single crystal, LMO/MgO/Ni-alloy. Thin films have been obtained by heat treating the precursor film at various temperatures from $600^{\circ}C{\sim}900^{\circ}C$ and various heating rate from $0.83^{\circ}C/min{\sim}1.25^{\circ}C/min$ under $Ar/O_2$ mixture containing 1000ppm oxygen. The films have been characterized by scanning electronic microscopy (SEM) and X-ray diffraction (XRD). XRD analysis for the prepared film showed that $LaAlO_3$ thin films with a preferred orientation of (100) plane parallel to substrate surface were obtained at $800^{\circ}C(1.11\;^{\circ}C/min)$ on LMO/MgO/Ni-alloy substrate, but the intensity decreased with the increase of heat treatment temperature.
Takeyasua, K.;Fukadaa, K.;Oguraa, S.;Matsumotob, M.;Fukutania, K.
Applied Science and Convergence Technology
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v.23
no.5
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pp.201-210
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2014
The influence of electron irradiation and hydrogen adsorption on the electronic structure of the $SrTiO_3$ (001) surface was investigated by ultraviolet photoemission spectroscopy (UPS). Upon electron irradiation of the surface, UPS revealed an electronic state within the band gap (in-gap state: IGS) with the surface kept at $1{\times}1$. This is considered to originate from oxygen vacancies at the topmost surface formed by electron-stimulated desorption of oxygen. Electron irradiation also caused a downward shift of the valence band maximum indicating downward band-bending and formation of a conductive layer on the surface. With oxygen dosage on the electron-irradiated surface, on the other hand, the IGS intensity was decreased along with upward band-bending, which points to disappearance of the conductive layer. The results indicate that electron irradiation and oxygen dosage allow us to control the surface electronic structure between semiconducting (nearly-vacancy free: NVF) and metallic (oxygen de cient: OD) regimes by changing the density of the oxygen vacancy. When the NVF surface was exposed to atomic hydrogen, in-gap states were induced along with downward band bending. The hydrogen saturation coverage was evaluated to be $3.1{\pm}0.8{\times}10^{14}cm^{-2}$ with nuclear reaction analysis. From the IGS intensity and H coverage, we argue that H is positively charged as $H^{{\sim}0:3+}$ on the NVF surface. On the OD surface, on the other hand, the IGS intensity due to oxygen vacancies was found to decrease to half the initial value with molecular hydrogen dosage. H is expected to be negatively charged as $H^-$ on the OD surface by occupying the oxygen vacancy site.
The domain structures of annealed (001)-oriented $Pb(Mg_{1/3}Nb_{2/3})O_3-x%PbTiO_3$ (PMN-x%PT) crystals for x = 10, 20, 30, 35, and 40 at% were investigated by Polarized Optical Microscopy (POM) and Scanning Force Microscopy (SFM) in the piezoresponse mode. Both Polar Nano-Domains (PND) and long strip-like domains were clearly observed. The results also showed how the domain structure changed between phases with an increasing x in the PMN-x%PT crystals and the domain hierarchy on various length scales ranging from 40 nm to 0.1 mm. Distorted pseudo-cubic phase (x < 20%) consisted of PNDs that did not self-assemble into macro-domain plates. The rhombohedral phase (x = 30%) consisted of PNDs that began to self-assemble into colonies along preferred {110} planes. The monoclinic phase (x = 35%) consisted of miniature polar domains on the nm scale, whereas, the tetragonal phase (x = 40%) consisted of {001} oriented lamella domains on the mm scale that had internal nano-scale heterogeneities, which self-assembled into macro-domain plates oriented along {001} the mm scale.
Electric field-induced phase transition from the tetragonal to rhombohedral phase was investigated for the <111> direction in tetragonal PZN-PT single crystals, which have spontaneous polarization along the <001> direction. From the strain and dielectric data, it was confirmed that the samples followed a tetragonal-orthorhombic-rhombohedral phase transition sequence with application of an electric field. This transition is different from the rhombohedral-tetragonal phase transition of <001> rhombohedral composition single crystals, in which a phase transition occurred without showing the intermediate orthorhombic phase.
Proceedings of the Korea Institute of Applied Superconductivity and Cryogenics Conference
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2003.10a
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pp.120-122
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2003
BaZrO$_3$and SrTiO$_3$(STO) thin films were Pulsed laser deposited on biaxially textured Ni and Ni-W alloy substrates to be used as single buffer layer for coated conductor. The texture of the films were analysed using the GADDS (general area detector diffraction system). Both films deposited on the metal tape were strongly (001) oriented, and in-plane textured (Δø (BZO) =9$^{\circ}$, Δø (STO) = 10$^{\circ}$).
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[게시일 2004년 10월 1일]
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