Ethyl hydroxy ethyl cellulose의 고분자를 중심으로 하는 유기 결합제를 사용하고 형광체로서 ZnS:Cu와 유전체로$BaTiO_3$ 사용해 screen printing법에 의해 신광원으로서 많은 연구 개발이 집중되고 있는 유기분산형 백라이트 EL(Electroluminescent) 소자를 제조하였다. 제조된 백라이트용 유기 분산형 EL 소자의 특성은 $25[^{\circ}C]$, 100[V], 400[Hz]에서 $1.98[mA/\m^2]$의 전류밀도, O.075[W]의 power consumption, 정전용량 7.l[nF]를 나타내었다. 소자의 휘도는 50~150[V] 사이에서 $20~110[cd/\m^2]$의 밝기를 나타내였으며, 형광체의 색상변화는 ClE에 공인된 색 좌표에 의해 x=0.1711, y=0.3676의 bluish green의 색상을 나타내었다.
치과보철물의 소재는 생물 화학적, 물리적 안정성을 위하여 우수한 생체친화성이 요구된다. 그래서 본 연구에서는 새로운 기술인 레이저 선택용융 가공법으로 제작된 Co-Cr합금(SC시편), Ti합금(ST시편)을 일반적으로 사용되는 주조법으로 제작된 Co-Cr합금(CC시편), Ni-Cr합금(CN시편)과 비교분석하여 기계적 특성과 생물학적 안정성 평가를 실시하였다. 기계적 특성 평가를 위하여 인장시험을 통한 탄성계수를 측정하였다. 그리고 생물학적 안정성 평가를 위하여 유사체액(lactic acid-NaCl solution)을 이용한 용출물질 분석과 용출배지를 이용한 세포독성을 관찰하였다. 그 결과 레이저 선택용융 가공법으로 제작한 Co-Cr 합금이 주조법으로 제작한 Co-Cr합금보다 탄성계수가 높게 나타났다. 그리고 용출물질 분석과 세포독성 평가에서 레이저 선택용융 가공법으로 제작한 Co-Cr합금의 생물학적 안정성이 양호한 것으로 평가되었다. 결과에 의하여 레이저 선택용융 가공법으로 제작한 합금이 치과보철물 제작을 위한 합금으로 적용할 수 있는 것으로 판단된다.
All-solid-state solar cell based on Chloride doped organometallic halide perovskite, (CH3NH3)PbIxCl3-x, has achieved a highly power conversion efficiency (PCE) to over 15% [1] and further improvements are expected up to 20% [2]. In this way, solar cells using novel light absorbing perovskite material are actively being studied as a next generation solar cells. However, making solution-process require high temperature up to $500^{\circ}C$ to form compact hole blocking layer and sinter the mesoporous oxide scaffold layer. Because of this high temperature process, fabrication of flexible solar cells on plastic substrate is still troubleshooting. In this study, we fabricated highly efficient flexible perovskite solar cells with PCE in excess of 11%. Atomic layer deposition (ALD) is used to deposit dense $TiO_2$ as hole blocking layer on ITO/PEN substrate. The all fabrication process is done at low temperature below $150^{\circ}C$. This work shows that one of the important blueprint for commercial use of perovskite solar cells.
Electron transfer through an Langmuir-Blodgett(LB) monolayer film sandwiched between metal electrodes. We used an eicosanoic acid material and the material was very famous as a thin film insulating material. Eicosanoic acid monolayer was deposited by Langmuir-Blodgett(LB) technique and a subphase was a $CdCl_2$ solution as a 2${\times}10^{-4}$ mol/L. Also we used a bottom electrode as an Al/$Al_2O_3$ and a top electrode as a Al and Ti/Al. Here, the $Al_2O_3$ on the bottom electrode was deposited by thermal evaporation method. The $Al_2O_3$ layer was acted on a tunneling barrier and insulating layer in tunnel diode. It was found that the proper transfer surface pressure for film deposition was 25 mN/m and the limiting area per molecule was about 24 ${\AA}^2$/molecule. When the positive and negative bias applied to the molecular device, the behavior shows that a tunnel switching characteristics. This result were analyzed regarding various mechanisms.
A non-thermal plasma process combined with $Cr_2O_3/TiO_2$ catalyst was applied to the decomposition of trichloroethylene (TCE). A dielectric barrier discharge reactor operated with AC high voltage was used as the non-thermal plasma reactor. The effects of reaction temperature and input power on the decomposition of TCE and the formation of byproducts including HCl, $Cl_2$, CO, NO, $NO_2$ and $O_3$ were examined. At an identical input power, the increase in the reaction temperature from 373 K to 473 K decreased the decomposition of TCE in the plasma reactor. The presence of the catalyst downstream the plasma reactor not only enhanced the decomposition of TCE but also affected the distribution of byproducts, significantly. However, synergistic effect as a result of the combination of non-thermal plasma with catalyst was not observed, i.e., the TCE decomposition efficiency in this plasma-catalyst combination system was almost similar to the sum of those obtained with each process.
TFT-LCD 제조공정의 발전에 따라, 박막층(a-Si, SiNx, gate 전극, ITO 등)에 대한 습식공정을 대치하는 건식식각이 선호되고 있다. scan signal의 전파지연시간을 단축시키는 장점을 갖는 Al gate 전극의 건식식각의 경우, 높은 식각속도와 slope angle의 조절, 그리고 식각균일도가 요구된다. 이러한 Al gate 전극물질로는 Al에 Ti이나 Nd와 같은 금속을 첨가하여 post annealing 동안에 발생하는 hillock을 방지하고 더불어 낮은 resistivity(<10$\mu$$\Omega$cm)와 열과 부식에 대한 높은 저항성을 얻을 수 있다. 그러나 Al-Nd alloy 박막은 식각속도와 photoresist에 대한 식각선택도가 낮아 문제로 지적되고 있다. 본 실험에서는 고밀도 플라즈마원의 일종인 자화된 고밀도 유도결합형 플라즈마를 이용하여 식각가스 조합, inductive power, bias voltage 그리고 공정압력 등의 다양한 공정변수에 따른 Al-Nd film의 기본적인 식각특성 변화를 관찰하였다. 식각시 chloring gas를 주요 식각가스로 사용하고 BCl, HBr 등을 10mTorr의 일정한 압력을 유지하는 조건하에서 첨가하였으며 inductive power는 5100W~800W, bias voltage는 -50V~-200V까지 변화를 주었다. 식각공정의 전후를 통하여 Al-Nd 박막표면의 조성변화를 관찰하기 위하여 X-ray photoelectron spectroscopy(XPS)를 이용하였으며 공정변수에 따른 식각후 profile 관찰은 scanning electron microscopy(SEM)을 통하여 관찰하였다. Al-Nd 식각속도는 100% Cl2 플라즈마에 비해 BCl3의 양이 증가할수록 증가하였으며 75%의 BCl3 gas를 첨가하였을 때 가장 높은 식각속도를 얻을 수 있었다. 또한 SEM을 이용한 표면분석으로 roughness가 감소된 공정조건을 찾을 수 있었다.
We present details of experimental results in the fabrication of high density line patterns, using imprint technique that can provide a simple and comparatively cost-effective manufacturing means. Barrier array structures for display or interconnects for semiconductor applications were the aims of this study. For pattern fabrication, a polymer layer (Ajinomoto GX-13 dielectric film) with a thickness of 38um that can act as either an insulating or a dielectric layer was laminated on a substrate. Fine tracks were then formed using a patterned stamp under isostatic pressure. The line width was ranged between 10 to 60 mm. A self-assembled monolayer (SAM) of fluorinated alkylchlorosilane [$CF_3(CF_2)5(CH_2)2SiCl_3$] as an anti-sticking layer was coated on the surface of the stamp prior to thermal imprint to improve the de-molding characteristic.
The SrS:Cu, Ag thin film electroluminescient devices were fabricated on $AlTiO_3$/ITO/glass substrates by electron-beam evaporation. The emission spectrum of the device was about 460 nm with $\chi$=0.20, y=0.29 in the CIE color coordinator. It was found that the emission spectrum was saturated to pure blue color when Ag sensitizer was doped in SrS:CuCl phosphors. The luminance of the device was increased by increasing the sulfur pressure. The measured luminance was saturated with 430 cd/$m^2$at the applied voltage of 90 V and the maximum luminance was 580 cd/$m^2$at 110V. The polarization charge and conduction charge of the devices were found to be found to be about $3.5\mu$C/$\textrm{cm}^2$ and $7.4\mu$C/$\textrm{cm}^2$, respectively.
The synthesis of well-defined poly(styrene-b-isobutylene-b-styrene) (SIBS) triblock copolymers was accomplished by cationic sequential block copolymerization of isobutylene (IB) with styrene (St) using 1,4-di(2-chloro-2-propyl) benzene (DCC) /$TiCl_4$/2,6-di-tert-butylpyridine(DtBP) as an initiating system in methyl chloride ($CH_3Cl$)/methylcyclohexane(MeChx) (50/50 v/v) solvent mixture at $-80^{\circ}C$. The triblock copolymers exhibited excellent thermoplastic and elastomeric characteristics. Tensile strengths and Shore hardness increased with increasing polystyrene (PS) content, while elongation at break decreased. The blood-compatibility of SIBS was assessed by SEM observation of the platelet adhesion, blood clotting time and haemolysis ratio. The haemolysis ratios were below 5% which met the medical materials standard. The platelet adhesion test further indicated that SIBS block copolymers had a good blood compatibility.
The demand for powder-coated steel used in the marine industry is increasing owing to their superior corrosion resistance. However, the powder coatings used in commercial products can deteriorate easily by the penetration of brine. In an attempt to suppress brine penetration into the powder coating and significantly increase the corrosion resistance, three types of oxide particles were added to the coating. Electrochemical impedance spectroscopy tests in 3.5% NaCl solution were performed to evaluate the corrosion behaviors of the powder coating with oxide particles. The results showed that the addition of SiO2 particles to a powder coating severely decreased the corrosion resistance due to the easy detachment of agglomerated SiO2 particles with a coarse size from the coating layer. In contrast, the TiO2 and SnO2-added coatings showed better corrosion resistance, and the TiO2-added coating performed best in the test conducted at room temperature. However, conflicting results were obtained from tests conducted at a higher temperature, which may be attributed to the effective suppression of brine penetration by the fine SnO2 particles uniformly distributed in the coating.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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