• Nuclear Engineering and Technology
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• 제56권1호
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• pp.247-256
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• 2024

The glass series modified by tungsten oxide was created using the compounds (75-x) B₂O₃- 10SrCO₃- 8TeO₂- 7ZnO - xWO₃, where x = 0, 1, 5, 10, 22, 27, 34, and 40% mole percentage. A UV-visible spectrophotometer and thermogravimetric-differential thermal analysis (TG-DTA) methods were employed to characterize the specimen's optical and phase transition attributes, respectively. The mass-attenuation coefficient (AC) of all created glasses from BSTZW0 to BSTZ7 was estimated using Geant4 code from 0.05 to 3 MeV and compared to the XCOM software results, with a relative difference of less than 2% between the two results. The increase of WO₃ percentage lead to an increase in the Linear-AC at each studied energy, and this is mainly due to the fact that the higher the percentage of WO₃ in the glass increases its density which causes an increase in the Linear-AC, so an energy of 0.06 MeV, as an example, the values of the Linear-AC was 4.009, 4.509, 5.442, 6812, 8.564, 9.856, 10.999 and 11.628 cm^-1 form BSTZW0 too BSTZW7, respectively. The Half-VL (value layer), Mean-FP (free path), Tenth-VL, and Radiation attenuation performance (RAP) were also calculated for the current BSTZW-glass samples and revealed that BSTZW7 had the best gamma ray attenuation performance at all discussed energies when compared to other studied glass samples.

• Journal of Microbiology and Biotechnology
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• 제8권6호
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• pp.606-612
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• 1998

A microbial flocculant-producing gram-positive bacterium, strain TE11, was isolated from soil samples, and was identified as Bacillus subtilis by using the Midi system, the Biolog system, 16S rDNA sequence analysis, and some physiological and morphological characteristics. The maximum flocculant capsular biopolymer of TE11 strain (BCP, 4.9mg/ml) was obtained when it was grown in GA broth medium containing 3% glutamic acid, 2% glycerol, 0.5% citric acid, 0.5% $NH_4$Cl, 0.05% $MgSO_4.7H_2O,\; 0.05%\;K_2HPO_4\;,\; and\; 0.004%\; FeC1_3. 6H_2O,\; pH 7.2,\; at\; 30^{\circ}C$ for 70 h with shaking. When glycerol was used as an additional carbon source in the GA medium, TE11 produced only flocculant BCP without any by-product. The flocculant (BCP) was found to aggregate suspended kaolin and activated charcoal powder without cations, and its flocculating activity was significantly enhanced by the addition of bivalent cations such as $Ca^{2＋}.Zn^{2},\; and\; Mn^{2＋}$. The flocculation activity by addition of $Ca^{2+}$ was high in an acidic pH 4.0. In the case of $Zn^{2＋}$, high flocculating activity remained without significant loss in the broad range of pH 4.0 to 9.0.

• 대한전자공학회논문지
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• 제12권2호
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• pp.18-23
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• 1975

As-Te.Si-Ge 유리질 반도체의 직류 펀도도는 실온에서 3x10-7Ω-1cm-1∼1.5x10-8Ω-1cm-1이었고 각 시료의 온도 인화에 따른 전도특성은 상전이 온도(Tg) 이하에서 o=ooexp(-△E/kT)로 표시할 수 있었다. 또한 실온에서 각 시료의 교류 전도도의 주파수 의존도는 거의 같았으며 직류 전도도에 비해 상당치 높게 나타나서 o(w)=oo+Awn으로 표시할 수 있었다. 200KHz 경우에 교류 펀도도는 295。K∼473。K에서 온도에 무관하고 200Hz 경우에는 433。K에서 부터 심하게 증가하였다. 각 시fy는 기억스위칭 현상은 없었고 문지받스위칭 현상만 관찰할 수 있었다. The dc conductivity, ac conductivity and switching effect of As·Te-Si·Ge have beon investigated. The dc conductivity ranged from 3x10-7Ω-1cm-1∼1.5x10-8Ω-1cm-1 at room temperature and was found to be expressed by o=ooexp(-△E/kT) below the phase transition temperature Tg. The ac conductivity was much higher than dc conductivity and this result is consistent to experimental formula o(w)=oo+Awn. In the temperature range of 298。K∼147。K, the ac conductivity was independent of temperature at 200KHs. At lower frequencies the ac conductivity increased strong1y with temperature. Also, it has been found that all samples showed a threshold switching, but not a memory switching.

• 한국세라믹학회지
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• 제40권5호
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• pp.423-427
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• 2003

1.55$\mu$m 파장대 광증폭용 재료의 이득 파장대역 증대를 목적으로 Er$^{3+}$ 첨가 유리에 대해 thermal poling이 형광스펙트럼 의 반가폭(full width at half maximum)에 미치는 영향을 분석하였다. 텔루라이트 유리(TeO$_2$-ZnO)의 경우 poling후 약 6%의 형광 반가폭 증가가 관찰된 반면 다른 유리에서는 감소하거나 변화가 없었다. 이와 같은 형광스펙트럼의 변화는 알려진 바와 같이 poling으로 인해 유리내에 생성된 전하 결핍층과 이러한 결핍층에 발생하는 잔류 정전기장 때문으로 판단된다. 실리케이트 등과 같은 다른 유리와는 달리 텔루라이트 유리에서만 Er$^{3+}$ 의 형광 반가폭이 증가한 것은 유리를 구성하고 있는 TeO$_4$에 존재하는 비공유 전자쌍과 밀접하게 관련되어 있을 것으로 추측된다.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제20권10호
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• pp.846-851
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• 2007

In this work, the etching characteristics of $Ge_2Sb_2Te_5(GST)$ thin films were investigated using an inductively coupled plasma (ICP) of $Cl_2/Ar$ gas mixture. To analyze the etching mechanism, an optical emission spectroscopy (OES) and surface analysis using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) were carried out. The etch rate of the GST films decreased with decreasing Ar fraction. At the same time, high selective etch rate over $SiO_2$ films was obtained and the selectivity over photoresist films decreased with increasing the he fraction. From XPS results, we found that Te halides were formed at the etching surface and Te halides limited the etch rate of the GST films.

• 한국재료학회:학술대회논문집
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• 한국재료학회 2009년도 춘계학술발표대회
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• pp.21.1-21.1
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• 2009

상변화 메모리는 비휘발성 메모리이면서 빠른 동작 속도, 낮은 동작 전압 등 다양한 장점을 지니고 있어 차세대 메모리로 주목 받고 있다. 최근 상변화 메모리의 동작 전류를 감소시키기 위해 상변화 물질 및 전극 물질에 대한 연구를 진행하고 있으며, 소자의 크기를 최소화 하기 위한 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는 나노 임프린트 리소그래피와 전도성 AFM을 이용하여 나노급 상변화 물질의 특성을 평가하였다. 나노급 상변화 물질을 형성하기 위해 열경화성 나노 임프린트 리소그래피를 이용하여 $Ge_2Sb_2Te_5$(GST)/Mo/SiO2 기판 위에 200nm급 홀 패턴을 형성하였다. 홀 패턴에 Cr을 증착하여 리프트 오프 한 뒤 Cr을 하드 마스크로 사용하여 GST를 식각하였다. 그 결과, Mo 하부 전극 위에200nm 지름과 100nm 높이를 가지는 GST 나노 기둥을 형성하였다. GST 나노 기둥의 전기적 특성 평가를 위해 저항 측정 장비 및 펄스 발생기와AFM을 사용하였다. AFM은 접촉 모드로 설정하였으며, Pt가 코팅된 AFM tip을 사용하여 Cr 하드 마스크와 함께 상부 전극으로 사용하였다. GST 나노 기둥을 초기화 시키기 위해 I-V sweep을 하였으며, 그 결과 $1M\Omega$에서 $10\;k\Omega$으로 저항이 변화함을 확인하였다. GST 나노 기둥은 2V, 5ns의 리셋 펄스에서 비정질로 변화하였으며, 1.3V, 150ns의 셋 펄스에서 결정질로 변화하였다. 이 동작 전압으로 5번의 스위칭 특성을 평가하였으며, 이 결과는 소자 형태의 200nm 급GST의 특성과 유사하여 나노급 상변화 물질을 테스트하는 새로운 방법으로 사용될 수 있을 것이다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 1992년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.114-116
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• 1992

ITO/TiO$_2$/Se solar cell were fabricated by vacuum deposition method, the Se and TiO$_2$were deposited on the ITO/Glass. Prior to the electrical properties of film, the provide Te between the ITO and the Se film were deposited by substrate temperature 20[$^{\circ}C$] and evaporation time 15[min], next time TiO$_2$ were treated by rf-magnetron sputtering in substrate temperature 250[$^{\circ}C$]. Fabricated ITO/TiO$_2$/Se solar cell were as follows : Open Voltage V$\_$oc/=848[mV], Short Circuit Current I$\_$sc/=10.79[mA/$\textrm{cm}^2$]. Fill Factor FF=0.518, energy conversion efficiency η=4.74[%] under the illumination of AM 1.

• 한국전자현미경학회:학술대회논문집
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• 한국현미경학회 2005년도 제36차 춘계학술대회 및 제3회 HVEM 이용자 워크샵
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• pp.130-131
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• 2005

• 한국결정성장학회지
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• 제6권2호
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• pp.220-228
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• 1996

두 개의 siliconit 발열체를 써서 이단 전기로를 제작하여 수직 Bridgman법으로 CdTe 단결정을 성장시켰다. 상단전기로의 최고온부를 $1150^{\circ}C$로 고정시키고 하단전기로를 $800^{\circ}C$로 하였을 때, $22.51150^{\circ}C$/cm의 온도 기울기를 얻었다. 성장된 시료의 X$.$선 회절 실험으로부터 얻은 격자상수 $a_0$는 6.482$\AA$이었고, 실온에서 광흡수 측정으로부터 얻은 밴드갭 에너지는 1.478eV이었다. 광발광(PL) 실험으로부터, 구속된 엑시톤 방출 피크가 각각 ($A^0$, X) (1.5902, 1.5887ev), (h,$D^o$) (1.5918 eV) 그리고 ($D^o$, X) (1.5928, 1.5932 eV)의 방출 피크로 분리되는 것을 확인할 수 있었으며, 중성주개와 중성받개의 결합에너지와 이온화에너지를 계산하였다.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 2006년도 제37회 하계학술대회 논문집 C
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• pp.1438-1439
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• 2006

$Ge_{2}Sb_{2}Te_5$(GST) thin film at present is a promising candidate for a phase change random access memory (PCRAM) based on the difference in resistivity between the crystalline and amorphous phase. PCRAM is an easy to manufacture, low cost storage technology with a high storage density. Therefore today several major chip in manufacturers are investigating this data storage technique. Recently, A. Pirovano et al. showed that PCRAM can be safely scaled down to the 65 nm technology node. G. T Jeonget al. suggested that physical limit of PRAM scaling will be around 10 nm node. Etching process of GST thin ra films below 100 nm range becomes more challenging. However, not much information is available in this area. In this work, we report on a parametric study of ICP etching of GST thin films in $Cl_2$/Ar chemistry. The etching characteristics of $Ge_{2}Sb_{2}Te_5$ thin films were investigated using an inductively coupled plasma (ICP) of $Cl_2$/Ar gas mixture. The etch rate of the GST films increased with increasing $Cl_2$ flow rate, source and bias powers, and pressure. The selectivity of GST over the $SiO_2$ films was higher than 10:1. X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) was performed to examine the chemical species present in the etched surface of GST thin films. XPS results showed that the etch rate-determining element among the Ge, Sb, and Te was Te in the $Cl_2$/Ar plasma.