• Title/Summary/Keyword: $TeO_2$

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Fabrication of transducer optimized acousto optic modulator for laser projection display (Transducer 최적화 설계에 의한 Laser Projection Display용 음향광학변조기 제작 및 특성평가에 대한 연구)

  • 차승남;이항우;김용훈;황영모
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.8 no.5
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    • pp.410-414
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    • 1997
  • Laser projection display is a full color display system for large area. In this system, laser beams are modulated at acousto optic modulators(AOM) according to the video signal. AOM consists of a $TeO_2$ crystal and a $LiNbO_3$ transducer. We calculated the acoustic wave propagating from transducer to acousto optic media and made AOM by the calculated results. We compared calculated results with fabricated AOM by measuring modulation efficiency at various frequency. The modulation efficiency of AOM is 85% at the carrier frequency of 144MHz and the rise time is 41.5 ns.

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Optical Properties for $CuGaTe_2/GaAs$ Epilayers Grown by Hot Wall Epilaxy (Hot Wall Epitaxy (HWE) 방법으로 성장된 $CuGaTe_2/GaAs$ 에피레이어의 광학적 특성)

  • Hong, Kwang-Joon;Park, Chang-Sun
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2004.11a
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    • pp.167-170
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    • 2004
  • The stochiometric mix of evaporating materials for the $CuGaT_2$ single crystal thin films was prepared from horizontal furnance. Using extrapolation method of X-ray diffraction patterns for the $CuGaTe_2$ polycrystal, it was found tetragonal structure whose lattice constant $a_0$ and $c_0$ were 6.025 ${\AA}$ and 11.931 ${\AA}$, respectively. To obtain the single crystal thin films, $CuGaTe_2$ mixed crystal was deposited on throughly etched semi-insulator GaAs(100) substrate by the Hot Wall Epitaxy (HWE) system. The source and substrate temperature were $670^{\circ}C$ and $410^{\circ}C$ respectively, and the thickness of the single crystal thin films is $2.1{\mu}m$. The crystalline structure of single crystal thin films was investigated by the photoluminescence and double crystal X-ray diffraction (DCXD). From the photocurrent spectrum by illumination of perpendicular light on the c - axis of the $CuGaTe_2$ single crystal thin film, we have found that the values of spin orbit coupling ${\Delta}s.o$ and the crystal field splitting ${\Delta}cr$ were $0.079\underline{1}eV$ and $0.246\underline{3}eV$ at 10 K, respectively. From the PL spectra at 10K, the peaks corresponding to free bound excitons and D-A pair and a broad emission band due to SA is identified. The binding energy of the free excitons are determined to be $0.047\underline{0}eV$ and the dissipation energy of the donor-bound exciton and acceptor-bound exciton to be $0.049\underline{0}eV$, $0.055\underline{8}eV$, respectively.

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The Study of $SiO_2$, $Si_3N_4$ passivation layers grown by PECVD for the indiumantimonide photodetector

  • Lee, Jae-Yeol;Kim, Jeong-Seop;Yang, Chang-Jae;Park, Se-Hun;Yun, Ui-Jun
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2009.11a
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    • pp.24.2-24.2
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    • 2009
  • Indium Antimonide(InSb)는 $3{\sim}5\;{\mu}m$대 적외선 감지영역에서 기존 HgCdTe(MCT)를 대체할 물질로 각광받고 있다. 1970년대부터군사적 용도로 미국, 이스라엘 등 일부 선진국에서 연구되기 시작했으며,이온주입, MOCVD, MBE 등 다양한 공정을 통해 제작되어 왔다. InSb 적외선 감지소자는 $3{\sim}5{\mu}m$대에서 HgCdTe와 성능은 대등한데 반해, 기판의 대면적화와 저렴한 가격, 우주공간 및 야전에서 소자 동작의안정성 등으로 InSb적외선 감지기는 냉각형 고성능 적외선 감지영역에서 HgCdTe를 대체해 가고 있다. 하지만 InSb는 77 K에서 0.225eV의 작은 밴드갭을 갖고 있기 때문에 누설전류로 인한 성능저하가 고질적인문제로 대두되었고, 이를 해결하기 위한 고품질 절연막 연구가 InSb적외선 수광 소자 연구의 주요이슈 중 하나가 되어왔다. 그 동안 PECVD, photo-CVD, anodic oxidation 등의 공정을 이용하여 $SiO_2$, $Si_3N_4$, 양극산화막(anodic oxide) 등 다양한 절연막에 대한 연구가 진행되었고[1,2], 절연막과 반도체 사이 계면에서의 열확산을 억제하여 계면트랩밀도를 최소화하기 위한 공정개발이 이루어졌다[3]. 하지만 InSb 적외선 감지기술은 국방 및 우주개발의 핵심기술중 하나로 그 기술의 이전이 엄격히 통제되고 있으며, 현재도 미국과 이스라엘, 일본, 영국 등 일부 선진국 만이 기술을 확보하고 있고, 국내의 경우 연구가 매우 취약한 실정이다. 따라서 본 연구에서는 InSb 적외선 감지기의 암전류를 제어하기 위한 낮은 계면트랩밀도를 갖는 절연막 증착 공정을 찾고자 하였다. 본 연구에서는 n형 (100) InSb 기판 ($n=0.2{\sim}0.85{\times}10^{15}cm^{-3}$ @ 77K)에 PECVD를 이용하여 $SiO_2$, $Si_3N_4$ 등을 증착하고 절연막으로서 이들의 특성을 비교 분석하였다. $SiO_2$는 160, 200, $240^{\circ}C$에서 $Si_3N_4$는 200, $300^{\circ}C$에서 증착하였다. Atomic Force Microscopy(AFM) 사진으로 확인한 결과, 모든 샘플에서표면거칠기가 ~2 nm의 평탄한 박막을 얻을 수 있었다. Capacitance-Voltage 측정(77K)을 통해 절연막 특성을 평가하였다. $SiO_2$$Si_3N_4$ 모두에서 온도가 증가할수록 벌크트랩밀도가 감소하는 경향을 볼 수 있었는데, 이는 고온에서 증착할 수록 박막 내의 결함이 감소했음을 의미한다. 반면계면트랩밀도는 온도가 증가함에 따라, 1011 eV-1cm-2 대에서 $10^{12}eV^{-1}cm^{-2}$ 대로 증가하였는데, 이는 고온에서 증착할 수 록 InSb 표면에서의 결함은 증가하였음을의미한다. 암전류에 큰 영향을 주는 것은 계면트랩밀도 이므로, $SiO_2$$Si_3N_4$ 모두 $200^{\circ}C$이하의 저온에서 증착시켜야 함을 확인할 수 있었다.

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A study of Literature Review on the acupuncture and moxibution treatments for stomatopathy (구중질환(口中疾患)의 침구치료(鍼灸治療)에 관한 고찰(考察))

  • Youn, Hyoun-Min;Ahn, Chang-Bum;Kim, Cheol-Hong
    • Korean Journal of Acupuncture
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    • v.21 no.1
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    • pp.175-199
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    • 2004
  • Objectives : To study acupuncture and moxibution treatments for stomatopathy( aphthae, oral ulceration, mycolic stomatitis, halitosis, thirst, bitter) the ancient and the present literatures were reviewed. Methods : We've got compared and analyzed 55 kinds of literatures. Results and Conclusions : 1. The acupuncture meridians used frequently for stomatopathy were $Su-yangmy\bar{o}ng-Taejang-ky\bar{o}ng(LI),\;Chok-yangmy\bar{o}ng-Wi-Ky\bar{o}ng(S),\;Immaek-Ky\bar{o}ng(CV)$. 2. The acupoints used frequently for aphthae were $Sungjang(CV_{24}),\;Yomchon(CV_{23}),\;Hapkok(LI_4),\;Nogung(P_8),\;Chok-samni(S_{36}),\;Hyopko(S_6),\;Sugu(GV_{26})$. 3. The acupoints used frequently for oral ulceration were $Hapkok(LI_4),\;Nogung(P_8),\;Chok-samni(S_{36}),\;Kokchi(LI_{11}),\;Sotaek(SI_1),\;Pisu(B_{20}),\;Wisu(B_{21}),\;Samgan(LI_3),\;Yomchon(CV_{23}),\;Chichang(S_4)$. 4. The acupoints used frequently for mycolic stomatitis were $Hapkok(L_4),\;Chichang(S_4),\;Hyopko\;(LI_4),\;Sungjang(CV_{24}),\;Samumgyo(SP_6)$. 5. The acupoints used frequently for halitosis were $Naejong(S_{44}),\;Chok-samni(S_{36}),\;Chung-wan\;(CV_{12}),\;Sang-wan(CV_{13}),\;Hawan(CV_{10}),\;Kongson(SP_4),\;Wisu(B_{21}),\;Nogung(P_8),\;Sugu(GV_{26}),\;Sungjang(CV_{24})$. 6. The acupoints used frequently for thirst were $Sosang(L_{11}),\;Sangyang(LI_1),\;Sotaek(SI_1),\;Kwanch'ung(TE_1),\;Ch'\bar{o}kt'aek(L_5),\;T'ae-gye(K_3),\;Kokt'aek(P_3),\;Sugu(GV_{26}),\;Samgan(LI_3),\;Igan(LI_2),\;T'aech'ung(Liv_3),\;Sojangsu(B_{27})$. 7. The acupoints used frequently for bitter were $Yangn\bar{u}ngch'\bar{o}n(G_{34}),\;Hy\bar{o}njong(G_{39}),\;Kwanch'ung(TE_1),\;Tamsu(B_{19}),\;Chokkyu\bar{u}m(G_{44}),\;Y\bar{o}n-gok(K_2),\;Shinmun(H_7),\;Chok-Samni(S_{36})$.

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Preparation of Bismuth Telluride Thin Films using RF magnetron sputtering and Study on Their Thermoelectric Properties (RF 마그네트론 스퍼터링을 이용한 Bismuth Telluride 박막의 제조와 그 열전 특성 연구)

  • Kim, Dong-Ho;Lee, Gun-Hwan
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.14 no.4
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    • pp.215-221
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    • 2005
  • Thermoelectric bismuth telluride thin films were prepared on $SiO_{2}$/Si substrate with co-sputtering of bismuth and tellurium targets. The effects of deposition temperature on surface morphology, crystallinity and electrical transport properties were investigated. Hexagonal crystallites were clearly visible at the surface of films deposited above $290 ^{\circ}C$. Change of dominant phase from rhombohedral $Bi_2Te_3$ to hexagonal BiTe was confirmed with X-ray diffraction analysis. The deviation from stoichiometric composition at high deposition temperature resulted in the change of structural and electrical characteristics. Seebeck coefficients of all samples have negative value, indicating the prepared $Bi_XTe_Y$ films are n-type thermoelectric. Optimum of Seebeck coefficient and power factor were obtained at the deposition temperature of $225 \^{circ}$C (about -55 $\mu$V/K and $3\times10^{-4}$ W/$k^{2}$m, respectively). Deterioration of thermoelectric properties at higher temperature.

Derivation of Approximate Equations for $LiNbO_3$ Electroiptic Effects and Its Error Evaluation ($LiNbO_3$ 전기광학효과의 근사식 도출 및 오차 검토)

  • 김영문;김창민
    • Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
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    • v.34D no.10
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    • pp.77-84
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    • 1997
  • The refractive index changes due to the electroptic effect are discussed when external electric fields $E_x, E_y, E_2$ are applied on $LiNbO_3$, a typical anisotropic material. Derived are approximate equations for principal axis' rotations and index changes, results of which are compared with exact results by te computer simulations. In each useful application of $LiNbO_3$substrate, the results of the approximate equations are confirmed to agree with exact solutions.

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The Effect of Extrusion Temperature on Microstructure and Thermoelectric Properties of Rapidly Solidified P-type $P-type Bi_{0.5}Sb_{1.5}Te_3$ alloy (급속응고된 $P-type Bi_{0.5}Sb_{1.5}Te_3$ 합금 열전재료의 미세조직과 열전특성에 미치는 압출 온도의 효과)

  • 이영우;천병선;홍순직;손현택
    • Proceedings of the Korean Powder Metallurgy Institute Conference
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    • 2001.11a
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    • pp.28-28
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    • 2001
  • $Bi_2Te_3$계 열전반도체 재료는 200 ~ 400K 정도의 저온에서 에너지 변환 효율이 가장 높은 재료로서 열전냉각 및 발전재료로 제조볍 및 특성에 관한 많은 연구가 진행되어 왔다. 전자냉각 모듈의 제조에는 P형 및 N형 $Bi_2Te_3$계 단결정이 주로 사용되고 있으나. $Bi_2Te_3$ 단결정은 C축에 수직한 벽개면을 따라 균열이 쉽게 전파하기 때문에 소자 가공사 수윤 저하가 가장 큰 문제점으로 지적되고 있다. 이에 따라 최근 열전재료의 가공방법에 따른 회수율 증가 및 열전특성 향상에 관한 열간압출, 단조와 같은 연구가 활발히 이루어지고 있다. 본 연구는 가스분사법(gas atomizer)을 이용하여 용질원자 편석의 감소, 고용도의 증가,균일고용체 형성, 결정립미세화 둥 급속응고의 장점을 이용하여 화학적으로 균질한$Bi_2Te_3$계 열전재료 분말을 제조하고, 제조된 분발을 압출가공하여 기계적성질, 소자의 가공성 및 열전 성능 지수율 향상시키는데 연구 목적이 있다. 본 설험에서는 99.9%이상의 고순도 Bi. Te. Se. Sb를 이용하여, 고주파 유도로에서 Ar 분위기로 용융하고, 가스분사법를 이용하여 균질한 $Bi_2Te_3$계 열전재료 분만을 제조하였다. 분말표면의 산화막을 제거하기 위하여 수소분위기에서 환원처리를 행하였고, 된 분말을 Al 캔 주입하여 냉간성형 한 후 진공중에서 압출온도를 변화시켜 열간압출 가공을 행하였다. 압출 온도변화에 따른 압출재의 미세조직 및 열전특성에 중요한 영향을 미치는 C면 배향에 대한 결정방위 해석, 압출재의 압축강도 등을 분석하였으며, 압출온도에 따삼 미세조직 변화와 결정방위의 변화에 따른 열전특성의 관계를 해석하였다성시켰고 이들이 산인 HNO3에서 녹았기 때문이다. 본 연구에서 개발된 새로운 에칭 용액인 90H2O2 - 10HNO3 (vol%)의 에칭 원리가 똑같이 적용 가능한 다른 종류의 초경 합금에서도 사용이 가능할 것으로 판단된다.로 판단된다.멸과정은 다음과 같다. 출발물질인 123 분말이 211과 액상으로 분해될 때 산소가스가 배출되며, 이로 인해 액상에서 구형의 기공이 생성된다. 이들 중 일부는 액상으로 채워져 소멸되나, 나머지는 그대로 남는다. 특히, 시편 중앙에 서는 수십-수백 마이크론 크기의 커다란 기공이 다수 관찰된는데, 이는 기공의 합체로 만들어진 것이다. 포정반응 열처리 시 기공 소멸로 만들어진 액상포켓들은 주변 211 입자와 반응하여 123 영역으로 변한다. 이곳은 다른 지역과 비교하여 211 밀도 가 낮기 때문에, 미반응 액상이 남거나 211 밀도가 낮은 123 영역이 된다. 액상으로 채워지지 못한 구형의 기공들 중 다수가 123 결정 내로 포획되며, 그 형상은 액상/ 기공/고상 계면에너지에 의해 결정된다.단의 경우, 파단면이 매끄럽고 파변상의 결정립도 매우 미세하였으며, 산확물 의 용집도 찾아보기 어려웠 나, 접합부 파단의 경우에는 파변의 굴곡이 비교척 심하고 연성 입계파괴의 형태를 보였£며, 결정립도 모채부 파단의 경우에 비해 조대하였다. 조대하였다. 셋째, 주상기간 중 총 에너지 유입률 지수와 $Dst_{min}$ 사이에 높은 상관관계가 확인되었다. 특히 환전류를 구성하는 주요 입자의 에너지 영역(75~l13keV)에서 가장 높은(0.80) 상관계수를 기록했다. 넷째, 회복기 중에 일어나는 입자들의 유입은 자기폭풍의 지속시간을 연장시키는 경향을 보이며 큰 자기폭풍일수록 현저했다. 주상에서 관측된 이러한 특성은 서브스톰 확장기 활동이 자기폭풍의

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Fabrication of a Micro Cooler using Thermoelectric Thin Film (열전박막을 이용한 마이크로 냉각소자 제작)

  • Han, S.W.;Choi, H.J.;Kim, B.I.;Kim, B.M.;Kim, D.H.;Kim, O.J.
    • Proceedings of the KSME Conference
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    • 2007.05a
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    • pp.1459-1462
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    • 2007
  • In general a thermoelectric cooler (TEC) consists of a series of P type and N type thermoelectric materials sandwiched between two wafers. When a DC current passes through these materials, three different effects take place; Peltier effect, Joule heating effect and heat transfer by conduction due to temperature difference between hot and cold plates. In this study we have developed a micro TEC using $Bi_2Te_3$ (N type) and $Bi_{0.5}Sb_{1.5}Te_3$ (P type) thin films. In order to improve that performance of a micro TEC, we made 10 um height TE legs using special PR only for lift-off. We measured COP (coefficient of performance) and temperature difference between hot and cold connectors with current.

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Fabrication of a High-performance Oscillator with a Tunable High-Q HTS $YBa_2Cu_3O_{7-\delta}$ Resonator (High-Q $Yba_2Cu_3O_{7-\delta}$ 고온초전도체 공진기를 이용한 주파수 튜닝이 가능한 고성능 발진기 제작)

  • Yang Woo Il;Lee Jae Hun;Hur Jung;Lee Sang Young
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea TC
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    • v.42 no.7 s.337
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    • pp.63-70
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    • 2005
  • We investigated the phase noise of an oscillator with a extremely high-Q resonator used as the resonant element. A TE$_{011}$ mode rutile-loaded resonator with high-temperature superconductive (HTS) $YBa_2Cu_3O_{7-\delta}$(YBCO) films used as the endplates is prepared for this purpose. At 23.5 K, the unloaded Q and the loaded Q are 863000 and 180000, respectively. The phase noise of -104.8 dBc/Hz at 1 KHz offset was observed for the oscillator having a resonator with $Q_{L}$ =180000 at the $TE_{01\delta$ mode resonant frequency of 8.545 GHz at 23.5 K Such oscillators with very low phase noise are expected to be used for building up communication systems capable of efficient use of the frequency band and high-speed data transmission as well as for Doppler radars. Frequency tuning could be realized for the resonator by using a piezoactuator Applicability of the tunable rutile resonator for fabricating tunable oscillators of high performances is discussed.