$BCl_3/Cl_2/Ar$ 고밀도 플라즈마에 의한 $(Ba, Sr)TiO_3$ 박막의 식각 메커니즘 연구
(A Study on the Etching Mechanism of $(Ba, Sr)TiO_3$ thin Film by High Density $BCl_3/Cl_2/Ar$ Plasma)
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- 대한전자공학회논문지SD
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- 제37권11호
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- pp.18-24
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- 2000