Structural Characteristics of $Y_2O_3$ Films Grown on Differently Surface-treated Si(111) by Ultrahigh Vacuum Ionized Cluster Beam
(UHV-ICB 방법으로 Si(111) 기판위에 성장된 $Y_2O_3$ 박막의 구조적 특성에 관한 연구)
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- Korean Journal of Materials Research
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- v.9 no.5
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- pp.528-532
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- 1999