Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.9
no.7
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pp.1491-1496
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2005
We fabricated the $Pb_{0.72}La_{0.28}TiO_3$ (PLT(28)) thin film successfully by using the sol-gel method and characterized it to evaluate its potential for being utilized as the capacitor dielectrics of ULSI DRAMs. In our sol-gel process, the acetates were used as the starting materials. Through the TGA-DTA analysis, we established the excellent fabrication conditions of the sol-gel method for the PLT(28) thin film. We obtained the dense and crack-free PLT(28) thin film of $100\%$ perovskite phase by drying at $350^{\circ}C$ after each coating and final annealing at $650^{\circ}C$. Electrical properties of PLT(28) thin film were measured through formation on the $Pt/Ti/SiO_2/Si$ substrate and its dielectric constant and leakage current density were measured as 936 and $1.1{\mu}A/cm^2$, respectively.
Kim, Sang-Yong;Seo, Yong-Jin;Kim, Chang-Il;Chung, Hun-Sang;Lee, Woo-Sun;Chang, Eui-Goo
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2000.04b
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pp.39-42
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2000
As gate dimensions continue to shrink below $0.2{\mu}m$, improving CD (Critical Dimension) control has become a major challenge during CMOS process development. Anti-Reflective Coatings are widely used to overcome high substrate reflectivity at Deep UV wavelengths by canceling out these reflections. In this study, we have investigated Batchtype system for PECVO SiOxNy as Anti-Reflective Coatings. The Singletype system was baseline and Batchtype system was new process. The test structure of Singletype is SiON $250{\AA}$ + Cap Oxide $50{\AA}$ and Batchtype is SiON $250{\AA}$ + Cap Oxide $50{\AA}$ or N2O plasma treatment. Inorganic chemical vapor deposition SiOxNy layer has been qualified for bottom ARC on Poly+WSix layer, But, this test was practiced on the actual device structure of TiN/Al-Cu/TiN/Ti stacks. A former day, in Batchtype chamber thin oxide thickness control was difficult. In this test, Batchtype system is consist of six deposition station, and demanded 6th station plasma treatment kits for N2O treatment or Cap Oxide after SiON $250{\AA}$. Good reflectivity can be obtained by Cap Oxide rather than N2O plasma treatment and both system of PECVD SiOxNy ARC have good electrical properties.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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1994.11a
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pp.168-170
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1994
Pb($Zr_{0.52}$$Ti_{0.48}$)$O_3$ ceramic thin films were fabricated from an alkoxide-based solution by Sol-Gel method. Pb($Zr_{0.52}$$Ti_{0.48}$)$O_3$ ceramic thin films were formed by spin coating method on Pt/$SiO_2$Si substrate at 4000ppm for 30 seconds. The coating process was repeated 6 times and then heat-treated at temperature between 500∼800[$^{\circ}C$] for 1 hour. The final thickness of the thin films were about 4800[A]. The ferroelectric perovskite phases precipitated under the heat-treated at 700[$^{\circ}C$] for 1 hour. Pb($Zr_{0.52}$$Ti_{0.48}$)$O_3$ thin films heat-treated at 700[$^{\circ}C$] for 1 hour showed good dielectric and ferroclectric properties.
$Pb(Zr_{0.52}Ti_{0.48})O_3$ ceramic thin films were fabricated from an alkoxide-based solution by Sol-Gel method. $Pb(Zr_{0.52}Ti_{0.48})O_3$ ceramic thin films were formed by spin coating method on $Pt/SiO_2/Si$ substrate at 3000rpm for 30 seconds. The coating process was repeated 6 times and then heat-treated at temperature between 500 - $800[^{\circ}C]$ for 1 hour. The final thickness of the thin films were about 4800[A]. The 100% ferroelectric perovskite phases precipitated under the heat treated at $700[^{\circ}C]$ for 1 hour. $Pb(Zr_{0.52}Ti_{0.48})O_3$ thin films heat-treated at $700[^{\circ}C]$ for 1 hour showed good dielectric constant (812) property.
In this study we have calculated an ideal complex refractive index of a TiN trim used in a layer of anl1reilecnon (I\R) coatmg, [air$ISiO_2ITiNIglass$] in the visible. Also we simulated the rellectance of lwo-layer AR coating by varying the thicknesses of TiN and $SiO_2$ layers, respecl1vely. The simolation results show that we can controllhe lowest reflectance and AR band of tile AR coating. The TIN fihns were fabricated by a RF magnetron sputtering apparalus. The chemical, structural and electrical properties of TiN fih11S were inveshgated by the Rutherford backscattering spech'oscopy (RBS), atomic force microscope (AFM) and 4-point probe. The optical properlies were inve,tigated by the spectrophotometer and vanable angle spectroscopic ellipsometer (VASE). The smface roughness of TiN flhns \vas $9~10\AA$. TIle resistivity of TiN films was TEX>$360~730\mu$\Omega $ cm. The ,toichlOllletry of TiN film was 1'1: O:N = I: 0.65 :0.95 and ilic oxygen wa~ found on ilie smface. With these experimental and simu]al1on resulLs, we deposited duo: two-layer AR coating, [air$ISiO_2ITiNIglass$] and the refleClance was under 0.5% ill the regIOn of 440-650 run. 0 run.
Statement of problem: Titanium is well known as a proper metal for the dental restorations, because it has an excellent biocompatibility, resistance to corrosion, and mechanical property. However, adhesion between titanium and dental porcelains is related to the diffusion of oxygen to the reaction layers formed on cast-titanium surfaces during porcelain firing and those oxidized layers make the adhesion difficult to be formed. Many studies using mechanical, chemical and physical methods to enhance the titanium-ceramic adhesion have been actively performed. Purpose: This study meant to comparatively analyse the adhesion characteristics depending on different titanium surface coatings after coating the casts and wrought titanium surfaces with Au and TiN. Material and method: In this study, the titanium specimens (CP-Ti, Grade 2, Kobe still Co. Japan) were categorized into cast and wrought titanium. The wrought titanium was cast by using the MgO-based investment(Selevest CB, Selec). The cast and wrought titanium were treated with Au coating($ParaOne^{(R)}$., Gold Ion Sputter, Model PS-1200) and TiN coating(ATEC system, Korea) and the ultra low fusing dental porcelain was fused and fired onto the samples. Biaxial flection test was done on the fired samples and the porcelain was separated. The adhesion characteristics of porcelain and titanium after firing and the specimen surfaces before and after the porcelain fracture test were observed with SEM. The atomic percent of Si on all sample surfaces was comparatively analysed by EDS. In addition, the constituents of specimen surface layers after the porcelain fracture and the formed compound were evaluated by X-ray diffraction diagnosis. Result: The results of this study were obtained as follows : 1. The surface characteristics of cast and wrought titanium after surface treatment(Au, TiN, $Al_2O_3$ sandblasting) were similar and each cast and wrought titanium showed similar bonding characteristics. 2. Before and after the biaxial flection test, the highest atomic weight change of Si component was found in $Al_2O_3$ sandblasted wrought titanium(28.6at.% $\rightarrow$ 8.3at.%). On the other hand, the least change was seen in Au-Pd-In alloy(24.5at.% $\rightarrow$ 9.1at.%). 3. Much amount of Si components was uniformly distributed in Au and TiN coated titanium, but less amount of Si's was unevenly dispersed on Al2O3 sandblasting surfaces. 4. In X-ray diffraction diagnosis after porcelain debonding, we could see $Au_2Ti$ compound and TiN coating layers on Au and TiN coated surfaces and $TiO_2$, typical oxide of titanium, on all titanium surfaces. 5. Debonding of porcelain on cast and wrought titanium surface after the biaxial flection is considered as a result of adhesion deterioration between coating layers and titanium surfaces. We found that there are both adhesive failure and cohesive failure at the same time. Conclusion: These results showed that the titanium-ceramic adhesion could be improved by coating cast and wrought titanium surfaces with Au and TiN when making porcelain fused to metal crowns. In order to use porcelain fused to titanium clinically, it is considered that coating technique to enhance the bonding strength between coating kKlayers and titanium surfaces should be developed first.
A lot of parts in FGD (Flue Gas Desulfurization) systems of fossil-fuel power plants show the environments in which are highly changeable and extremely acidic corrosive medium according to time and locations, e.g. in duct works, coolers and re-heaters etc. These conditions are formed when system materials are immersed in fluid that flows on them or when exhausted gas is condensed into thin layered acidic medium to contact materials of the system walls and roofs. These environments make troublesome corrosion and air pollution problems that are occurred from the leakage of the condensed solution. To cathodically protect the metallic structures in extremely acidic fluid, the properties of the protective coatings on the metal surface were very important, and epoxy Novolac coating was applied in this work. On the base of acid immersion tests, hot sulfuric acid decreased the hardness of the coatings and reduced greatly the content of $Na_2O$, $Al_2O_3$, and $SiO_2$ among the main components of the coating. A special kind of CP(Cathodic Protection) system has been developed and tested in a real scale of the FGD facility. Applied coating for this CP system was peeled off and cracked in some parts of the facility. However, the exposed metal surface to extremely acidic fluid by the failure of the coatings was successfully protected by the new CP system.
Proceedings of the Korean Institute of IIIuminating and Electrical Installation Engineers Conference
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2002.11a
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pp.329-334
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2002
This study evaporates TiO$_2$ layer thickness differently with RF sputtering method on Si Wafer(n-100). Thin film is made with the structure of Si+TiO$_2$ and Si+TiO$_2$+Al by evaporating TiN which is used as Antireflection of superintegrated semiconductor integrated circuit with Photo Catalyst. The research is performed to increase the characteristics of photon energy according to TiO$_2$ thickness and the reliability and reproducibility of TiO$_2$ thin film. Reversal of electric Permittivity values is induced by dipole polarization shown in the dielectric of thin film. Complex electric constant ($\varepsilon$$_1$, $\varepsilon$$_2$) has larger peak values as it's thickness is thinner and then it is larger according to the increase of frequency. Electric Permittivity by photon energy has large value in imaginary number and is reduced exponentially by the increase of carrier density according to that of photon energy.
Glass films of $SiO_2-TiO_2-M_xO_y$ (M = Co, Cr or Cu) have been prepared on soda-lime-silica slide glasses by the chemical solution method using a spin-coating technique. Commercially available tetraethyl orthosilicate, titanium trichloride, and cobalt-, chromium- and copper-nitrates were used as starting materials. No crystalline segregations of $Co_3O_4$, $Cr_2O_3$ and CuO were observed by X-ray diffraction ${\theta}-2{\theta}$ scans. From the optical transmission analysis, cobalt existed as $ Co^{2+}$ in tetrahedral coordination, chromium as $Cr^{6+}$ in tetrahedral symmetry and copper as $Cu^{2+}$ in octahedral coordination. Films with a crack-free and no texture exhibited homogeneous interfaces between the films and the substrates along the cross-section.
Some basic properties of inorganic coatings hardened by the room temperature reaction with alkalies were examined. The coating paste was prepared from the powders in the system $Al_2O_3-SiO_2$-CaO using blast furnace slag, fly ash and amorphous ceramic fiber after mixing with a solution of sodium hydroxide and water glass. The mineralogical and morphological examinations were performed for the coatings prepared at room temperature and after heating to $1200^{\circ}C$ respectively. The binding force of the coating hardened at room temperature was caused by the formation of fairly dense matrix mainly composed of oyelite-containing amorphous phase formed by the reaction between blast furnace slag and alkali solution. At the temperature, fly ash and ceramic fiber was not reacted but imbedded in the binding phase, giving the fluidity to the paste and reinforcing the coating respectively. During heating up to $1200^{\circ}C$, instead of a break in the coating, anorthite and gehlenite was crystallized out by the reaction among the binding phase and unreacted components in ternary system. The crystallization of these minerals revealed to be a reason that the coating maintains dense morphology after heating. The maintenance of binding force after heat treatment is seemed to be also caused by the formation of welldispersed fiber-like mineral phase which is originated from the shape of the amorphous ceramic fiber used as a raw materials.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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