We have investigated the electrical transport properties of polycrystalline tantalum nitride (TaNx) films. Various compositions of tantalum (nitride) thin films have been deposited on SiO2 substrates by reactive DC magnetron sputtering while changing the ratio of nitrogen partial pressure. The substrate temperature was maintained at 283 K during deposition. X-ray diffraction analyses indicated the presence of α-Ta and β-Ta phases in the Ta film deposited in pure argon atmosphere, while fcc-TaNx phases appeared in the sputtering gas mixture of argon and nitrogen. The N/Ta atomic ratio in the film increased ranging from 0.36 to 1.07 for nitrogen partial pressure from 7 to 20.7%. The superconducting transition temperatures of the TaNx thin films were measured to be greater than 3.86 K with a maximum of 5.34 K. The electrical resistivity of TaNx thin film was in the range of 177-577 𝜇Ωcm and increased with an increase in nitrogen content. The upper critical filed at zero temperature for a TaN0.87 thin film was estimated to exceed 11.3 T, while it showed the lowest Tc = 3.86 K among the measured superconducting TaNx thin films. We try to explain the behavior of the increase of the residual resistivity and the upper critical field for TaNx thin films with the nitrogen content by using the combined role of the intergrain Coulomb effect and disorder effect by grain boundaries.
Ar공정 분압에 따라 스퍼터링된 $LiCoO_2$박막 양극의 $400^{\circ}C$저온 열처리를 통한 전기화학적 및 미세구조적 특성을 연구하였다. Ar분압이 변화함에 따라 양극 박막의 미세구조 및 조성이 변화하였으며, Ar분압이 증가할수록 $LiCoO_2$ 박막의 안정성 및 전기화학적 특성이 개선되었다. 순환전류전위법 및 정전류 충방전 시험에 의해 전극반응의 가역성 및 안정성 등을 고찰하였으며, 박막의 조성, 결정성, 표면 특성 등 물리적 특성은 ICP-AES, XRD, SEM 및 AFM을 통해 분석하였다.
가정용 에어컨이나 히트 펌프에 외경 7.0 mm 마이크로핀 튜브가 널리 사용되고 있다. 한편 에어컨이나 히트펌프의 부분 부하 운전시 질량유속은 수십 $kg/m^2s$에 불과하다. 하지만 7.0 mm 튜브에 대한 기존 연구들은 질량유속 $100kg/m^2s$ 이상에서 수행되었다. 본 연구에서는 낮은 질량유속 ($50kg/m^2s$에서 $250kg/m^2s$)에서 외경 7.0 mm 마이크로핀 튜브 내 R-410A 증발 열전달 실험을 수행하였다. 실험 중 포화온도는 $8^{\circ}C$, 열유속 $4.0kW/m^2$으로 유지하였다. 비교를 위해 외경 7.0mm 평활관에 대한 실험도 수행하였다. 실험결과 마이크로핀 튜브의 전열촉진비는 질량유속이 감소할수록 증가하다 $150kg/m^2s$를 기점으로 감소함을 보였다. 이는 마이크로 핀튜브 내 유동이 환상류에서 성층류로 변화하기 때문이다. 실험 범위에서 마이크로핀 튜브의 마찰손실과 평활관의 마찰손실은 거의 같게 나타났다. 실험데이터를 기존 상관식의 예측치와 비교하였다.
어린 싹을 길러 이용하는 채소에 대한 관심이 커지고 있어, 무 싹채소의 생육 증진과 유통 중 나타나는 영향을 검토하고자 CO2처리 효과를 검토하였다. 본 실험에서는 재배 중 CO2 처리를 가스나 탄산수 형태로 하여, 생육뿐만 아니라 수확후 모의유통 중 포장 내의 생체중량 감소, 선도와 hue angle 등 수확후 변화 정도를 조사하였다. 재배 후 수확 시 생육에서 처리 여부에 따라서는 CO2 처리가 무처리보다 경장이 약간 길어지는 효과가 있었으며, 엽록소형광이나 SOD 값에서 무처리와 CO2 처리가 다소 다른 경향을 보였다. 그러나 CO2 처리 방법 간의 차이를 언급하기는 어려워 탄산가스 대신 탄산수 이용의 가능성을 보였다. 수확 후 포장 내의 CO2 처리로 인해 무 싹채소의 O2 소모가 크고 CO2 축적 정도가 다소 높아졌으며, 모의유통 중에 수확전 CO2 처리가 hue angle 값을 비롯하여 SPAD, 외관 등에서 낮은 수치를 보여주었다. 그러나 CO2 처리 방법 간에는 큰 차이를 보이지 않은 것으로 나타났다. 무 싹채소의 재배 중 CO2 처리에 의한 처리가 경경 등의 생육량을 증가시키나, 모의유통 시 수확후 선도 유지의 효과가 크지 않아, 재배 중 다른 방법을 통한 품질을 개선할 수 있도록 연구가 더 필요한 것으로 생각된다.
Background: The most important reason for pre-operative administration of medication is to reduce anxiety. Alleviation of fear and anxiety about surgery enables patients to remain comfortable during treatment. Dexmedetomidine (DEX) is a fast-acting drug that is used as a premedication in different circumstances because it has sedative and anti-anxiolytic effects, and stable hemodynamics. It also has the advantage of intranasal administration. The aim of this study was to investigate the effects and hemodynamic stability of DEX by retrospectively analyzing cases in which DEX was administered nasally as a premedication. Methods: Ten patients treated at Dankook University Dental Hospital, recruited between February and April 2015, received intranasal delivery of $2{\mu}g/kg$ DEX, 30 minutes prior to general anesthesia. Anesthesia records of anxiety, blood pressure, respiration, pulse, estimated arterial oxygen saturation ($SpO_2$), and partial pressure, or maximum concentration, of carbon dioxide ($ETCO_2$) were analyzed. Results: Administration of DEX prior to a general anesthetic effectively relieved anxiety. Respiratory depression, the most severe adverse effect of other sedatives, was not observed. Hemodynamic stability under general anesthesia was maintained during treatment and a reduction in emergence delirium was observed upon completion of treatment. Conclusions: Premedication administration of DEX is safe for pediatric patients undergoing dental treatment under general anesthesia.
출발원료로 $Li_{2}CO_{3},\;Co_{3}O_{4}$와 NiO를 사용하여 고상반응법으로 $LiMO_{2}(M=Co,Ni)$를 합성하였다. $LiCoO_{2}$는 저온$T=400^{\circ}C$에서 스피넬구조를 형성하고 온도가 증가$(T\ge600^{\circ}C)$되면 층상구조로 상전이 한다. 우리는 열처리 온도와 시간을 변수로 $LiCoO_{2}$의 스피넬구조에서 층상구조로의 상전이 거동을 관찰하였다. 스피넬구조에서 층상구조로의 상전이 속도는 스피넬상의 농도에 1차 비례하고 상전이하는 활성화 에너지는 약 6.76 kcal/mol이다. 출발원료로 스피넬구조인 $Co_{3}O_{4}$ 대신 암염 구조인 CoO를 사용하면 저온$(T=500^{\circ}C)$에서부터 층상구조가 형성되고 스피넬구조는 관찰되지 않는다. $LiNiO_{2}$는 온도가 증가함에 따라 층상구조에서 암염구조로 상전이 한다. $LiNiO_{2}$의 고온상인 암염구조는 저온에서 disordering/ordering에 의해 쉽게 층상구조로 되돌아가는 상전이 거동을 보인다. 반면 $LiCoO_{2}$에서는 층상구조에서 암염구조로의 상전이가 쉽게 일어나지 않는다. 이온반경비 $Li^+/Co^{3+}$ 보다 큰 것이 $LiCoO_{2}$의 층상구조가 고온에서 $LiNiO_{2}$의 층상구조보다 더 안정할 수 있는 이유 중의 하나로 생각된다.
An all-solid-state electrochromic film was fabricated by laminating tungsten oxide (WO3) and nickel oxide (NiO) thin films deposited by a reactive DC magnetron sputtering on flexible ITO films. The influence of oxygen partial pressure on the crystal structure, microstructure, optical properties, and electrochromic properties of WO3 and NiO thin films were investigated. WO3 and NiO films showed the best electrochromic properties under the flow of Ar:O2=80:20 and Ar:O2=90:10, respectively. The EC film fabricated with an optimized WO3 and NiO films showed a high coloration efficiency, a fast response time, and a stable optical modulation. It is expected that flexible EC window films will pave the way for the next-generation energy-saving windows.
Coated conductor is required to have good critical current property for high efficiency of electric power applications. Until now, long coated conductor does not show high Jc over 3 MA/$cm^2$ in thick superconducting layer because of texture degradation by thick superconducting layer. In this study, in order to overcome this issue, thicker superconducting layer was deposited with optimized conditions to reduce the degradation of critical current density. SmBCO superconducting coated conductor was deposited with 1~3 um of thickness at $750\sim850^{\circ}C$ under 15~20 mTorr of oxygen partial pressure using batch type EDDC( evaporation using drum in dual chamber). The buffered substrate for superconducting layer deposition was used IBAD-MgO template with the architecture of $LaMnO_3/MgO/Y_2O_3/Al_2O_3$/Hastelloy. After fabrication of coated conductor, critical current was measured by 4-prove method under self-magnetic field and 77K. In addition, surface morphology and texture were analyzed by SEM and XRD, respectively. 3 um thick SmBCO coated conductor shows highest $I_C$ values of 638A/cm-w in 1 m long in the world.
We report the growth of $Ba_{0.5}Sr_{0.5}TiO_3$(BST) thin films and their substrate-dependent electrical characteristics. BST thin films were deposited on alumina(non-single crystal), $Al_2O_3$(100) substrates by Nd:YAG Pulsed Laser Deposition(PLD) with a 355nm wavelength at substrate temperature of $700^{\circ}C$ and post-deposition annealing at $750^{\circ}C$ in flowing $O_2$ atmosphere for 1hours. BST materials had been chosen due to high dielectric permittivity and tunability for high frequency applications, To analyze the oxygen partial pressure effects, deposited films at 1, 10, 50, 100, 150, 200, 300 mTorr. The effects of oxygen pressure on structural properties of the deposited films have been investigated by X-ray diffraction(XRD) and atomic force microscope(AFM), respectively. Then we manufactured a inter-digital capacitor(IDC) patterns twenty fingers and $10{\mu}m$ gap, $700{\mu}m$ length and electrical properties were characterized. The results provide a basis for understanding the growth mechanisms and basic structural and electrical properties of BST thin films as required for tunable microwave devices applications such as varactors and tunable filters.
Generally the high dielectric films, such as PZT(Pb(Z $r^{1-x}$$Ti_{x}$ ) $O_3$) and BST(B $a_{l-x}$S $r_{x}$ Ti $O_3$) have been formed on the Pt thin films. However it is generally known that the dry etching of Pt is difficult because of its chemical stability. So, the dry etching of Pt remains at the preliminary work. Therefore, in this study, Pt etching mechanism was investigated with Ar/C $l_2$gas plasma by using XPS(X-ray photoelectron spectroscopy) and QMS(Quadrupole mass spectrometry). Ion current density was measured with Ar/C $l_2$gas plasma by using single Langmuir probe. XPS results shoved that the atomic % of Cl element on the etched Pt sample increased with increasing Ar/(Ar+C $l_2$). And QMS results showed that the increase of Ar partial pressure in the plasma resulted in the improvement of C $l_2$dissociation and Cl redical formation and simultaniously the increase of ion bombardment effects.s.s.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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