• 제목/요약/키워드: $NH_3$ gas

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The Effects of Zeolite on Ammonia, Nitrous Oxide Emission, and Forage Yield from Pig Slurry Applied to the Forage Corn Cropping

  • Choi, Ah-Reum;Park, Sang-Hyun;Kim, Tae-Hwan
    • 한국초지조사료학회지
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    • 제40권4호
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    • pp.274-278
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    • 2020
  • Pig slurry (PS) is the most applicable recycling option as an alternative organic fertilizer. The application of pig slurry has the risk of air pollution via atmospheric ammonia (NH3) and nitrous oxide (N2O) emission. The zeolite has a porous structure that can accommodate a wide variety of cations, thus utilizing for the potential additive of deodorization and gas adsorption. This study aimed to investigate the possible roles of zeolite in mitigating NH3 and N2O emission from the pig slurry applied to the maize cropping. The experiment was composed of three treatments: 1) non-N fertilized control, 2) pig slurry (PS) and 3) pig slurry mixed with natural zeolite (PZ). Both of NH3 and N2O emission from applied pig slurry highly increased by more than 3-fold compared to non-N fertilized control. The NH3 emission from the pig slurry was dominant during early 14 days after application and 20.1% of reduction by zeolite application was estimated in this period. Total NH3 emission through whole period of measurement was 0.31, 1.33, and 1.14 kg ha-1. Nitrous oxide emission in the plot applied with pig slurry was also reduced by zeolite treatment by 16.3%. Significant increases in forage and ear yield, as well as nutrient values were obtained by pig slurry application, while no significant effects of zeolite were observed. These results indicate that the application of zeolite and pig slurry efficiently reduces the emission of ammonia and nitrous oxide without negative effects on maize crop production.

순산소 순환유동층에서 로내 탈황 및 탈질법 적용에 따른 오염물질 거동특성 (Pollutants Behavior in Oxy-CFBC by Application of In-Furnace deSOx/deNOx Method)

  • 최경구;나건수;신지훈;길상인;이정규;허필우;윤진한
    • 청정기술
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    • 제24권3호
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    • pp.212-220
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    • 2018
  • 순산소 연소기술은 화력발전에 적용 가능한 유망한 온실가스 감축 기술로 평가되고 있다. 본 연구는 환경적 관점에서 순환유동층을 활용한 순산소 연소조건에 로 내 탈황 및 탈질법을 적용하여 NO 및 $SO_2$의 거동을 살펴보는 한편, $SO_3$, $NH_3$, 그리고 $N_2O$의 발생 경향도 관측하였다. 이를 위해, 연소로 내 석회석 및 요소수를 투입하였다. 로 내 탈황법은 연소가스 내 $SO_2$ 농도를 ~403에서 ~41 ppm까지 저감하였다. 또한 $SO_3$ 형성의 주원료인 $SO_2$가 저감되면서 연소가스 내 $SO_3$ 농도도 ~3.9에서 ~1.4 ppm까지 감소되었다. 그러나 석회석 내 $CaCO_3$가 NO의 발생을 촉진하는 현상도 관측되었다. 연소가스 내 NO 농도는로 내 탈질법을 적용하여 ~26 - 34 ppm까지 저감되었다. 요소수 투입량 증가에 따라 연소가스 내 $NH_3$ 농도가 증가하여 최대 ~1.8 ppm으로 나타났으며, $N_2O$의 농도도 ~61에서 ~156 ppm까지 증가하였다. $N_2O$ 발생량 증가 현상은 요소수의 열분해 과정에서 생성된 HNCO가 $N_2O$로 전환되어 나타난다. 본 연구의 결과를 통해 로 내 연소가스 세정법을 적용할 경우 $NO_x$$SO_x$의 저감뿐만 아니라, 다른 오염물질의 발생에 대한 주의가 필요할 것으로 보인다.

용융염계에서 자전연소합성법에 의한 α-Si3N4분말의 제조 - Part 1.분말의 합성 (Preparation of α-Si3N4 Powder in Reaction System Containing Molten Salt by SHS - Part 1. Synthesis of Powder)

  • 윤기석;이종현;;원창환;정헌생
    • 한국세라믹학회지
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    • 제41권3호
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    • pp.235-242
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    • 2004
  • 원재료로서 Si, NH$_4$Cl, NaN$_3$, NaCl을 사용하고 SHS법을 이용하여 $\alpha$-Si$_3$N$_4$ 분말을 제조하였다. NH$_4$Cl과 NaN$_3$는 첨가제로서, NaCl은 희석제로서 사용되었고 반응기내 최초 $N_2$ 압력은 60 atm이었다. $\alpha$-Si$_3$N$_4$분말을 제조함에 있어, 첨가제의 종류와 조성, 희석제의 첨가량에 따른 반응성 및 생성물의 특성을 조사하였는데, 우선 $\alpha$-Si$_3$N$_4$ 분말의 제조를 위한 최적의 반응계를 조사하였고, 최적의 반응계에서 최적의 조성을 확립하였다. 최적의 반응계는 Si-$N_2$-additive(NH$_4$C+NaN$_3$)-diluent(NaCl)이었고, 이때 최적의 조성은 38wt%Si+22.5wt%NH$_4$Cl+27.5wt%NaN$_3$+l2wt%NaCl이었다. 이 조건에서 생성된 최고 $\alpha$-Si$_3$N$_4$의 분율은 96.5wt%이었으며 생성된 분말의 입형은 길이가 약 10 $mu extrm{m}$이고 직경이 약 1 $\mu\textrm{m}$인 일방향으로 길게 성장한 부정형의 fiber 형태였다.

암모니아 가스 중화에 의한 폐산내 Mo 회수에 관한 연구 (Molybdenum Recovery from Spent Acid Solution Neutralized by Ammonia Gas)

  • 차우열;태순재;유진태;박융호;박종진
    • 자원리싸이클링
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    • 제12권2호
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    • pp.36-44
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    • 2003
  • 전구용 필라멘트 제조 공정에서 발생되는 Mo함유 폐산 내에 암모니아 가스를 취입하여 유가금속인 Mo를 암모늄테트라몰리브데이트($_3$.2NH$4MoO_3$.$H_2$O) 형태로 침전 회수하고, 여과 후 발생되는 중화 여액을 활용하기 위한 연구를 수행하였다. 암모니아 중화법을 이용한 Mo 회수공정에 있어 다양한 공정 변수들에 의한 제품의 회수율, 순도, 입도 등 특성을 평가하였으며, 그 결과로부터 Mo 염의 회수율 99.5% 이상, 순도 99.5% 이상을 확보하기 위한 최적 조업조건을 도출하였다. Bench 및 Pilot규모의 실험을 통하여 상업화 가능성을 확인하였으며, 폐산의 중화반응 후 발생된 여액은 엽면시비용 액상 복합비료의 원료로 사용 가능함을 확인하였다.

Comparative Studies on the Reactions of Carbamyl and Thiocarbamyl Halides with NH3 in the Gas Phase and in Aqueous Solution: A Theoretical Study

  • Kim, Chang-Kon;Han, In-Suk;Sohn, Chang-Kook;Yu, Yu-Hee;Su, Zhishan;Kim, Chan-Kyung
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제33권6호
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    • pp.1955-1961
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    • 2012
  • In this work, the reactions of carbamyl and thiocarbamyl halides with $NH_3$ were studied in the gas phase at the MP2(FC)/6-31+G(d) level of theory. Single point calculations were performed at the QCISD/6-311+G(3df,2p) to refine the energetics. The reaction mechanisms were also studied in aqueous solution. The structures were fully optimized at the CPCM-MP2(FC)/6-31+G(d) and refined by a single point CPCM-QCISD/6-311+G(3df,2p) calculations. The reaction mechanisms for the title compounds were compared with those for the acetyl and thioacetyl halides. The lower reactivity of carbamyl (and thiocarbamyl) groups was explained by comparing the C=O and C=S ${\pi}$-bond strengths as well as resonance contributions in the ground state.

Etch Characteristics of CO/NH3 Plasma Gas for Magnetic Random Access Memory in Pulsed-biased Inductively Coupled Plasmas

  • 양경채;전민환;염근영
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.200-200
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    • 2013
  • 기존 메모리 반도체에 비교해 빠른 재생속도와 높은 집적도, 비휘발성 등의 특성을 가지는 MRAM (Magnetic Random Access Memory)은 DRAM, flash memory 등을 대체할 수 있는 차세대 기억 소자로서 CoFeB/MgO/CoFeB로 구성된 한 개의 MTJ (Magnetic Tunnel Junction)를 단위 메모리로 사용한다. 이 MTJ 물질들은 고밀도 플라즈마를 이용한 건식 식각공정시 Cl2, BCl3 등과 같은 chlorine 을 포함한 가스를 이용하여 왔으나 식각 후 sidewall에서 발생하는 부식과 식각 선택비 확보의 어려움 등으로 마스크 물질에 제약을 받고 소자 특성이 감소하게 되는 등의 문제가 있다. 따라서 이러한 식각 문제점을 해결하기 위한 대안으로 noncorrosive 가스인 CO/NH3, CH3OH, CH4 등을 이용한 MTJ 식각 연구가 진행되어 오고 있으며 이중 CO/NH3 혼합가스는 부식성이 없고 hard mask와의 높은 선택비를 가지는 기체로 CO gas에 NH3 gas를 첨가하게 되면 etch rate이 증가하는 특성을 보인다. 또한 rf pulse-biased power를 이용하여 이온의 입사를 시간에 따라 제어함으로써 pulse off time 때 etch gas와 MTJ 물질간의 chemical reaction을 향상시킬 수 있다. 따라서 본 연구에서는 CO/NH3 혼합가스를 이용하여 다양한 rf pulse-biased power 조건에서 MTJ 물질인 CoFeB, MgO와 hard mask 물질인 W을 식각 한 뒤 식각특성을 분석하였으며 MTJ surface의 chemical binding state, surface roughness 측정을 진행하였다. 식각 샘플의 측정은 Alpha step profiler, XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy), AFM (Atomic Force Microscopy)를 통해 진행되었다. Time-averaged pulse bias에서는 duty ratio가 감소할수록 etch rate의 큰 감소 없이 CoFeB/W, MgO/W 물질의 etch selectivity가 향상됨을 확인할 수 있었으며 pulse off time 구간에서의 chemical reaction 향상으로 인해 식각부산물의 재증착이 감소하고 CoFeB의 surface roughness가 감소하는 것을 확인하였다.

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The effects of non-thermal plasma and conventional treatments on the bond strength of fiber posts to resin cement

  • do Prado, Maira;da Silva, Eduardo Moreira;Marques, Juliana das Neves;Gonzalez, Caroline Brum;Simao, Renata Antoun
    • Restorative Dentistry and Endodontics
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    • 제42권2호
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    • pp.125-133
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    • 2017
  • Objectives: This study compared the effect of hexamethyldisiloxane (HMDSO) and ammonia ($NH_3$) plasmas on the bond strength of resin cement to fiber posts with conventional treatments. Materials and Methods: Sixty-five fiber posts were divided into 5 groups: Control (no surface treatment); $H_2O_2$ (24% hydrogen peroxide for 1 min); Blasting (blasting with aluminum oxide for 30 sec); $NH_3$ ($NH_3$ plasma treatment for 3 min); HMDSO (HMDSO plasma treatment for 15 min). After the treatments, the Ambar adhesive (FGM Dental Products) was applied to the post surface (n = 10). The fiber post was inserted into a silicon matrix that was filled with the conventional resin cement Allcem Core (FGM). Afterwards, the post/cement specimens were cut into discs and subjected to a push-out bond strength (POBS) test. Additionally, 3 posts in each group were evaluated using scanning electron microscopy. The POBS data were analyzed by one-way analysis of variance and the Tukey's honest significant difference post hoc test (${\alpha}=0.05$). Results: The Blasting and $NH_3$ groups showed the highest POBS values. The HMDSO group showed intermediate POBS values, whereas the Control and $H_2O_2$ groups showed the lowest POBS values. Conclusion: Blasting and $NH_3$ plasma treatments were associated with stronger bonding of the conventional resin cement Allcem to fiber posts, in a procedure in which the Ambar adhesive was used.

알루미늄 염으로부터 침전법에 의한 알루미나 분체의 제조 (Preparation of Alumina Powder from Aluminum Salts by Precipitation Method)

  • 이전;최상욱;조동수;이종길;김승태
    • 한국세라믹학회지
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    • 제30권12호
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    • pp.1045-1053
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    • 1993
  • Alumina hydrates were prepared by the neutralization of AlCl3.6H2O solution with NH3 gas diluted with N2 gas. The values of pH in reaction solution influenced the formation of alumina hydrates minerals. Amorphous alumina hydrates, for example, were formed at ${\gamma}$-Al2O3longrightarrow$\delta$-Al2O3longrightarrow$\theta$-Al2O3longrightarrow$\alpha$-Al2O3. (2) Bayeritelongrightarrowamorphouslongrightarrow${\gamma}$-Al2O3longrightarrow$\delta$-Al2O3longrightarrowη-Al2O3longrightarrow$\theta$-Al2O3longrightarrow$\alpha$-Al2O3. On the other hand, the shape of alumina hydrates whichw ere prepared by the reacton of Al2(SO4)3.16H2O solution and NH3 gas was spherical, the progress of its phase transformation with increasing temperature was amorphouslongrightarrow${\gamma}$-Al2O3longrightarrow$\alpha$Al2O3 in sequence.

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대단면 지하광산 갱도내 뒷채움 작업장 가스유출 및 확산제어 통기방안 연구 (A Study on the Ventilation Schemes for Gas Leakage and Dispersion Controlling at the Backfilled Working Face in Large-Opening Underground Mine)

  • 응우엔반득;이창우
    • 터널과지하공간
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    • 제28권4호
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    • pp.372-386
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    • 2018
  • 뒷채움한 작업장의 공기질은 채움재의 양생기간 및 이후에 걸쳐 현저히 악화된다. 복합탄산염 기반의 채움재로 뒷채움한 채굴적으로부터 장기간에 걸친 NH3 및 CO2의 유출은 작업공간 내부에서 뿐만 아니라 지표상에서도 관찰된다. 가행광산에서는 가스의 유출은 작업환경을 급격히 악화시키므로 오염된 공간을 희석 시키기 위한 충분한 양의 통기량의 공급, 그리고 유해 가스 유출과 확산을 제어하기 위한 통기방안의 연구가 필요하다. 본 연구는 채움공간내 가스제어를 위한 압력균형 통기기술의 적용성 연구를 목적으로 한다.

DC 플라즈마 토치를 이용한 질화규소 분말의 기상합성 (Vapor phase synthesis of silicon nitride powder using DC plasma torch)

  • 황연;손용운;정헌생;최상근
    • 한국결정성장학회지
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    • 제4권4호
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    • pp.370-377
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    • 1994
  • 비이송식DC 플라즈마 토치를 제작하고 이를 이용하여 질화규소 분말을 제조하였다. Ar 가스를 사용하여 플라즈마를 발생시켯으며, 발생된 플라즈마 flame으로 반응가스 및 reactive quenching 가스를 도입하였다. 토치의 하단부에 2개의 slit를 장착하여 가스의 도입 위치를 변화시킬 수 있게 하였다. $SiCl_4와 NH_3$를 출발원료로 하여 질화규소 분말을 제조하였다. 얻어진 분말은 무정형이었으며, 반응부산물을 제거하고 $1420^{\circ}C$에서 질소 분위기하에서 가열함으로써 결정화된 질화규소 분말을 얻었다. XPD pattern 및 IR 스펙트럼으로부터 질화규소 분말을 확인하였고, TEM을 사용하여 전후의 형상을 관찰하였다.

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