• Title/Summary/Keyword: $Ga_{2}O_{3}$

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Power-Dependent Characteristics of $n^+$-p and $p^+$-n GaAs Solar Cells

  • Kim, Seong-Jun;Kim, Yeong-Ho;No, Sam-Gyu;Kim, Jun-O;Lee, Sang-Jun;Kim, Jong-Su;Lee, Gyu-Seok
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.08a
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    • pp.236-236
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    • 2010
  • 단일접합 $n^+-p/p^+$ (p-emitter) 및 $p^+-n/n^+$ (n-emitter) GaAs 태양전지 (Solar Cell)를 각각 제작하여, 그 소자특성을 비교 분석하였다. AM 1.5 (1 sun, $100\;mW/cm^2$) 표준광을 조사할 경우, p-emitter/n-emitter 소자의 개방회로전압 (Voc), 단락회로전류 (Jsc), 충전율 (FF), 효율 (Eff)은 각각 0.910/0.917 V, $15.9/16.1\;mA/cm^2$, 78.7/78.9, 11.4/12.1%로서, n-emitter 소자가 다소 크지만 거의 비슷한 값을 가지고 있었다. 태양전지의 집광 특성을 분석하기 위하여 조사광의 출력에 따른 태양전지의 소자 특성을 측정하였다. 조사광 강도가 높아짐에 따라 p-emitter 소자의 특성은 점진적으로 증가하는 반면, n-emitter는 1.3 sun에서 약 1.4 배의 최대 효율 (17%)을 나타내고 조사광이 더 증가함에 따라 급격히 감소하는 특성을 보여 주었다. (그림 참고) 본 연구에서 사용한 2종류 소자의 층구조는 서로 반대되는 대칭구조로서, 모두 가까이에 위치하고 있는 표면전극 (surface finger) 방향으로 소수전하 (minority carrier)가 이동하고 다수전하 (majority carrier)는 기판 (두께 $350\;{\mu}m$)을 통한 먼 거리의 후면전극 (back electrode)으로 표류 (drift)되도록 설계되어 있다. 이때, n-emitter에서는 이동도 (mobility)와 확산길이 (diffusion length)가 높은 전자가 후면전극으로 이동하기 때문에 적정밀도의 전자-정공 쌍 (EHP)이 여기될 경우에는 Jsc와 Eff가 극대화되지만, 조사광 강도 또는 EHP가 더 높아질 경우에는 직렬저항의 증가와 함께 전류-전압 (I-V)의 이상인자 (ideality factor)가 커짐으로서 FF와 효율이 급격히 감소한 결과로 분석된다. 현재 전산모사를 통한 자세한 분석을 진행하고 있으며, 본 결과는 효율 극대화를 위한 최적 층구조 및 도핑 밀도 설계에 활용할 수 있을 것으로 판단된다.

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Effects of Different Germination Characteristics, Sowing Date and Rain Sheltered Cultivation on Stable Seed Production in Scutellaria baicalensis Georgi (황금 종자 안정생산을 위한 발아특성, 파종적기, 비가림 시설효과)

  • Kim, Myeong Seok;Kim, Yong Soon;Choi, Jin Gyung;Park, Heung Gyu;Shin, Hae Ryoung;Kim, Seong Il;Kim, Young Guk;Park, Chun Geun;Ahn, Young Sup;Cha, Seon Woo;Kim, Kwan Su
    • Korean Journal of Medicinal Crop Science
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    • v.24 no.2
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    • pp.101-109
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    • 2016
  • Background: The purpose of this study was to evaluate methods to reduce seeding expenses, thereby increasing farm income. This study investigated the effects of rain shelter controlled cultivation and adapted seeding times on the stable seed production of Scutellaria baicalensis Georgi. Methods and Results: Seed germination was conducted under 10 condition compose to control, water washing, cold storage at $4^{\circ}C$ for 15 days, seed sterilization with a benomyl pesticides, hormone treated seed by submerging in 100 ppm $GA_3$ with the cold storage at $20^{\circ}C$ and $25^{\circ}C$, darkness in a covered petridish and illuminated with a 1,500 Lux lamp. There were three cultivation type, open cultivation with non-woven fabric mulching, cultivation with a vinyl covering and rain sheltered in a plastic greenhouse. Sowing dates were April 27, May 18, June 7 and June 28, 2013. Plants were spaced 10 cm apart in rows 30 cm apart. Mixed oil cake fertilizer, $N-P_2O_5-K_2O$ (12-10-10) was applied at $600kg{\cdot}10a^{-1}$. Conclusions: Optimum germination occured in darkness at $25^{\circ}C$ and cold storage after submerging in $GA_3$. The highest seed yields ($4.5kg{\cdot}10a^{-1}$) occurred in the plastic greenhouse for the April 25 sowing. The highest root yield (17%) was found on April 1, under greenhouse conditions.

Discharge Characteristics of Facing Targets Sputtering Apparatus with Targets Species (타켓 종류에 따른 대향타겟 스퍼터링 장치의 방전 특성)

  • Keum, Min-Jong;Son, In-Hwan;Shin, Sung-Kwan;Ga, Ch-Hyun;Park, Yong-Seo;Kim, Kyung-Hwan
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2004.11a
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    • pp.620-623
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    • 2004
  • In this study, the discharge characteristic of FTS (Facing Targets Sputtering) apparatus was investigated using metal target paramagnetic and ceramic targets such as Zn, Al, $ZnO:Al(Al_2O_3)$, ITO. Threshold voltage and stable stage of discharge show different with target species. Compare with commercial sputtering apparatus, the FTS apparatus is a high-speed sputter method that promotes ionization of sputter gas by screw and reciprocate moving high-speed ${\gamma}$electrons which arrays two targets facing each other, inserts plasma arresting magnetic field to the parallel direction of the center axis of both targets, discharged from targets and accelerated at the cathode falling area. Especially, we notice that the FTS method using ceramic target has stable discharge characteristic even by DC power source.

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Electrical and Optical Properties of GZO Thin Films Using Substrate Bias Voltage for Solar Cell (기판 바이어스 전압을 이용한 태양전지용 GZO 박막의 전기적, 광학적 특성)

  • Kwon, Soon-Il;Park, Seung-Bum;Lee, Seok-Jin;Jung, Tae-Hwan;Yang, Kea-Jun;Park, Jea-Hwan;Choi, Won-Seok;Lim, Dong-Gun
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2008.11a
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    • pp.103-104
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    • 2008
  • In this paper we report upon an investigation into the effect of DC bias voltage on the electrical and optical properties of Gallium doped zinc oxide (GZO) film. GZO films were deposited on glass substrate without substrate temperature by RF magnetron sputtering from a ZnO target mixed with 5 wt% $Ga_2O_3$. we investigated sample properties of bias voltage change in 0 to -60 V. We were able to achieve as low as $5.89\times10^{-4}$ ${\Omega}cm$ and transmittance over 87%. without substrate temperature.

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Electrical and Optical Properties of GZO Thin Films using Substrate Bias Voltage for Solar Cell (기판 바이어스 전압을 이용한 태양전지용 GZO 박막의 전기적, 광학적 특성)

  • Kwon, Soon-Il;Lee, Seok-Jin;Park, Seung-Bum;Jung, Tae-Hwan;Lim, Dong-Gun;Park, Jea-Hwan;Choi, Won-Seok;Park, Moon-Gi;Yang, Kea-Joon
    • Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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    • v.22 no.5
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    • pp.373-376
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    • 2009
  • In this paper we report upon an investigation into the effect of DC bias voltage on the electrical and optical properties of Gallium doped zinc oxide (GZO) film. GZO films were deposited on glass substrate without substrate temperature by RF magnetron sputtering from a ZnO target mixed with 5 wt% $Ga_{2}O_{3}$. we investigated sample properties of bias voltage change in 0 to -60 V. We were able to achieve as low as $5.89{\times}10^{-4}{\Omega}cm$ and transmittance over 88 %. without substrate heating.

Effects of Metalized Al-2%Zn Layer on the Corrosion Behavior of Al 5083 Alloy (Al 5083 합금의 부식거동에 미치는 Al-2%Zn 용사 코팅층의 영향)

  • 김용철;김영근;이성민;고영태
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 1999.05a
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    • pp.2-2
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    • 1999
  • 금속재료의 표면 특성을 높이기 위해서 여러 표면처리 방법들이 사용되어져 오고 있다. 그 중 용사법에 의한 코팅방법이 최근의 현저한 기술적인 진보와 새로운 용사재료의 개발 등에 의해 여러 분야에 널리 응흉되고 있다. 일반적으로 이 용사법에 의한 코팅층은 다리, 선박 등의 대형 구조물에 대한 내식성 향상뿐만 아니라 자동차 및 항공기 부품, 핵 반응기 등의 코팅부에 널리 이용되고 였다. 특히 해수분위기에서 주로 사용되는 설비의 내식성을 향상시킬 목적으로 사용되 는 알루마늄 및 아연 합금의 용사 코팅층은 대부분의 경우 건조한 분위기보다는 수분이 많은 수용액 환경 하에서 사용되므로, 사용 환경 중에서 용사피막의 내식성을 조사하는 연구가 요구되고 있다. 사용되는 환경하에서의 침지시험에 의한 방법도 중요하지만, 가속화된 전기화학측정에 의한 방법 또한 이용된다. 열용사법에 의한 코팅층의 전기화학적 특성을 알아보기 위해서 3.5 % NaCI 수용액 내에서 AI 5 5083 모재와 Al-2%Zn 합금의 용사 코팅층 각각에 대한, 그리고 AI 5083 모재 위 AI-2%Zn 용사층이 코팅된 경우에 대한 분극거동과 침지시간에 따른 부식전위 및 분극저항성의 특성변화, 표면의 임피던스특성 변화 등을 측정하였다. 이 결과 모재에 대한 코팅층의 희생양극성올 판단할 수 있고, 모재/코팅 사스템의 분극거동은 혼성전위이론(mixed-potential theory)에 의해 결정되었다. 용사 코팅층이 박리되어 모재가 일부 드러난 경우를 모사한 시험편올 제작하고, 시험편 표면의 각 위치에 따라 부식전위 분포를 측정하였다. 그리고 측정 데이터를 기초로 표면의 상태변화를 모사하여 용사코팅에 의한 표면에서의 방식전위분포를 시율레이션하였다. 이와 같은 표면에서의 방식전위분포 해석을 통하여, 코팅층의 희생양극성에 의한 모재의 방식범위를 판단할 수 있다.의 비저 항을 갖는 철 박막에서도 99.9% 순도의 철을 타켓으로 하여 증착된 막은 일반 저탄소 강을 타켓으로 하여 증착된 막보다 훨씬 낮은 부식속도를 보였다.TEX>$He/O_2/Ar/N_2$의 gas를 사용 한 atmospheric pressure plasma cleaning 과 $Ar/O_2$의 gas를 사용한 ICP cleaning에서 이 차전자방출계수(SEEC)가 약 1.5~2.5배 증가된 것을 알 수 있었다. 저지능 등을 평가하여 각 실험결과를 비교분석하여 보았다. 수록 민감하여 304 의 IGSCC 와 매우 유사한 거동을 보인다. 본 강연에서는 304 와 600 의 고온 물에서 일어나는 IGSCC 민감도에 미치는 환경, 예민화처리, 합금원소의 영향을 고찰하고 이에 대한 최근의 연구 동향과 방식 방법을 다룬다.다.의 목적과 지식)보다 미학적 경험에 주는 영향이 큰 것으로 나타났으며, 모든 사람들에게 비슷한 미학적 경험을 발생시키는 것 이 밝혀졌다. 다시 말하면 모든 사람들은 그들의 문화적인 국적과 사회적 인 직업의 차이, 목적의 차이, 또한 환경의 의미의 차이에 상관없이 아름다 운 경관(High-beauty landscape)을 주거지나 나들이 장소로서 선호했으며, 아름답다고 평가했다. 반면에, 사람들이 갖고 있는 문화의 차이, 직업의 차 이, 목적의 차이, 그리고 환경의 의미의 차이에 따라 경관의 미학적 평가가 달라진 것으로 나타났다.corner$적 의도에 의한 경관구성의 일면을 확인할수 있지만 엄밀히 생각하여 보면 이러한 예의 경우도 최락의 총체적인 외형은 마찬가지로 $\ulcorner$순응$\lrcorner$의 범위를 벗어나지 않는다. 그렇기 때문에도 $\ulcorner$순응$\lrcorne

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Optical and electronic properties of InGaZnO thin films as change of impurities

  • Park, In-Cheol;Hwang, Chang-Su;Kim, Hong-Bae
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.202-202
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    • 2010
  • 불순물이 첨가되는 이원계 및 다원계 투명전도성 산화막들은 불순물의 첨가량에 따라서 전기적 그리고 광학적 특성의 변화를 나타낸다. 조성비에 따른 특성 변화를 조사하기 위하여 산화아연 타겟과 산화갈륨 타겟을 이용하여 혼합 스퍼터링 방식을 이용하여 인듐, 갈륨 등이 소량 첨가된 산화아연막(IGZO)을 증착하였다. Triple Co-sputter의 인가 전력을 변화시켜 가면서 박막 구성 원소들의 성분비 변화에 따른 전기적 그리고 광학적 특성을 조사하였다. 증착된 박막들은 조성비에 따라 전기적 그리고 광학적 특성이 변화되는 것을 확인하였다. 실온에서 유리기판 위에 증착된 박막은 저항률이 $2^*10^{-3}\;{\Omega}-cm$의 전기적 특성을 보였고, 투과도가 400~800nm 파장 범위 내에서 80% 이상의 광학적 특성을 보였다.

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A Study on Electrical Characteristics of a Capacitive Pressure Sensor Element to Measure the Pressure of Refrigerant of Air-Conditioner (에어컨 냉매압 측정용 정전용량형 압력센서 소자의 전기적 특성 연구)

  • Choi, Ga-Hyun;Chung, Woo-Young;Choi, Jung-Woon;Kim, Si-Dong;Min, Joon-Won
    • Journal of Sensor Science and Technology
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    • v.24 no.3
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    • pp.208-213
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    • 2015
  • The purpose of this study is to optimize the design of a capacitive pressure sensor element using the simulation of electrical characteristics. The simulation of the ceramic sensor diaphragm ($Al_2O_3$) was performed by permitting pressure to change the curvature of the diaphragm. The pressure capacitance ($C_P$) was increased from 19.63 pF to 15.26 pF by applying pressure because the distance between the electrodes has been changed from $30{\mu}m$ to $15{\mu}m$. When the thickness of the diaphragm was changed to 0.46~0.52 mm, a larger capacitance change showed in accordance with the reduced thickness, which means an increase of sensitivity. However, considering the viewpoint of the signal linearity, it was selected for the optimum thickness of the diaphragm to 0.50 mm. The designed sensor element based on simulated results was tested to measure the output characteristics. Comparing of simulated and measured results, there was a margin of error of approximately 2%.

Influence of post-annealing temperature on double layer ZTO/GZO deposited by magnetron co-sputtering

  • Oh, Sung Hoon;Cho, Sang Hyun;Jung, Jae Heon;Kang, Sae Won;Cheong, Woo Seok;Lee, Gun Hwan;Song, Pung Keun
    • Journal of Ceramic Processing Research
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    • v.13 no.spc1
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    • pp.140-144
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    • 2012
  • Ga-doped ZnO (GZO) was a limit of application on the photovoltaic devices such as CIGS, CdTe and DSSC requiring high process temperature, because it's electrical resistivity is unstable above 300 ℃ at atmosphere. Therefore, ZTO (zinc tin oxide) was introduced in order to improve permeability and thermal stability of GZO film. The resistivity of GZO (300 nm) single layer increased remarkably from 1.8 × 10-3Ωcm to 5.5 × 10-1Ωcm, when GZO was post-annealed at 400 ℃ in air atmosphere. In the case of the ZTO (150 nm)/GZO (150 nm) double layer, resistivity showed relatively small change from 3.1 × 10-3Ωcm (RT) to 1.2 × 10-2Ωcm (400 ℃), which showed good agreement with change of carrier density. This result means that ZTO upper layer act as a barrier for oxygen at high temperature. Also ZTO (150 nm)/GZO (150 nm) double layer showed lower WVTR compared to GZO (300 nm) single layer. Because ZTO has lower WVTR compared to GZO, ZTO thin film acts as a barrier by preventing oxygen and water molecules to penetrate on top of GZO thin film.