Two different window-structured $CuInGaSe_2$(CIGS) solar cells, i.e., CIGS/thin-CdS/ZnO:B(sample A) and CIGS/very thin-CdS/Zn(S/O)/ZnO:B(sample B), were prepared, and the diffusivity of Zn, Cd, S, and B atoms, respectively, in the CIGS, ZnO or Zn(S/O) layer was estimated by a theoretical fit to experimental secondary ion mass spectrometer data. Diffusivities of Zn, Cd, S, and B atoms in CIGS were $2.0{\times}10^{-13}(1.5{\times}10^{-13})$, $4.6{\times}10^{-13}(4.4{\times}10^{-13})$, $1.6{\times}10^{-13}(1.8{\times}10^{-13})$, and $1.2{\times}10^{-12}cm^2/s$ at 423K, respectively, where the values in parentheses were obtained from sample B and the others from sample A. The diffusivity of the B atom in a Zn(S/O) of sample B was $2.1{\times}10^{-14}cm^2/sec$. Moreover, the diffusivities of Cd and S atoms diffusing back into ZnO(sample A) or Zn(S/O)(sample A) layers were extremely low at 423K, and the estimated diffusion coefficients were $2.2{\times}10^{-15}cm^2/s$ for Cd and $3.0{\times}10^{-15}cm^2/s$ for S.
In this study, we have fabricated and characterized vertical double-gate (DG) InGaAs tunnel field-effect-transistors (TFETs) with Al2O3/HfO2 = 1/5 nm bi-layer gate dielectric by employing a top-down approach. The device exhibited excellent characteristics including a minimum subthreshold swing of 60 mV/decade, a maximum transconductance of 141 µS/㎛, and an on/off current ratio of over 103 at 20℃. Although the TFETs were fabricated using a dry etch-based top-down approach, the values of DIBL and hysteresis were as low as 40 mV/V and below 10 mV, respectively. By evaluating the effects of constant voltage and hot carrier injection stress on the vertical DG InGaAs TFET, we have identified the dominant charge trapping mechanism in TFETs.
Cho, Hyeon;Kim, Jin-Gon;Gila, B.P.;Lee, K.P.;Abernathy, C.R.;Pearton, S.J.;Ren, F.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2003.11a
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pp.176-176
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2003
The effects of oxide thickness and gate length of MgO/GaN metal oxide semiconductor field effect transistors (MOSFETs) on I-V, threshold voltage and breakdown voltage characteristics were examined using a drift-diffusion model. The saturation drain current scales in an inverse logarithmic fashion with MgO thickness and is < 10$^{-3}$ A.${\mu}{\textrm}{m}$$^{-1}$ for 0.5 ${\mu}{\textrm}{m}$ gate length devices with oxide thickness > 600 $\AA$ or for all 1 ${\mu}{\textrm}{m}$ gate length MOSFETs with oxide thickness in the range of >200 $\AA$. Gate breakdown voltage is > 100 V for gate length >0.5 ${\mu}{\textrm}{m}$ and MgO thickness > 600 $\AA$. The threshold voltage scales linearly with oxide thickness and is < 2 V for oxide thickness < 800 $\AA$ and gate lengths < 0.6 ${\mu}{\textrm}{m}$. The GaN MOSFET shows excellent potential for elevated temperature, high speed applications.
Kim, Ji-Hong;Roh, Ji-Hyoung;Ryu, Kyoung-Jin;Moon, Sung-Joon;Kim, Jae-Won;Do, Kang-Min;Moon, Byung-Moo;Koo, Sang-Mo
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2010.06a
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pp.296-296
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2010
In this work, we report the effect of substrate on the growth of Ga-doped ZnO (GZO) thin films. GZO thin films were deposited on various substrates by using pulsed laser deposition (PLD). The structural properties, surface morphologies, and electrical properties were investigated. From the results of HRXRD, c-plane (0002) oriented growth of GZO films was confirmed on $Al_2O_3$ (0001). On the other hand, the GZO films on LAO (100) substrates were grown along the a-axis. The obvious differences on the electrical properties of each film were also obtained.
The crystal structure and magnetic properties of magnetic oxide system (F $e_2$$O_3$)$_{5}$(A $l_2$$O_3$)$_{4-x}$(G $a_2$$O_3$)$_{x}$)SiO has been studied using X-ray diffraction and Mossbauer spectroscopy The changes of magnetic structure by the Ga ion substitution and the temperature variation have been investigated using Mossbauer spectroscopy, and the results are compared with those of the SQUIB measurements. Results of X-ray diffraction indicated that the crystal structures of the system change from a cubic spinel type to an orthorhombic via the intermediate region. This magnetic oxide system seems to be new kind of spinel type ferrites containing high concentration of cation vacancies. Various and complicated Mossbauer spectra were observed in the samples (x>0.2) at temperatures lower than room temperature. This result could be explained by freezing of the superparamagnetic dusters. On cooling and substitution, magnetic states of the system show various and multicritical properties. Unexpected dip in magnetization curves below 50K was observed in SQUID measurements. It was interpreted as an effect of spin canting including spin freezing or collective spin behavior.ior.r.
We studied the effect of $O_2$ plasma treatments on the electrical property of Ti / Al ohmic contacts to N-face n-type GaN. The surface of N-face, n-type GaN has been treated with $O_2$ plasma for 120 s before the deposition of bilayered electrodes, Ti (50 nm) / Al (35 nm), and its contact resistance was compared with that of the reference sample without $O_2$ plasma. As a result, we found that the ohmic contact was reduced from $4.3\;{\times}\;10^{-1}\;{\Omega}cm^2$ to $1.25\;{\times}\;10^{-3}\;{\Omega}cm^2$ by applying $O_2$ plasma on the surface of n-type GaN, which was attributed to the reduction in the Schottky barrier height (SBH), caused by nitrogen vacancies formed during the $O_2$ plasma process.
In this paper, we have prepared phase-pure $SrTiO_3:\;Pr^{3+}$ phosphor powder by Supercritical Fluid Mixing using $Sr(OH)_2{\cdot}8H_2O$ and $TiO_2$ powders as starting materials. Its luminescent properties were investigated in comparison with $SrTiO_3:\;Pr^{3+}$ powders prepared by solid-state method with conventional mixing. $SrTiO_3:\;Pr^{3+}$ phosphor powders by Supercritical Fluid Mixing have spherical shapes and narrow particle size distribution. We have investigated the luminescent properties of $SrTiO_3:\;Pr^{3+}$ phosphor using $Al^{3+}$ and $Ga^{3+}$ as sensitizer.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.74-74
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2011
최근 새로운 형태의 디스플레이에 관한 관심이 집중되고 있다. 이들 중 특히 투명 산화물 반도체는 기존의 실리콘 기반의 반도체에 비해 가시광 영역에서 높은 투과도를 보이며, 또한 기존의 비정질 실리콘 소자에 비해서 10 cm2/Vs이상의 높은 전하 이동도 값을 가진다. 본 연구에서는 투명 산화물 반도체 소재 중 InGaZnO4를 사용하여 펄스 레이저 방법으로 Al2O3 (0001)기판 위에 비정질 상태인 a-InGaZnO4 박막을 성장 시켰다. 박막의 증착 온도를 변화(RT, $50^{\circ}C$, $150^{\circ}C$, $250^{\circ}C$, $450^{\circ}C$, $550^{\circ}C$)시켜 성장된 박막의 구조적, 화학적, 전기적 그리고 광학적 특성을 조사하였다. 증착 온도가 $450{\sim}550^{\circ}C$ 사이에서 박막의 상태가 비정질(amorphous)에서 polycrystalline으로 성장되는 것을 X-Ray Diffraction과 Field Emission-Scanning Electron Microscope를 이용하여 확인하였고 이는 InGaZnO4 박막의 결정화 온도가 $450^{\circ}C$ 이상임을 알 수 있었다. X-ray Photoelectron Spectroscopy를 통해서 target 물질과 성장된 박막의 조성 및 화학적 상태를 고찰한 결과, 박막의 결정성 변화가 화학적 상태 변화와는 무관하다는 사실을 알 수 있었다. 온도 의존 비저항 측정을 통해 박막이 반도체 성향을 가지는 것을 확인 하였다. 또한 Hall 측정 결과 증착 온도가 올라 갈수록 전하 밀도는 증가 하지만, 전하 이동도는 다결정 박막($550^{\circ}C$)에서 급격히 감소하고, 이로 인해 비저항 값이 크게 증가함을 알 수 있었다. 이는 다결정 박막 내 존재하는 grain boundary들이 이동도 값에 영향을 준다는 것으로 추측할 수 있다. Ultra violet-Visible-Near Infrared 측정을 통해 가시광 영역에서 80%이상의 투과율을 나타내며 증착 온도가 증가함에 따라 에너지 밴드갭(Eg)이 커지는 것을 확인 할 수 있는데 이는 Hall 측정 결과에서 확인한 전하 밀도의 증가로 인해 에너지 밴드갭이 커지는 Burstein-Moss 효과로 설명할 수 있다.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.420-420
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2014
최근, 과학 기술이 발달함에 따라 현장에서의 실시간 검사 및 자가 지단 등 질병 치유에 대한 사람들의 관심이 증가하고 있으며, 이에 따라 의료, 환경, 산업과 같은 많은 분야에서 바이오 센서에 대한 연구가 활발하게 이루어지고 있다. 그 중, EGFET는 전해질 속의 각종 이온 농도를 전기적으로 측정하는 바이오 센서로, 외부 환경으로부터 안전하고, 제작이 쉬우며, 재활용이 가능하여 비용을 절감 할 수 있다는 장점을 가지고 있다 [1]. EGFET는 감지부와 FET부로 분리된 구조를 가지고 있으며, 감지부의 감지막으로는 Al2O3, HfO2, $TiO_2$, SnO2 와 같은 다양한 물질들이 사용되고 있다. 그 중, SnO2는 우수한 감도와 안정성을 가지고 있는 물질로 추가적인 열처리 공정 없이도 우수한 감지 특성을 나타내기 때문에 본 연구에서 감지막으로 사용하였다. 한편, EGFETs 의 FET부로는 기존의 비정질 실리콘 TFTs 에 비해 10배 이상의 높은 이동도와 온/오프 전류비를 갖는 InGaZnO 를 채널층으로 사용한 TFTs 를 사용하였다. a-IGZO 는 넓은 밴드 갭으로 인해 가시광 영역에서 투명하며, 향후 투명 바이오센서 제작 시, 물질들 사이의 반응을 전기적 신호뿐만 아니라 광학적인 분석 방법으로도 검출이 가능하기에 고 신뢰성을 갖는 센서의 제작이 가능할 것으로 기대된다. 한편, a-IGZO TFTs 의 경우 우수한 전기적 특성을 나타냄에도 불구하고 소자 동작 시 문턱 전압이 불안정하다는 단점이 있으며 [2], 이러한 문제의 개선과 향후 투명 기판 위에서의 소자 제작을 위해서는 저온 열처리 공정이 필수적이다. 따라서, 본 연구에서는 저온 열처리 공정인 u-wave 열처리를 통하여 a-IGZO TFTs 의 전기적 특성 및 안정성을 향상시켰으며, 9.51 [$cm2/V{\cdot}s$]의 이동도와 135 [mV/dec] 의 SS값, 0.99 [V]의 문턱 전압, 1.18E+08의 온/오프 전류 비를 갖는 고성능 스위칭 TFTs 를 제작하였다. 최종적으로, 제작된 a-IGZO TFTs 를 SnO2 감지막을 갖는 EGFETs 에 적용함으로써 우수한 감지 특성과 안정성을 갖는 바이오 센서를 제작하였다.
Park, Young-Kwon;Park, Kwang-Cheon;Jeong, Kwang-Eun;Jeon, Jong-Ki;Ihm, Son-Ki;Lee, Dong-Keun
Applied Chemistry for Engineering
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v.8
no.1
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pp.140-145
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1997
Carbon dioxide hydrogenation reaction was carried out over hybrid catalyst composed of $Cu/ZnO/ZrO_2$, and MFI zeolites such as HZSM-5, H-Ga-Silicate and H-Fe-Silicate. The hybrid catalyst composed of $Cu/ZnO/ZrO_2$, catalyst and HZSM-5 showed the highest yield and selectivity to $C_2{^+}$ hydrocarbon, which seemed to be due to the largest amount of Br nsted acid sites. Higher yield to $C_2{^+}$ hydrocarbon was obtained over HZSM-5 with lower $SiO_2/Al_2O_3$ ratio and also with longer ion exchange time, which showed larger amount of Br nsted acid sites, respectively. When a metal ion was exchanged into HZSM-5, the highest yield to $C_2{^+}$ hydrocarbon was obtained with descending order $Ga/HZSM-5{\simeq}HZSM-5>Zn/HZSM-5$, i.e., with the amount of $Br\ddot{o}nsted$ acid sites.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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