• 제목/요약/키워드: $Ga^+$ 이온

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전력 반도체 $p^{+}n$ 접합의 해석적 항복전압 (Analytical Breakdown Voltages of $p^{+}n$ Junction in Power Semiconductor Devices)

  • 정용성
    • 대한전자공학회논문지SD
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    • 제42권10호
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    • pp.9-18
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    • 2005
  • Si, GaAs, InP 및 $In_{0.53}Ga_{0.47}AS$ 계단형 $p^{+}n$ 접합에서의 항복전압을 위한 해석적 표현식을 유도하였다. 해석적 항복전압을 위해 각 물질에 대한 Marsland의 lucky drift 파라미터를 이용하여 유효이온화계수를 각각 추출하였고, 이의 이온화 적분을 통해 얻은 해석적 항복전압 결과는 $10^{14}cm\;^{-3}\~5\times10\;^{17}cm\;^{-3}$도핑 농도 범위에서 실험 결과와 $10\%$ 오차 범위 이내로 잘 일치하였다.

갈륨액체금속 이온원과 인듐액체금속 이온원의 빔 특성에 대한 연구 (The study of beam characteristics for Ga LMIS and In LMIS)

  • 현정우;임연찬;정강원;정원희;박철우;이종항;강승언
    • 한국공작기계학회:학술대회논문집
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    • 한국공작기계학회 2005년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.360-363
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    • 2005
  • 본 연구에서는 인듐 액체금속이온원을 제작하여 빔 특성에 대해 연구를 하였으며, 기존의 연구를 하였던 갈륨 액체금속 이온원의 빔특성과 비교분석 하였다. 빔특성 분석을 위해 빔 안정도, 전류-전압특성곡선, 에너지 퍼짐을 측정하였다. 액체금속이온원에 사용되는 액체금속 저장소 및 바늘전극(tip)은 $500{\mu}m$의 직경을 갖는 텅스텐을 사용하였으며, 국내에서 제작된 제품을 사용하였다. 액체금속 저장소의 구조는 이전에 구상하여 연구가 이루어진 6개의 pre-etching된 텅스텐와이어(wire)가 묶여진 형태를 사용하였다.

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변형세포와 비변형세포에서 이온형과 Transferrin 결합형 Fe-59와 Ga-67 섭취율의 비교 (Comparison of Uptake of Ionic and Tf-bound Fe-59 and Ga-67 in Transformed and Untransformed Cells)

  • 손명희;이영환;이상용;정경호;한영민;김종수;최기철;임창열
    • 대한핵의학회지
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    • 제30권1호
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    • pp.145-151
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    • 1996
  • 철분이 축적하는데는 Tf나 Tf수용체에 의해 중재되는 경로와 비의존적인 경로가 둘 다 보고되어 왔다. 종양영상에 많이 사용되고 있는 Ga-67은 철분 유사 물질로 이러한 철분의 섭취 경로와 같은 경로에 의해 섭취되는지는 확실하지 않지만 Ga도 Tf의존성과 비의존성 섭취 경로가 보고되었으며 부분적으로는 철분과 같은 섭취경로를 공유할 수도 있다. 또한 종양의 변형정도에 따라 방사성 금속의 섭취기전이 다를 수도 있다. 변형세포로서 MMSV/3T3 세포와 비변형세포로서 BALB/3T3 세포를 Tf이 존재할때와 존재하지 않을 때에서 1uM의 Ga-67-citrate 혹은 Fe-59-chloride 와 함께 $37^{\circ}C$에서 15분간 배양하였다. 그 후 단일층의 세포를 HBSS로 3번, PBS로 1번 씻은 후 1% SDS로 용해시킨 후 감마카운터로 방사능을 측정한 후 단백질양을 측정하여 pmole metal/mg cellular protein으로 표시하였다. Fe-59와 Ga-67의 섭취양상은 71결합형과 이온형 둘다에서 크기의 차이는 있지만 비슷한 양상을 보였다. 즉 두 방사성 금속은 Tf 결합형과 이온형으로 세포로 들어간다. Tf과 함께 존재할 때는 철분이나 Ga 섭취가 변형세포에서 비변형세포에 비해 약 3배 이상 높았으나 Tf이 없이 이온형으로 존재할 때는 이와는 반대로 비변형세포에 의한 섭취가 변형세포에 비해 약4배 더 많았다. Ga-67이나 Fe-59의 섭취의 효율성은 Tf결합형인 Ga-Tf, Fe-Tf 형태가 이온형에 비해 약 10-15배 더 컸다. 그러나 섭취는 효율성의 크기는 Ga-67(3배)에 비해 Fe-59(10배)가 더 컸다. Ga-67의 섭취는 Tf의존성과 Tf비의존성 기전이 같이 존재하며 변형세포와 비변형세포는 서로 반대로 작용하였다. 즉 변형세포의 섭취는 Tf의존성 기전에 의하고, 비변형세포의 섭취는 Tf 비의존성 기전에 의해 주로 일어나며 종양조직에 의한 Ga-67의 섭취 기전은 부분적으로는 Fe-59와 같은 섭취기전을 공유할 수 있다고 생각되었다.

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항혈전 약물 개발 연구

  • 강삼식;윤혜숙
    • 한국응용약물학회:학술대회논문집
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    • 한국응용약물학회 1993년도 제2회 신약개발 연구발표회 초록집
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    • pp.127-127
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    • 1993
  • 작약의 메타놀에기스를 작용성분을 추적하면서 분리하였으며 EtOAc 분획으로부터 gallic acid methylester(GA-1) 및 paeonoldmf 혈소판 응집억제 작용 물질로서 분리하였으며 Paeonol은 혈소판 응집억제 작용이 이비 보고된바 있다. GA-1은 오가피로부터 혈소판 응집억제 작용물질로서 분리된 DBA-1과 구조적으로 매우 유사하며 혈소판 응집억제 작용물질로서 알려진 aspirin의 구조와 유사하다. Platelet aggregometer을 이용하여 DBA 및 GA analogs 13종(DBA-1-10 및 GA-1-3)들이 ADP 또는 collagen에 의하여 유도된 혈소판 응집에 대하여 억제작용을 보이는가를 검색하였다. 이들중 aspirin과 유사하게 억제작용을 보인 DBA-1-3-7-9-10, GA-3 및 paeonol에 대하여 mouse를 이용한 in vivotlfgja을 시행하였다. 즉 endotoxin 또는 collagen 과 epinephrine을 정맥주사하여 intravascular thrombosis를 일으켜 혈소판수를 감소시키며 이때 이들 물질들의 혈소판 감소 억제효과를 관찰하였다. 대조약물로서 사용한 aspirin은 collagen과 epinephrine에 의한 혈소판 감소를 현저히 억제한 반면 endotoxin에 의한 혈소판 감소에는 효과가 없었다. DBA-9, -10, GA-3 및 paeonol은 endotoxin에 의한 혈소판감소에 대하여 약한 억제효과를 보였으며, 검색시료 전부가 collagen과 epinephrine에 의한 혈소판 감소에는 aspirin보다 작용이 적었으나, DBA-10, GA-3 및 paeonol은 현저하게 억제효과 있었다. 또한 collagen과 epinephrine 동시 투여에 의한 치사 실험에서는 DBAD-7, GA-3 및 paeonol이 aspirin과 같거나 강한 사망 억제 효과가 있었다.cyclopropyl-7-(2-furanyl) -6-fluoro-1,4-dihydro-4-oxo-3-quinoline carboxylic acid (compound 4), 1-cyclopropyl-7-(2-thiophenyl)-6-fluoro-1,4-dihydro-4-oxo-3-quinoline carboxylic acid (compound 6) ,1-cyclopropyl-7-(3-pyridinyl)-6-fluoro-1,4-dihydro-4-oxo-3-quinoline carboxylic acid (compound 8), 1-cyclopropyl-7-(2-fluoro-3-pyridinyl)-6-fluoro-1,4-dihydro-4-oxo-3-quinoline carboxylic acid (compound 10)를 합성하였다.10^{-7}$ M)에 의한 단백인산화에 대하여는 더 미약한 억제-효과를 나타내었다. 이상의 결과는 PDE-1과 항우울약들의 항혈소판작용은 PKC-기질인 41-43 kD와 20 kD의 인산화를 억제함에 기인되는 것으로 사료된다.다. 것으로 사료된다.다.바와 같이 MCl에서 작은 Dv 값을 갖는데, 이것은 CdCl$_{4}$$^{2-}$ 착이온을 형성하거나 ZnCl$_{4}$$^{2-}$ , ZnCl$_{3}$$^{-}$같은 이온과 MgCl$^{+}$, MgCl$_{2}$같은 이온종을 형성하기 때문인것 같다. 한편 어떠한 용리액에서던지 NH$_{4}$$^{+}$의 경우 Dv값이 제일 작았다. 바. 본 연구의 목적중의 하나인 인체유해 중금속이온인 Hg(II), Cd(II)등이 NaCl같은 염화물이 함유된 시료용액에 공해이온으로 존재할 경우 흡착에 의한 제거가

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EMC Simulation을 이용한 GaAs/AlGaAs 양자 우물 내 전자의 충돌 이온화율 (Impact Ionization Rates of Electron in GaAs/AlGaAs Qunantum Well Using EMC Simulation)

  • 윤기정;홍창희
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 1994년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.221-225
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    • 1994
  • We described the impact ionization rates of electron in GaAs/AlGaAs MQH(multi- quantum well) using EMC(ensenble Monte Carlo) simulation. Hot electron energy of injected into quantum well is increasing nearly liearly due to the applied electric field to the barrier of MQM inspite of various Al mole fraction in AlGaAs or barrier width. Impact ionization rates are decreasing exponentially by increasing Al mole fraction, and they have peak vague due to the barrier width.

이온화된 N-source를 사용한 GaN박막의 성장과 특성 (Growth and Properties of GaN Thin-Films Using Ionized N-Source)

  • 김선태;이영주
    • 한국재료학회지
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    • 제8권3호
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    • pp.229-237
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    • 1998
  • 열적으로 이온화된 N과 증기상태의 Ga을 $300~730^{\circ}C$의 온도 범위에서 직접 반응시켜 (001)Si과 (00.1)사파이어 기판 위에 GaN박막의 성장 초기 단계에서는 GaN의 성장률이 증가한 후, 결정 핵을 중심으로 수평방향으로서 성장과 합체에 의하여 성장률의 변화가 일정 값에 달하였다. 이 연구에서 성장한 GaN박막에 대한 XPS분석 결과 낮은 온도에서 성장된 GaN박막은 진공 chamber 내의 산소가 성장된 박막 내에 많이 혼입 되어 있음을 알 수 있었다. 낮은 온도, 짧은 시간 동안 성장된 표면은 Ga덩어리들도 도포 되었다. 그러나, 기판온도와 성장시간이 증가함에 따라 이들은 피라미드 형태의 결정들로 성장된 후 원형고리 형태의 결정으로 합체되었다. 특히 N-소스의 공급이 충분한 경우에는 판상의 결정으로 성장되었다. 20K의 온도에서 측정된 PL스펙트럼에서는 3.32eV와 3.38eV에서 불순물과 관련된 발광이 관찰되었다.

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투과전자현미경분석용 박편 제작 시 집속이온빔에 의한 광물 손상 (Damage of Minerals in the Preparation of Thin Slice Using Focused Ion Beam for Transmission Electron Microscopy)

  • 정기영
    • 한국광물학회지
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    • 제28권4호
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    • pp.293-297
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    • 2015
  • 집속이온빔(FIB, focused ion beam)법은 광물 및 지질시료의 분석 대상 위치로부터 투과전자현미경(TEM, transmission electron microscope) 관찰을 위한 박편을 정밀하게 제작할 수 있는 방법으로 널리 보급되고 있다. 그러나 박편 제작과정에서 Ga 이온빔에 의한 구조 손상이나 인위적 효과들이 발생하여 전자빔에 의한 손상과 함께 TEM 분석에서의 난점들 중 하나이다. 광물 시료 FIB 박편의 TEM 관찰에서 석영과 장석의 비정질화, 커튼 효과, Ga 오염 등이 확인되었으며, 특히 입자 경계 부근이나 두께가 얇은 곳에서 이들 현상이 보다 뚜렷하다. 박편 제작 시의 가속전압 및 전류 조정 등의 분석절차 개선으로 이온빔 손상을 줄일 수 있으나, 어느 정도의 손상이나 오염은 피할 수 없으므로 TEM 박편 관찰과 해석에서 유의하여야 한다.

$Ga^+$ 이온 빔 조사량에 따른 자기 조립 단분자막의 습식에칭 특성 (Effect of $Ga^+$ Ion Beam Irradiation On the Wet Etching Characteristic of Self-Assembled Monolayer)

  • 노동선;김대은
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2005년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.326-329
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    • 2005
  • As a flexible method to fabricate sub-micrometer patterns, Focused Ion Beam (FIB) instrument and Self-Assembled Monolayer (SAM) resist are introduced in this work. FIB instrument is known to be a very precise processing machine that is able to fabricate micro-scale structures or patterns, and SAM is known as a good etch resistance resist material. If SAM is applied as a resist in FIB processing fur fabricating nano-scale patterns, there will be much benefit. For instance, low energy ion beam is only needed for machining SAM material selectively, since ultra thin SAM is very sensitive to $Ga^+$ ion beam irradiation. Also, minimized beam spot radius (sub-tens nanometer) can be applied to FIB processing. With the ultimate goal of optimizing nano-scale pattern fabrication process, interaction between SAM coated specimen and $Ga^+$ ion dose during FIB processing was observed. From the experimental results, adequate ion dose for machining SAM material was identified.

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Boron 이온이 주입된 GaAs의 열처리에 따른 발광특성에 관한 연구 (A Study on the Photoluminescence of Boron lon Implanted GaAs)

  • 최현태;손정식;배인호
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제11권9호
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    • pp.700-704
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    • 1998
  • In this paper, the optical properties of boron ion implanted GaAs were investigated by photoluminescence(PL) measurements. The implantations were preformed at room temperature with the energy of 150 eV. The range of implanted dose was $10^{12}~10^{15} ions/cm^2$. The boron implanted samples were annealed between $450^{\circ}C$ and $800^{\circ}C$ for 20 minutes. The crystallinity of low dosed samples were increased with increasing annealing temperature up to $700^{\circ}C$ while that of the high dosed($10^{15} ions/cm^2$) was almost same. From the samples with dose of $10^{14}~10^{15} ions/cm^2$, two emission bands were observed at 1.438 eV (B1) and 1.459 eV (B2) after the thermal treatment. These emission bands seems to be attributed to the $B_{Ga}$-defect complex.

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(Y0.85-xYb0.15)3Ga5O12:Er3+x 형광체의 형광특성 (Luminescence Characteristics of (Y0.85-xYb0.15)3Ga5O12:Er3+x Phosphors)

  • 정종원;이성수
    • 새물리
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    • 제68권12호
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    • pp.1308-1314
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    • 2018
  • 본 연구에서는 고상반응법을 이용하여 $(Y_{0.85-x}Yb_{0.15})_3Ga_5O_{12}:Er^{3+}_x$ 형광체 분말을 합성하고 그 분말의 형광특성을 연구하였다. $Yb^{3+}$ 이온의 농도를 0.15 mol에 고정하고 $Er^{3+}$ 이온의 농도를 변화시키며 제작된 $(Y_{0.85-x}Yb_{0.15})_3Ga_5O_{12}:Er^{3+}_x$ 형광체의 결정성을 X-선 회절장치를 이용하여 형광체 분말의 결정성을 측정하였다. $(Y_{0.85-x}Yb_{0.15})_3Ga_5O_{12}:Er^{3+}_x$ 분말은 $Er^{3+}$ 이온의 함유량에 관계없이 입방정계 구조의 다결정 상으로 성장하였음을 확인할 수 있었다. 형광광도계를 이용하여 형광체의 형광특성을 관찰하였으며, 980 nm 레이저 다이오드와 분광기를 이용하여 형광체의 상방전환 형광특성을 분석하였다. 980 nm 레이저 다이오드로 여기시킨 $(Y_{0.85-x}Yb_{0.15})_3Ga_5O_{12}:Er^{3+}_x$ 형광체의 상방전환 발광스펙트럼은 553 nm 부근의 강한 녹색 형광과 660 nm에서의 약한 적색 형광을 나타내었다. 형광과 상방전환에 의한 형광의 세기는 $Er^{3+}$ 이온의 첨가량이 0.12 mol 일 때 가장 높게 나타났으며, 에너지 전달 과정을 이용해 상방전환에 의한 형광 특성을 분석하였다.