Kim, Dae-Hee;Kim, Dae-Hyun;Kim, Yeong-Cheol;Seo, Hwa-Il
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제11권1호
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pp.11-14
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2010
The interaction of -$Al(CH_3)_2$ with -OH on a fully OH-terminated Si (001) surface was studied using density functional theory. Two sites for $Al(CH_3)_3$ to react with the -OH on the surface were identified. The $-Al(CH_3)_2$ product energetically favored the dimer-row site rather than the inter-row site because the Al atom of $-Al(CH_3)_2$ at the dimer-row site was attracted by the lone pair electrons of the O atom in the neighboring -OH. The energy barrier for the transfer of the $-Al(CH_3)_2$ between the two sites was 0.11 eV, and therefore, the $-Al(CH_3)_2$ at the inter-row site can easily transfer to the dimer-row site at room temperature.
A short reaction mechanism for premixed $CH_4/CHF_3/Air$ flames was developed with a reduction method of the combined application of simulation error minimization (SEM) which included connectivity method and principal component analysis. It consisted of 43 species and 403 elementary reactions at the condition of less than 5% of maximum error. The calculation time operated with a short mechanism was over 5 times faster than one with a detailed reaction mechanism. Good agreement was found between the flame speeds calculated by the short reaction mechanism and those by the detailed reaction mechanism for the entire range of $CHF_3/CH_4$ mole ratios and equivalence ratios. In addition excellent agreements were determined for the profiles of temperature, species concentration, and the production rates of the various species. So the short reaction mechanism was able to accurately predict the flame structure for premixed $CH_4/CHF_3/Air$ flames.
MNDO calculations were carried out to determine reactant complexes and transition states of the $S_N2$ reactions of $CH_3X\;+\;Y^-\;{\to}\;CH_3Y\;+\;X^-$ where X = F, Cl, CN and Y = CN, OH, F, Cl. The leaving group ability was found to vary inversely with the activation barrier, which in turn was mainly ascribable to the deformation energies accompanied with bond stretching of C-X bond and inversion of $CH_3$ group. The nucleophilicity was shown to be in the order $Cl^->F^->OH^->CN^-$ but the effect on the activation barrier was relatively small compared with that of the leaving group. The bond breaking and bond formation indices and energy decomposition analysis showed that the TS for the reaction of $CH_3$Cl occurs in the early stage of the reaction coordinate relative to that of $CH_3$F. It has been shown that the potential energy surface (PES) diagrams approach can only accommodate thermodynamic effects but fails to correlate intrinsic kinetic effects on the TS structure.
Song Jeong-Wha;Won Jae-Seon;Lee Yong-Chan;Choe Mu-Hyeon
Journal of Microbiology and Biotechnology
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제16권7호
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pp.1104-1110
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2006
Recombinant antibody-toxin is a bifunctional protein that binds and kills a target cell expressing a specific antigen on the surface of the cell, and its structure is chimeric, in which a toxin is fused to an antigen-binding domain such as scFv or Fab. Divalent antibody-toxin molecules showed higher cytotoxicities against cancer cell lines than monovalent molecules. However, the yields of the divalent molecules were very low. In this study, we introduced the CH2, CH3, or CH2-CH3 (=Fc) domain of antibody in the middle of the Fab-toxin between the hinge region of human IgG1 and the toxin domain to increase the yield. The covalently bonded dimer could be formed by three disulfide bridges from cysteine residues in the hinge region. The molecule with the CH3 domain showed about 3-fold higher dimerization yield than previously constructed Fab-toxin molecules, while maintaining the cytotoxic activity comparable to that of scFv-toxin. However, the introduction of CH2 or Fc domain to the same position showed little effect on the dimerization yield. We also observed that the introduction of the CH3 region made it possible to form noncovalently associated dimer molecules.
The effects of CH2F2 and N2 gas flow rates on the etch selectivity of silicon nitride (Si3N4) layers to extreme ultra-violet (EUV) resist and the variation of the line edge roughness (LER) of the EUV resist and Si3N4 pattern were investigated during etching of a Si3N4/EUV resist structure in dual-frequency superimposed CH2F2/N2/Ar capacitive coupled plasmas (DFS-CCP). The flow rates of CH2F2 and N2 gases played a critical role in determining the process window for ultra-high etch selectivity of Si3N4/EUV resist due to disproportionate changes in the degree of polymerization on the Si3N4 and EUV resist surfaces. Increasing the CH2F2 flow rate resulted in a smaller steady state CHxFy thickness on the Si3N4 and, in turn, enhanced the Si3N4 etch rate due to enhanced SiF4 formation, while a CHxFy layer was deposited on the EUV resist surface protecting the resist under certain N2 flow conditions. The LER values of the etched resist tended to increase at higher CH2F2 flow rates compared to the lower CH2F2 flow rates that resulted from the increased degree of polymerization.
A laser ablation-molecular beam/reflectron time-of-flight mass spectrometric technique was used to investigate the ion-molecule reactions that proceed within $Ti^+(CH_3COCH_3)_n$ heterocluster ions. The reactions of $Ti^+$ with $CH_3COCH_3$ clusters were found to be dominated exclusively by an oxidation reaction, which produced $TiO^+(CH_3COCH_3)_n$ clusters. These ions were attributed to the insertion of a $Ti^+$ ion into the C=O bond of the acetone molecule within the heteroclusters, followed by $C_3H_6$ elimination. The mass spectra also indicated the formation of minor sequences of heterocluster ions with the formulas $Ti^+(C_3H_4O)(CH_3COCH_3)_n$ and $TiO^+(OH)(CH_3COCH_3)_n$, which could be attributed to C-H bond insertion followed by $H_2$ elimination and to the sequential OH abstraction by the $TiO^+$ ion, respectively. Density functional theory calculations were carried out to model the structures and binding energies of both the association complexes and the relevant reaction products. The reaction pathways and energetics of the $TiO^+\;+\;CH_2CHCH_3$ product channel are presented.
Comparison of Korean shroud with Chinese shroud are as follows. 1. Taetae Simeui P'oo Hansam Ko, Mal, Nukpaek, Kwatu, Ch'ungi Po-kkon Myokmok Ri Aksu Mo and Om were used the most inchina. However Mangkon Tapho Tanko Sotae Ri and Kop'o were used more widely in Korea. 2. The cloths of Chinese shroud were p'o, Paek and Kyun but those of the orean were paek Chu Chung and P'o The colors of the chinese and Koean shroud was Hyun Hun and white. 3. The size of the Cinese shroud is as follows. The size of the Ch ungi ws si-milar tothe size of jujube kernel the len-gth of Myokmok was one Ch'ok two Ch'on or one Ch'ok five Ch'on the length of Aksu was one Ch'ok two Ch'on and its width was five Ch'on. The chil of Mo reached the hands and the length of Sw-ae was three Ch'ok and the length of Om ws five Ch'on. the size of the Korean shroud was the same as Chinese shroud except that the size fo Myokmok and the lenth of Chil and Swae was seven Ch'ok respectively,. 4. In Korean and Chinese shroud Aksu was tied by the strings at two corners Myokmok was teid by the strings of four corners. The tip of the Om was divided and Mo wrapped the shole body. 5. The clothes of Soryom was nineteen Ch'ing in Korean and chinese shroud. The clothes of Taeryom in Kun were one hundred Ch'ing in the chinese and ninety Ch'ing in the Korean shroud. The imple-ment of Soryom were Kum Kyo Sangeui Saneui Ch'im Yok and Kyon in the Chinese shroud and were Kum Kyo Sangeui Saneui Ch'im Yok Kyonand Sinmyon in the Korean shroud. In the case of the implement of Taeryom the Chinese shroud had Kum Kyo Sangeui Saneui Ch'im and Yok the same as Korean shroud.
최근에 엄격한 배기가스규제를 충족시키기 위해 자동차와 선박용 후처리장치의 비중이 점차로 증가하고 있다. 이 연구의 목적은 CNG 버스에서 배출되는 유독성 가스를 저감하는 NGOC의 $CH_4$ 저감능력 향상을 연구하는 것이다. 13종의 천연가스산화촉매(NGOC)를 제조하였고, 지지체(support)의 종류, 귀금속의 담지량 영향 및 계면활성제와 열화에 따른 유해가스 전환 성능을 파악하였다. 3번 $NGOC(1Pt-1Pd-3MgO-3CeO_2/(46TiO_2+23Al_2O_3+23Zeolite)$에 담지된 지지체 Zeolite는 음이온 알칼리금속/토금속 성분으로 CO와 NO와의 산화반응성 및 귀금속 분산도를 향상시켜 $CH_4$ 저감능력을 향상시켰다. Pd는 $CH_4$에 대한 선택도가 큰 귀금속이며, 담지량이 증가할수록 반응사이트가 더 많아져 $CH_4$ 저감 능력이 향상되었다. Pt 11wt%가 담지된 9번 NGOC(11Pt-6Pd-3MgO/(40Zeolite+$40Al_2O_3$)의 경우, 과하게 담지된 Pt 담지량은 오히려 CO와 NO 전환율이 감소하였으며, 이는 Pt 분산도 저하 및 CO와 NO 산화반응에 선택적인 Zeolite 함량이 감소하였기 때문이다. 계면활성제가 첨가된 11번 NGOC(1Pt-1Pd-3MgO-$3CeO_2$/(Z 20+Al80)(pH=8.5)가 촉매 입자의 분산이 잘되어있고, 응집(agglomeration)되지 않아 $CH_4$ 저감 능력이 5-15% 향상되었다. Mild하게 48h 열적 열화된 13번 NGOC(2Pt-2Pd-3Cr-3MgO/$90Al_2O_3$)(48h aging)는 12번 NGOC(Fresh)에 비해 $CH_4$ 저감 능력이 약 10% 이하로 상승하였다.
층상 구조의 유기-무기 복합 소재 $Cu_2(OH)_3(CH_3COO){\cdot}H_2O$에 마이크로파를 조사하면서 $Cu_2O$와 Cu를 합성하였다. 에틸렌 글리콜에서는 $Cu_2(OH)_3(CH_3COO){\cdot}H_2O$이 환원이 되어서 Cu금속이 형성되는 반면에, 수용액에 글루코오스를 넣으면$Cu_2(OH)_3(CH_3COO){\cdot}H_2O$이 환원이 되어 $Cu_2O$가 형성되었다. 마이크로파 조사시간과 글루코오스의 농도가 $Cu_2O$의 입자의 생성과 성장에 미치는 영향을 확인하였다. 마이크로파의 조사시간이 길어질수록 $Cu_2O$의 입자는 수 ${\mu}m$의 구형에서 40nm의 지름을 가진 나노 선으로 변함을 확인하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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